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양자점 재료를 에어로졸화하는 단계; 및
상기 에어로졸화된 양자점 재료를 150m/s ~ 103m/s의 속도로 모재에 충돌시켜 상기 모재 상에 상기 양자점 재료가 증착된 양자점 나노그레뉼라 필름을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 양자점 나노그레뉼라 필름 형성방법
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제1항에 있어서,
상기 모재는 평면형 기판인 것을 특징으로 하는 양자점 나노그레뉼라 필름 형성방법
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3
제1항에 있어서,
상기 모재는 금속 나노입자가 코팅된 것을 특징으로 하는 양자점 나노그레뉼라 필름 형성방법
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제1항에 있어서,
상기 모재는 나노와이어가 코팅된 것을 특징으로 하는 양자점 나노그레뉼라 필름 형성방법
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5
제1항에 있어서,
상기 모재는 표면의 거칠기가 적어도 10nm 인 것을 특징으로 하는 양자점 나노그레뉼라 필름 형성방법
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6
제1항에 있어서,
상기 양자점 재료는 적어도 하나의 분말 소재를 포함하는 혼합물인 것을 특징으로 하는 양자점 나노그레뉼라 필름 형성방법
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7
제1항에 있어서,
상기 양자점 재료의 재질은 C, Si, Ze, Ag, GaN, GaAs, GaP, InP, InAs, ZnS, CdS, CdSe, ZnO, MgO, SiO2, CdO, SiC, B4C, Si3N, In2O3 중에서 적어도 어느 하나를 재질로 하는 것을 특징으로 하는 양자점 나노그레뉼라 필름 형성방법
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8
제1항에 있어서,
상기 양자점 재료의 재질은 밴드갭이 적어도 0
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제1항에 있어서,
상기 구조체를 형성하는 단계는 화학 반응을 위한 반응 가스를 도입하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 앙자점 나노그레뉼라 필름 형성방법
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제9항에 있어서,
상기 반응 가스는 캐리어 가스와 동시에 도입되는 것을 특징으로 하는 양자점 나노그레뉼라 필름 형성방법
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제1항에 있어서,
상기 구조체를 형성하는 단계는 상기 모재에 상기 양자점 재료를 포함하는 상기 에어로졸을 가늘고 긴 노즐을 통하여 충돌시키는 단계인 것을 특징으로 하는 앙자점 나노그레뉼라 필름 형성방법
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12
제1항에 있어서,
상기 양자점 재료의 재질은 밴드갭이 적어도 0
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제1항에 있어서,
상기 박막을 형성하는 단계는 상기 형성된 박막에 에너지를 가하여 상기 박막을 변형시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 양자점 나노그레뉼라 필름 형성방법
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