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플라즈마 처리를 하는 공간을 제공하는 플라즈마 챔버, 상기 플라즈마 챔버의 일측에 연결설치되어 플라즈마 챔버에 마이크로파를 제공하여 마이크로파 방전이 발생되도록 하는 마이크로파 공급부, 및 상기 플라즈마 챔버와 마이크로파 공급부 사이에 형성되어 마이크로파 공급부의 마이크로파가 투과되어 플라즈마 챔버로 제공되도록 하는 유전체 창을 포함하는 방전 플라즈마 처리장치에 있어서,상기 마이크로파 공급부는 마이크로파를 전파시키는 분산형 안테나; 상기 분산형 안테나의 하단에 유전체 창과 인접하도록 형성되어 안테나의 전파를 수신하는 분산형 안테나 소자; 및 상기 마이크로파 공급부의 내부에 충진된 절연유체를 포함하고,상기 플라즈마 챔버는 플라즈마 가스가 공급되는 플라즈마 가스 공급수단 및 활성가스가 공급되는 활성 가스 공급수단이 서로 독립적으로 구비되며, 상기 플라즈마 가스 공급수단 및 활성가스 공급수단은 상기 분산형 안테나 소자 및 상기 유전체 창이 위치하는 범위와 대응되게 형성되는 것을 특징으로 하며,상기 마이크로파 공급부는 그 일측에 공동형 도파관이 연결설치되고,상기 마이크로파 공급부의 내부와 공동형 도파관이 서로 격리되도록 마이크로파 공급부와 공동형 도파관 사이에 밀봉수단을 포함하는 방전 플라즈마 처리장치
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제1항에 있어서,상기 절연유체를 마이크로파 공급부로 순환시키기 위해 마이크로파 공급부 일측에 연결설치된 순환펌프를 더 포함하는 방전 플라즈마 처리장치
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제4항에 있어서,상기 순환펌프의 일측에 연결설치되어 순환되는 절연유체를 냉각시키는 냉각수단이 더 구비된 방전 플라즈마 처리장치
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제1항에 있어서,상기 절연유체는 절연유 또는 CFC(chloro fluoro carbon)인 방전 플라즈마 처리장치
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 가스 공급수단 및 활성 가스 공급수단은 분산형 안테나 소자에 인접하도록 길이방향으로 확장된 것을 포함하는 방전 플라즈마 처리장치
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 가스 공급수단 및 활성 가스 공급수단과 인접하게 격리판이 구비된 방전 플라즈마 처리장치
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제15항에 있어서,상기 격리판은 금속 또는 유전체인 것을 특징으로 하는 방전 플라즈마 처리장치
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제15항에 있어서,상기 격리판이 플라즈마 가스 공급수단 및 활성 가스 공급수단 사이에 구비된 방전 플라즈마 처리장치
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제1항에 따른 방전 플라즈마 처리장치를 이용한 플라즈마 처리방법
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