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(a) 투명 플라스틱 기판을 진공 가열장치에 장입하는 단계;(b) 상기 진공 가열장치 내에 존재하는 불순물 가스를 제거하고 진공 상태로 만들기 위하여 로터리 펌프를 작동시켜 1×10-2 Torr 보다 작거나 같은 압력이 될 때까지 배기하는 단계; (c) 상기 투명 플라스틱 기판의 연화점보다 낮은 온도에서 열처리하여 상기 투명 플라스틱 기판 내부에 존재하는 불순물 가스가 탈착되어 배출되게 하는 단계;(d) 상기 로터리 펌프의 작동을 중단하고 불순물 가스가 탈착된 투명 플라스틱 기판을 언로딩하는 단계; (e) 불순물 가스가 탈착된 상기 투명 플라스틱 기판을 스퍼터링 증착챔버에 장입하는 단계; (f) 상기 스퍼터링 증착챔버 내에 존재하는 불순물 가스를 제거하고 진공 상태로 만들기 위하여 로터리 펌프를 작동시켜 1×10-5 Torr 보다 작거나 같은 진공 상태로 될 때까지 배기하는 단계;(g) 스퍼터링 가스를 스퍼터링 증착챔버 내에 주입하여 상기 투명 플라스틱 기판의 연화점보다 낮은 온도에서 플라즈마를 형성시키는 단계; 및(h) 이온화된 스퍼터링 가스를 산화아연 타겟에 충돌시켜 타겟에서 떨어져 나온 성분이 상기 투명 플라스틱 기판 위에 200～300㎚ 두께의 박막으로 증착되게 하는 단계를 포함하며, 상기 (b) 단계에서, 상기 진공 가열장치를 배기하면서 상기 진공 가열장치의 내부 안정화를 위해 비활성 기체를 10～2000sccm의 유량으로 공급하여 상기 진공 가열장치의 가스 분위기가 비활성 기체 분위기를 띠게 하고, 상기 (c) 단계에서, 상기 진공 가열장치의 온도를 일정하게 유지하면서 열처리하고, 상기 열처리 동안에 상기 진공 가열장치 내의 압력을 1×10-2 Torr 보다 작거나 같은 압력으로 일정하게 유지하며, 상기 (d) 단계에서, 진공 가열장치의 내부 안정화를 위해 비활성 기체를 10～2000sccm의 유량으로 공급하여 진공 가열장치의 내부 안정화를 시킨 후에 불순물 가스가 탈착된 상기 투명 플라스틱 기판을 언로딩하는 것을 특징으로 하는 산화아연계 투명 도전필름의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 투명 플라스틱 기판은,폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리이써설폰, 폴리이미드, 폴리노보넨 또는 폴리올레핀계 고분자로 이루어진 고분자 필름인 것을 특징으로 하는 산화아연계 투명 도전필름의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 투명 플라스틱 기판은 투명한 하드코팅층이 코팅되어 있는 플라스틱 기판으로 이루어진 것을 특징으로 하는 산화아연계 투명 도전필름의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 산화아연은 3족 원소가 도핑되어 있고, 상기 3족 원소는 갈륨(Ga) 및 알루미늄(Al) 중에서 선택된 1종 이상의 물질로 이루어진 것을 특징으로 하는 산화아연계 투명 도전필름의 제조방법
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제1항에 기재된 산화아연계 투명 도전필름의 제조방법에 의해 제조되고 투명 플라스틱 기판 상부에 증착된 산화아연 박막의 두께가 200～300㎚인 산화아연계 투명 도전필름
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