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과량의 산화납을 첨가하여 제작된 PZT계 후막의 제조방법

  • 기술번호 : KST2014054549
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 과량의 산화납을 첨가하여 제작된 PZT계 후막의 제조방법에 관한 것으로, 더욱 구체적으로는, 혼합 분말 제조 공정 중에 용융점이 낮은 원료 물질인 PbO를 과량으로 첨가하고 에어로졸 증착법을 이용하여 증착한 후 저온 성형하는 방법을 개발함으로써 기판과의 결합이 안정하여 기판으로부터 쉽게 분리되지 않고, 내부의 구조적 결함이 극복되어 균일한 입자로 형성된 전기적 성질이 우수한 고특성 PZT계 후막을 제조할 수 있다. PZT계 후막, 에어로졸 증착법, 과량의 산화납, PbO, 잔류 응력, 열처리, 고특성
Int. CL H01L 41/187 (2006.01) H01L 41/08 (2006.01)
CPC H01L 41/187(2013.01) H01L 41/187(2013.01) H01L 41/187(2013.01)
출원번호/일자 1020060128497 (2006.12.15)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-0805304-0000 (2008.02.13)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20080220) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.12.15)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최종진 대한민국 부산 동래구
2 박동수 대한민국 경남 창원시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이원희 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2006.12.15 수리 (Accepted) 1-1-2006-0929846-97
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2007.10.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2007.10.26 수리 (Accepted) 9-1-2007-0063991-18
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2007.10.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0587156-50
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2007.11.06 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2007-0795799-18
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2007.11.06 수리 (Accepted) 1-1-2007-0795801-23
7 등록결정서
Decision to grant
2008.01.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0057603-61
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069914-14
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069919-31
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
과량의 PbO를 첨가하여 PZT 및 Pb를 포함하는 복합체 세라믹스 분말을 제조하는 단계(단계 1); 상기 단계 1에서 제조된 분말을 상온에서 기판 위에 에어로졸 증착법을 이용하여 증착하는 단계(단계 2); 및상기 단계 2에서 증착된 성형체 세라믹스 막을 열처리하는 단계(단계 3)를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 PZT계 후막의 제조방법
2 2
제1항에 있어서, 상기 단계 1의 분말의 평균 입경은 0
3 3
제1항에 있어서, 상기 단계 1의 Pb를 포함하는 복합체 세라믹스 분말은 Pb1+x[(Zn1/3Nb2/3)y(ZrzTi1-z)1-y]O3 조성물인 것을 특징으로 하는 PZT계 후막의 제조방법
4 4
제3항에 있어서, 상기 조성물의 x는 0 내지 0
5 5
삭제
6 6
제1항에 있어서, 상기 에어로졸 증착법에 의한 증착 속도는 100 내지 500 m/s인 것을 특징으로 하는 PZT계 후막의 제조방법
7 7
제1항에 있어서, 상기 단계 2의 기판은 실리콘, 알루미나, 사파이어, 스테인레스 스티일로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 1종인 것을 특징으로 하는 PZT계 후막의 제조방법
8 8
제1항에 있어서, 상기 단계 3의 열처리 온도는 500 내지 900 ℃ 범위인 것을 특징으로 하는 PZT계 후막의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.