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기판위에 제1 박막 및 제2 박막을 순차적으로 형성하는 단계; 상기 제2 박막을 패터닝하여 단차완충패턴을 형성하는 단계; 및상기 제1 박막을 패터닝하여 상기 단차완충패턴에 의해 덮혀지고, 상기 제1 박막을 선택적으로 과식각하여 상기 단차완충패턴의 선폭보다 작은 선폭을 갖는 하부 박막패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막패턴 어레이의 제조방법
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제 6 항에 있어서, 상기 단차완충패턴을 형성하는 단계는 포토리소그라피 공정에 의해 상기 제2 박막위에 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계; 상기 포토레지스트 패턴을 마스크로 이용하여 상기 제2 박막에서 상기 포토레지스트 패턴과 비중첩되는 부분을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막패턴 어레이의 제조방법
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제 6 항에 있어서, 상기 단차완충패턴 위에 절연층을 형성하는 단계; 상기 절연층 위에 위치하며 상기 하부 박막패턴과 전기적으로 분리되는 상부 박막패턴을 형성하는 단계를 더 포함하는 박막패턴 어레이의 제조방법
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제 6 항에 있어서, 상기 단차완충패턴 위에 위치하며 상기 하부 박막패턴과 전기적으로 연결되는 상부 박막패턴을 형성하는 단계를 더 포함하는 박막패턴 어레이의 제조방법
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제 6 항에 있어서, 상기 단차완충패턴은 상기 하부 박막패턴과 중첩되는 수평부, 상기 수평부와 연결되며 상기 하부 박막 패턴의 바깥쪽으로 신장된 경사부, 및 상기 경사부와 연결되며 상기 기판과 접촉되는 엣지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막패턴 어레이의 제조방법
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기판위에 제1 박막 및 제2 박막을 순차적으로 형성하는 단계와, 상기 제2 박막을 패터닝하여 단차완충패턴을 형성하는 단계와, 상기 제1 박막을 패터닝하여 상기 단차완충패턴에 의해 덮혀지고, 상기 제1 박막을 선택적으로 과식각하여 상기 단차완충패턴의 선폭보다 작은 선폭을 갖는 하부 박막패턴을 형성하는 단계를 포함하는 박막패턴 어레이의 제조방법에 의해 제조된 박막패턴 어레이
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