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대면적의 균질한 대전류의 다양한 이온빔을 생성 및 가속하는 대전류 대면적 이온빔 인출장치

  • 기술번호 : KST2014053889
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 대면적의 균질한 대전류의 다양한 이온빔을 생성 및 가속하는 대전류 대면적 이온빔 인출장치에 관한 것으로, 본 발명에 따르면, 대전류의 경우에 공간전하효과로 인해 요구하는 균질도를 얻기가 매우 어렵고, 전체의 장치가 대형화되어 운영에 있어 비효율적이며 고비용으로 인해 생산현장에 적합하지 못했던 종래기술의 문제점들을 해결하기 위해, 단일 이온원으로 다양한 원소의 이온들에 대하여 이온빔을 생성하여 장치를 간소화할 수 있는 동시에, 이온빔을 넓은 각도로 펼치도록 하여 넓은 면적에 균일하게 조사할 수 있는 빔 인출계통을 가지는 대전류 대면적 이온빔 인출장치가 제공된다.
Int. CL H01J 27/02 (2006.01) H01J 37/30 (2006.01)
CPC H01J 37/3171(2013.01) H01J 37/3171(2013.01) H01J 37/3171(2013.01) H01J 37/3171(2013.01) H01J 37/3171(2013.01) H01J 37/3171(2013.01) H01J 37/3171(2013.01)
출원번호/일자 1020100096067 (2010.10.01)
출원인 한국원자력연구원
등록번호/일자 10-1093714-0000 (2011.12.07)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20111219) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.10.01)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국원자력연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이재상 대한민국 대구광역시 수성구
2 이찬영 대한민국 대전광역시 서구
3 최병호 대한민국 서울특별시 서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이원희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국원자력연구원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.10.01 수리 (Accepted) 1-1-2010-0637220-38
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.07.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.08.18 수리 (Accepted) 9-1-2011-0069877-89
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.09.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0516855-31
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.10.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0802140-45
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.10.13 수리 (Accepted) 1-1-2011-0802139-09
7 등록결정서
Decision to grant
2011.11.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0712012-12
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.06.22 수리 (Accepted) 4-1-2012-5134067-95
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.09.16 수리 (Accepted) 4-1-2014-5109542-64
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
열을 가하여 열전자를 방출하는 필라멘트 열음극; 상기 열음극으로부터 방출된 열전자에 1차 방전을 통하여 전자의 개수를 증폭하는 부방전실; 상기 부방전실에서 1차 방전을 통하여 전자의 개수가 증폭된 상기 열전자에 2차 방전을 일으킴으로써 플라즈마를 형성하기 위해 수직 자기장이 인가되는 주방전실; 상기 수직 자기장을 인가하기 위한 플라즈마 형성용 자장계; 상기 주방전실로부터 생성된 이온빔을 방출하는 빔 인출계; 상기 빔 인출계로부터 인출되는 상기 이온빔을 가속하는 가속계; 를 포함하고, 상기 빔 인출계는, 곡선 형태의 인출전극계 및 상기 인출전극계에 형성되어 있는 적어도 하나 이상의 빔 인출공을 가지며, 각각의 상기 인출공은, 상기 이온 빔의 광축 방향을 중심으로 각도가 점점 벌어지도록 형성되는 이온빔 인출장치
2 2
삭제
3 3
제 1항에 있어서, 각각의 상기 인출공으로부터 방출되는 이온빔의 전류량과 공간적 분포를 조절하는 인출계 또는 등선량 표적계를 더 포함하는 이온빔 인출장치
4 4
제 1항에 있어서, 상기 주방전실은, 2개 이상의 기체 주입구가 형성된 원통형 양극을 포함하고, 각각의 상기 기체 주입구에 서로 다른 종류의 이온을 동시에 주입하는 이온빔 인출장치
5 5
제 1항에 있어서, 이온원에서 인출된 이온들에 추가적인 에너지를 부여하기 위해 상기 이온원에 직결되도록 설치되는 가속관을 더 포함하는 이온빔 인출장치
6 6
제 1항에 있어서, 상기 이온빔이 조사되는 처리 대상물은 롤 형태나 판 형태의 금속 또는 플라스틱이며, 상기 이온빔의 조사는 진공실 내에서 연속적으로 이루어지는 이온빔 인출장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
순번, 연구부처, 주관기관, 연구사업, 연구과제의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 국가R&D 연구정보 정보 표입니다.
순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부 한국원자력연구원 양성자기반공학기술개발사업 빔라인개발