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내부에 피처리 샘플이 수용되며 플라즈마가 형성되는 챔버;상기 챔버 내부를 진공 상태로 유지하기 위한 배기부;상기 챔버 내에 고정되며 양극과 음극이 서로 대향하여 설치되는 플라즈마 발생 전극;상기 챔버 외부에 설치되며 상기 플라즈마 발생 전극에 전원을 공급하는 가변 전원 공급기;상기 가변 전원 공급기와 상기 플라즈마 발생 전극 사이에 설치되며, 플라즈마 전극에 인가하는 전압과 전류를 조절하는 누설 전류형 변압기;를 포함하고,상기 가변 전원 공급기는 상기 누설 전류형 변압기에 인가되는 1차 전원을 표시하는 전류계 및 전압계를 포함하는 것을 특징으로 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치
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제 1항에 있어서,상기 플라즈마 발생 전극은 상기 피처리 샘플을 탑재할 수 있는 고정장치가 마련되는 것을 특징으로 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치
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제 1항에 있어서,상기 플라즈마 발생 전극은 상기 양극 또는 음극 중 어느 하나가 상기 챔버의 상부에 설치되고 나머지 하나가 상기 챔버의 하부에 설치되는 것을 특징으로 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치
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제 3항에 있어서,상기 챔버의 하부에 설치되는 전극에는 상기 피처리 샘플을 고정하기 위한 고정장치가 마련되는 것을 특징으로 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치
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제 1항에 있어서,상기 누설 전류형 변압기는 네온 변압기인 것을 특징으로 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치
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제 5항에 있어서,상기 양극 또는 음극 중 적어도 어느 하나가 복수로 형성되는 것을 특징으로 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치
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제 5항에 있어서,상기 네온 변압기는 복수 개가 병렬로 설치되는 것을 특징으로 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치
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제 5항에 있어서,상기 네온 변압기는 1~500V의 입력 전압과 1~25,000V의 출력 전압을 사용하는 것을 특징으로 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치
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제 5항에 있어서,상기 가변 전원 공급기는 상기 네온 변압기에 인가되는 전압 및 전류의 세기를 아날로그 또는 디지털 방식으로 조절할 수 있는 조광기(dimmer)를 포함하는 것을 특징으로 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치
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제 1항에 있어서,상기 플라즈마 처리장치는 상기 챔버 내에 설치되며 상기 챔버를 접지할 수 있는 접지 전극을 더 포함하는 것을 특징을 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치
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제 11항에 있어서,상기 접지 전극은 표면에 피처리 샘플을 탑재, 고정할 수 있는 고정장치가 마련되는 것을 특징으로 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치
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제 1항에 있어서,상기 플라즈마 처리 장치는 상기 피처리 샘플의 온도를 제어할 수 있는 온도 제어 장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치
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제 1항에 있어서,상기 배기부는 상기 챔버의 압력을 조절할 수 있도록 하나 이상의 압력 조절 밸브와, 로터리 펌프, 부스터 펌프, 드라이 펌프를 포함하는 저진공 펌프, 터보 분자 펌프, 확산 펌프, 크라이오 펌프를 포함하는 고진공 펌프 중 하나 이상의 진공 펌프를 포함하는 것을 특징으로 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치
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제 1항 내지 제9항, 제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,상기 양극과 음극 사이의 간격은 1㎜ 이상인 것을 특징으로 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리 장치
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제 1항 내지 제9항, 제11항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,상기 챔버 내부에는 상기 플라즈마 발생 전극에 의해 발생하는 플라즈마의 밀도와 세기를 조절하는 부전극이 추가로 설치되는 것을 특징으로 하는 누설 전류형 변압기를 이용한 플라즈마 처리장치
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