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습식 에칭 공정 후 기판 위에 잔존하는 산성 물을 제거하는 방법으로 (a) 습식 에칭 공정 후 린스(물에 처리)하는 첫번째 단계;(b) 상기 첫번째 단계 후 물이 상기 기판에 부착되어 있는 동안 반응 셀-2(8)에 넣고 이산화탄소 공급수단(1)에서 공급되고 압력공급수단(3)으로 조절된 액체 이산화탄소를 반응 셀-1(4)에 주입하여 린스액을 제조하는 단계;(c) 상기 두번째 단계 후 반응 셀-1(4)의 린스액을 반응 셀-2(8)로 흘려주어 반응 셀-2(8) 내에 있는 기판의 물을 완전히 제거하는 세번째 단계; 및 (d) 상기 세번째 단계 후 고압 건조 용기 내부의 온도를 높여 초임계이산화탄소 상태로 처리하여 잔유물을 제거시키는 네번째 단계를 적어도 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 건조 방법에 있어서,계면활성제는 내산성이고 이산화탄소에 용해성이 우수하며 물을 수화하는 능력이 우수한 하기 화학식 1로 표시되는 계면활성제인 것을 특징으로 하는 기판 건조 방법
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제2항에 있어서, 계면활성제는 분자량이 1,500 ~ 70,000 범위의 낮은 분자량으로 설계 및 제조되어 이산화탄소 내에 0
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제2항의 액체 이산화탄소와 계면활성제 혼합액을 이용하여 물을 완전히 제거한 후 온도를 높여 초임계이산화탄소 상태로 처리하여 잔유물을 제거시키는 공정에 있어서, 액체 이산화탄소 조건은 온도가 25 ~ 28℃이고, 압력이 1070 ~ 3000psi이며, 초임계이산화탄소 조건은 온도가 31 ~ 100℃이고, 압력이 1070 ~ 7250psi인 것을 특징으로 하는 기판 건조 방법
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제2항에 있어서, 계면활성제는 반응 셀-1(4) 내에서 압력공급수단(3)으로 적절한 압력으로 세팅된 이산화탄소에 포화시켜 반응 셀-2(8)로 계속 흘려주는 방식으로, 물을 제거하고 건조하는 동안 반응 셀-2(8)로 계면활성제를 일정량 공급하도록 하는 것을 특징으로 하는 기판 건조 방법
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제2항에 있어서, 기판은 웨이퍼, 알루미늄-알루미늄 산화막 기판, 갈륨 비소 기판, 세라믹 기판, 구리 기판 등을 포함하는 세정 방법에 이용되는 것을 특징으로 하는 기판 건조 방법
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제2항에 있어서 이산화탄소는 단독으로 사용될 수도 있고, 물이나 알코올, 산, 염기 등의 첨가제와 함께 이산화탄소 유체로 사용되는 세정 방법에 이용되는 것을 특징으로 하는 기판 건조 방법
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제7항에 있어서, 이산화탄소 유체는 첨가제와의 혼합액을 포함하여 사용하는 경우, 0
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제2항에서, 계면활성제는 이산화탄소 내에 0
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