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센서의 감도를 높인 탄소나노튜브 압력센서

  • 기술번호 : KST2014053314
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 의한 증착 장치의 실시예의 일양태는, 원료 가스가 투입되는 반응 챔버가 구비되는 반응기; 상기 반응 챔버의 내부로 투입된 원료 가스가 증착되고, 상기 반응 챔버의 바닥면에 대하여 기설정된 각도로 경사지게 연장되는 2개의 제1실리콘 로드 및 상기 제1실리콘 로드의 상단에 그 양단이 각각 연결되는 1개의 제2실리콘 로드를 포함하는 실리콘 로드; 상기 제1실리콘 로드의 하단에 각각 연결되고, 상기 실리콘 로드로 전류를 전달하는 2개의 전극; 상기 제1실리콘 로드의 적어도 일부를 차폐하는 제1차폐 부재; 및 상기 제2실리콘 로드를 차폐하고, 상기 제1차폐 부재에 결합되는 제2차폐 부재; 를 포함한다. 따라서 본 발명에 의한 증착 장치의 실시예에서는, 실리콘 로드 전부가 차폐 부재에 의하여 차폐됨으로써, 상기 실리콘 로드의 일부가 상대적으로 온도가 증가되어 불균일하게 증착되는 현상이 방지된다.
Int. CL C23C 16/22 (2006.01) H01L 21/205 (2006.01) C23C 16/50 (2006.01) C23C 16/44 (2006.01)
CPC C23C 16/50(2013.01) C23C 16/50(2013.01) C23C 16/50(2013.01) C23C 16/50(2013.01) C23C 16/50(2013.01)
출원번호/일자 1020110041341 (2011.05.02)
출원인 (주)세미머티리얼즈
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2012-0123792 (2012.11.12) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.05.02)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 (주)세미머티리얼즈 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박성은 대한민국 서울특별시 마포구
2 유호정 대한민국 인천광역시 남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 인비전 특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길**, *층(대치동, 동산빌딩)

최종권리자

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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.05.02 수리 (Accepted) 1-1-2011-0323637-77
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.01.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.02.17 수리 (Accepted) 9-1-2012-0013362-77
4 [대리인사임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Resignation of Agent] Report on Agent (Representative)
2012.07.27 수리 (Accepted) 1-1-2012-0601356-20
5 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2012.08.03 수리 (Accepted) 1-1-2012-0621336-86
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.03.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0147685-90
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2013.05.06 수리 (Accepted) 1-1-2013-0398165-33
8 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2013.10.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0693499-11
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.05.29 수리 (Accepted) 4-1-2017-0028044-81
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.06.20 수리 (Accepted) 4-1-2017-5096345-85
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번호 청구항
1 1
반응기; 상기 반응기 내부에 구비되고, 원료 가스를 이용한 증착 공정이 이루어지는 반응 챔버;상기 반응 챔버의 내부로 투입된 원료 가스가 증착되고, 상기 반응 챔버의 바닥면에 대하여 기설정된 각도로 경사지게 연장되는 다수개의 제1실리콘 로드; 상기 반응 챔버의 내부로 투입된 원료 가스가 증착되고, 상기 제1실리콘 로드를 연결하는 다수개의 제2실리콘 로드; 상기 실리콘 로드에 전류를 공급하는 2개의 전극; 상기 제1실리콘 로드의 적어도 일부를 차폐하는 제1차폐 부재; 및 상기 제1차폐 부재에 결합되어 상기 제2실리콘 로드를 차폐하는 제2차폐 부재; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 증착 장치
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 제1 및 제2차폐 부재는, 석영 재질로 성형되는 것을 특징으로 하는 증착 장치
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 제1차폐 부재는, 상기 제1실리콘 로드에 비하여 상대적으로 짧은 길이를 가지는 중공의 튜브 형상으로 형성되고, 상기 제2차폐 부재는, 저면이 개구되는 ┏┓ 또는 ∩ 형상의 종단면을 가지는 다면체 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 증착 장치
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 제1차폐 부재는, 상기 제1실리콘 로드의 일부를 차폐하고, 상기 제2차폐 부재는, 상기 제1실리콘 로드의 나머지 및 상기 제2실리콘 로드를 차폐하는 것을 특징으로 하는 증착 장치
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 제1차폐 부재의 상단 및 상기 제2차폐 부재의 하단 중 어느 일방에는 결합홈이 형성되고, 상기 제1차폐 부재의 상단 및 상기 제2차폐 부재의 하단 중 나머지 일방에는 상기 결합홈에 삽입되는 결합 돌기가 형성되는 것을 특징으로 하는 증착 장치
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 제1 및 제2차폐 부재 중 어느 하나에는, 상기 제1 및 제2차폐 부재 중 나머지의 일부가 삽입되는 결합 채널이 형성되는 것을 특징으로 하는 증착 장치
7 7
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2차폐 부재에는, 상기 제1차폐 부재의 내부로 공급되는 원료 가스가 상기 반응 챔버의 내부로 배출되는 개구부가 형성되는 것을 특징으로 하는 증착 장치
8 8
원료 가스가 투입되는 반응 챔버가 구비되는 반응기; 상기 반응 챔버의 내부로 투입된 원료 가스가 증착되고, 일부가 수직 방향으로 연장되고 나머지가 수평 방향으로 연장되어 ┏┓형상으로 배치되는 실리콘 로드; 수직 방향으로 연장되는 상기 실리콘 로드의 일부의 하단에 각각 연결되고, 상기 실리콘 로드로 전류를 전달하는 2개의 전극; 및 상기 실리콘 로드를 차폐하고, 그 내부를 열교환 유체가 유동하는 차폐 부재; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 증착 장치
9 9
제 8 항에 있어서, 상기 차폐 부재는, 수직 방향으로 연장되는 상기 실리콘 로드의 일부를 차폐하고, 열교환 유체가 유동되는 제1유로가 구비되는 2개의 제1차폐 부재; 및 수평 방향으로 연장되는 상기 실리콘 로드의 나머지를 차폐하고, 열교환 유체가 유동되는 제2유로가 구비되는 1개의 제2차폐 부재; 를 포함하고, 상기 제2차폐 부재가 상기 제1차폐 부재의 상단에 결합되면, 상기 제1 및 제2유로가 서로 연통되는 것을 특징으로 하는 증착 장치
10 10
제 9 항에 있어서, 상기 제1 및 제2차폐 부재 중 어느 하나의 일부가, 상기 제1 및 제2차폐 부재 중 나머지 하나에 삽입되어 양자가 결합되는 것을 특징으로 하는 증착 장치
11 11
제 9 항에 있어서, 상기 제2차폐 부재에는, 상기 제1차폐 부재의 내부로 공급되는 원료 가스가 상기 반응 챔버의 내부로 배출되는 개구부가 형성되고, 상기 제2유로는, 상기 개구부를 제외한 상기 제2차폐 부재의 나머지 영역에 형성되는 것을 특징으로 하는 증착 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.