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산소와 수분 투과의 차단 및 가스 배리어 특성 향상을 위한유/무기 복합 박막 보호층 및 그의 제조방법

  • 기술번호 : KST2014054003
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 기판 상에 구현된 유기 전자소자의 수분 및 산소 투과를 차단하고 플라스틱 기판(plastic substrate)의 가스 배리어 특성을 향상시키기 위한 유/무기 복합 박막 보호층 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 1) 기판 상의 유기 전자소자, 또는 플라스틱 기판의 전면 또는 전면과 후면 모두에 광경화성 고분자를 도포하는 단계; 2) 코팅된 광경화성 고분자를 자외선과 오존의 동시 조사(UV/O3) 조사로 경화시켜 유기 고분자 보호층을 형성하는 단계; 및 3) 형성된 유기 고분자 보호층 위에 두 가지 이상의 무기물이 혼합된 나노 복합물질을 증착하여 무기 박막 보호층을 형성하는 단계에 의해 제조되는, 기판 상에 구현된 유기 전자소자와 플라스틱 기판의 수분 및 산소 투과를 차단하고 가스 배리어 특성을 향상시키기 위한 유/무기 복합 박막 보호층 및 그의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 유/무기 복합 박막 보호층은 자외선과 오존의 동시 조사에 의한 경화방식을 이용하여 유기 고분자 보호층의 표면을 친수성화 시킴으로써 상부 보호막과의 접착력을 증가시킬 수 있고, 상기 고분자 표면의 평탄화를 유발하여 광투과율을 크게 향상시킬 수 있으며, 외부로부터의 산소와 수분의 투과를 효과적으로 차단하여 가스 배리어 특성을 향상시킬 수 있다는 장점을 갖는다.
Int. CL B82Y 30/00 (2011.01) H05B 33/00 (2011.01)
CPC
출원번호/일자 1020080016888 (2008.02.25)
출원인 한국과학기술연구원
등록번호/일자 10-0926030-0000 (2009.11.03)
공개번호/일자 10-2009-0091556 (2009.08.28) 문서열기
공고번호/일자 (20091111) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.02.25)
심사청구항수 28

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김재경 대한민국 서울 마포구
2 박정수 대한민국 서울 성동구
3 최준환 대한민국 서울 강남구
4 나대석 대한민국 대구 중구
5 임재현 대한민국 서울 도봉구
6 이주원 대한민국 서울 성동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 장수길 대한민국 서울특별시 종로구 사직로*길 **, 세양빌딩 (내자동) *층(김.장법률사무소)
2 백만기 대한민국 서울특별시 중구 정동길 **-**, **층 (정동, 정동빌딩)(김.장 법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국과학기술연구원 대한민국 서울특별시 성북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.02.25 수리 (Accepted) 1-1-2008-0137598-27
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2008.12.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2009.01.16 수리 (Accepted) 9-1-2009-0005425-29
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2009.04.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0184005-58
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2009.06.30 수리 (Accepted) 1-1-2009-0399980-78
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2009.06.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0399885-38
7 등록결정서
Decision to grant		 2009.10.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0439217-34
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2009-5247056-16
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.19 수리 (Accepted) 4-1-2014-5022002-69
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
1) 기판 상의 유기 전자소자, 또는 플라스틱 기판의 전면 또는 전면과 후면 모두에 광경화성 고분자를 도포하는 단계; 2) 코팅된 광경화성 고분자를 자외선과 오존의 동시 조사(UV/O3)로 경화시켜 유기 고분자 보호층을 형성하는 단계; 및 3) 형성된 유기 고분자 보호층 위에 두 가지 이상의 무기물이 혼합된 나노 복합물질을 증착하여 무기 박막 보호층을 형성하는 단계를 포함하는, 수분과 산소 투과를 차단하고 가스 배리어 특성을 향상시키기 위한 유/무기 복합 박막 보호층의 제조방법
2 2
제1항에 있어서, 단계 1)에서 광경화성 고분자가 에폭시계 수지(epoxy resin), 아크릴계 수지(acrlyate resin), 열경화성 폴리이미드(polyimide) 및 폴리에틸렌(polyethylene)으로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 유/무기 복합 박막 보호층의 제조방법
3 3
제1항에 있어서, 단계 1)에서 광경화성 고분자가 스핀 코팅법, 스크린 프린팅법, 바코팅법, 잉크젯법 또는 딥핑법에 의해 도포되는 것을 특징으로 하는 유/무기 복합 박막 보호층의 제조방법
4 4
제1항에 있어서, 단계 1)에서 광경화성 고분자가 0
5 5
제1항에 있어서, 단계 1)에서 유기 전자소자가 유연성 기판(flexible substrate) 또는 유리 기판(glass substrate)인 기판 상에 구현되는 것을 특징으로 하는 유/무기 복합 박막 보호층의 제조방법
6 6
제5항에 있어서, 상기 유연성 기판이 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리카보네이트(PC) 및 폴리에틸렌설폰(PES)으로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 유/무기 복합 박막 보호층의 제조방법
7 7
제1항에 있어서, 단계 1)에서 플라스틱 기판이 폴리에테르설폰, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트 및 폴리이미드로부터 선택되는 고분자 소재의 기판인 것을 특징으로 하는 유/무기 복합 박막 보호층의 제조방법
8 8
제1항에 있어서, 단계 2)에서 경화가 예비경화 → 자외선과 오존의 동시 조사 → 열경화로 이루어지는 것을 특징으로 하는 유/무기 복합 박막 보호층의 제조방법
9 9
제8항에 있어서, 상기 예비경화가 단계 1)에서 도포된 광경화성 고분자를 70 내지 90℃에서 2 내지 5분간 저온 처리하여 수행되는 것을 특징으로 하는 유/무기 복합 박막 보호층의 제조방법
10 10
제8항에 있어서, 상기 자외선과 오존의 동시 조사가 예비경화된 광경화성 고분자에 170 내지 200 ㎚의 광원 파장대에서 2400 내지 3000 mJ/㎠의 광원 에너지를 1 내지 7분간 조사하여 산소 분자를 원자 상태로 분해한 후 240 내지 270 ㎚의 광원 파장대에서 2400 내지 2700 mJ/㎠의 광원 에너지를 1 내지 7분간 조사하여 산소 원자로부터 오존을 생성시킴으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 유/무기 복합 박막 보호층의 제조방법
11 11
제8항에 있어서, 상기 열경화가 자외선과 오존이 동시 조사된 광경화성 고분자를 100 내지 120℃에서 1 내지 2시간 동안 고온 처리하여 수행되는 것을 특징으로 하는 유/무기 복합 박막 보호층의 제조방법
12 12
제1항에 있어서, 단계 3)에서 나노 복합물질이 금속 산화물, 비금속 산화물, 질화물 및 염 중에서 선택되는 두 가지 이상의 무기물의 혼합물인 것을 특징으로 하는 유/무기 복합 박막 보호층의 제조방법
13 13
제12항에 있어서, 상기 나노 복합물질이 알루미늄 산화물, 실리콘 산화물, 실리콘 질화물, 실리콘 산화질화물, 마그네슘 산화물, 인듐 산화물, 및 마그네슘 불화물로 구성된 군으로부터 선택되는 두 가지 이상의 무기물의 혼합물인 것을 특징으로 하는 유/무기 복합 박막 보호층의 제조방법
14 14
제1항에 있어서, 단계 3)에서 나노 복합물질이 전자선 증착기, 스퍼터(sputter), 물리적 기상 증착법(physical vapor deposition, PVD), 화학적 기상 증착법(chemiacl vapor deposition, CVD) 또는 원자층 증착법(atomic layer deposition, ALD)에 의해 증착되는 것을 특징으로 하는 유/무기 복합 박막 보호층의 제조방법
15 15
제1항에 있어서, 단계 3)에서 나노 복합물질이 0
16 16
제1항에 있어서, 상기 단계들을 반복적으로 수행하여 1쌍의 유기 고분자 보호층/무기 박막 보호층을 다층 적층구조로 형성하는 것으로 특징으로 하는 유/무기 복합 박막 보호층의 제조방법
17 17
제1항에 있어서, 단계 1) 및 단계 2) 전에 단계 3)을 먼저 수행하여 무기 박막 보호층을 형성한 후 그 위에 유기 고분자 보호층을 증착하는 것을 특징으로 하는 유/무기 복합 박막 보호층의 제조방법
18 18
제17항에 있어서, 상기 단계들을 반복적으로 수행하여 1쌍의 무기 박막 보호층/유기 고분자 보호층을 다층 적층구조로 형성하는 것으로 특징으로 하는 유/무기 복합 박막 보호층의 제조방법
19 19
광경화성 고분자를 자외선과 오존의 동시 조사로 경화시켜 형성되고 상기 경화에 의해 소수성 표면이 친수성으로 개질된 유기 고분자 보호층, 및 두 가지 이상의 무기물이 혼합된 나노 복합물질을 증착시켜 형성된 무기 박막 보호층을 포함하고, 상기 유기 고분자 보호층과 무기 박막 보호층이 상하 적층구조를 갖는, 유/무기 복합 박막 보호층
20 20
제19항에 있어서, 상기 유/무기 복합 박막 보호층이 1쌍의 유기 고분자 보호층과 무기 박막 보호층이 반복적으로 형성되어 다층 적층구조를 갖는 것을 특징으로 하는 유/무기 복합 박막 보호층
21 21
제19항에 있어서, 상기 유/무기 복합 박막 보호층이 유기 고분자 보호층 위에 무기 박막 보호층이 배열된 상하 적층구조, 또는 무기 박막 보호층 위에 유기 고분자 보호층이 배열된 상하 적층구조를 갖는 것을 특징으로 하는 유/무기 복합 박막 보호층
22 22
제19항에 있어서, 상기 광경화성 고분자가 에폭시계 수지(epoxy resin), 아크릴계 수지(acrlyate resin), 열경화성 폴리이미드(polyimide) 및 열경화성 폴리에틸렌(polyethylene)으로 구성된 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 유/무기 복합 박막 보호층
23 23
제19항에 있어서, 상기 유기 고분자 보호층이 0
24 24
제19항에 있어서, 상기 나노 복합물질이 알루미늄 산화물, 실리콘 산화물, 실리콘 질화물, 실리콘 산화질화물, 마그네슘 산화물, 인듐 산화물, 및 마그네슘 불화물로 구성된 군으로부터 선택되는 두 가지 이상의 무기물의 혼합물인 것을 특징으로 하는 유/무기 복합 박막 보호층
25 25
제19항에 있어서, 상기 무기 박막 보호층이 0
26 26
유연성 기판(flexible substrate), 유리 기판(glass substrate) 및 플라스틱 기판으로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상의 기판, 유기 전자소자, 및 제19항에 따른 유/무기 복합 박막 보호층을 포함하는 유기 전자소자
27 27
제26항에 있어서, 상기 기판이 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리카보네이트(PC), 폴리이미드 및 폴리에틸렌설폰(PES)으로 구성된 군으로부터 선택된 소재를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 전자소자
28 28
제26항에 있어서, 상기 유기 전자소자가 OLED, OTFT 및 태양 전지로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 유기 전자소자
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1 US07951726 US 미국 FAMILY
2 US08445898 US 미국 FAMILY
3 US20090215279 US 미국 FAMILY
4 US20110260147 US 미국 FAMILY

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2 US2011260147 US 미국 DOCDBFAMILY
3 US7951726 US 미국 DOCDBFAMILY
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