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하기 화학식 1로 표시되는 아실 인듐(acyl indium) 유도체:[화학식 1]상기 화학식 1에서,R1 내지 R2는 서로 독립적으로 수소, (C1-C10)알킬, 할로(C1-C10)알킬, (C1-C10)알콕시, (C3-C30)시클로알킬 또는 (C6-C20)아릴이고; X는 할로겐이며;M은 Li, Na 또는 K이다
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제 1항에 있어서,상기R1 내지 R2는 서로 독립적으로 수소, (C1-C6)알킬, (C6-C12)아릴 또는 (C1-C6)알콕시이고;X는 할로겐이며;M은 Li 또는 K인 것을 특징으로 하는 아실 인듐(acyl indium) 유도체
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제 1항에 있어서,상기R1 내지 R2는 서로 독립적으로 수소, 메틸, 에틸, n-프로필, i-프로필, n-부틸, i-부틸, t-부틸, 페닐, 바이페닐, 나프틸, 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, i-프로폭시, n-부톡시, i-부톡시 또는 t-부톡시 이고;X는 플루오로, 클로로, 브로모, 아이오도이며;M은 Li 또는 K인 것을 특징으로 하는 아실 인듐(acyl indium) 유도체
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제 1항에 있어서,상기 아실 인듐(acyl indium) 유도체는 하기 화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 아실 인듐(acyl indium) 유도체
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할라이드 금속염(MX) 존재 하에 1,2-다이할로에탄, 하기 화학식 2로 표시되는 트리메틸실릴 유도체 및 하기 화학식 3으로 표시되는 벤조일 유도체와 인듐(Indium; In)을 반응시키는 것을 특징으로 하는 하기 화학식 1로 표시되는 아실 인듐(acyl indium) 유도체의 제조방법: [화학식 1][화학식 2][화학식 3]상기 화학식에서, X는 할로겐이고;M은 Li, Na 또는 K이며;R1 내지 R2는 서로 독립적으로 수소, (C1-C10)알킬, 할로(C1-C10)알킬, (C1-C10)알콕시, (C3-C30)시클로알킬 또는 (C6-C20)아릴이다
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제 5항에 있어서,상기 아실 인듐(acyl indium) 유도체의 제조는 N-메틸피롤리디논(NMP), 테트라하이드로퓨란(THF), 톨루엔, 다이메틸폼아마이드(DMF), 다이메틸셜폭사이드(DMSO) 또는 이들의 혼합용매 하에서 수행되는 것을 특징으로 하는 아실 인듐(acyl indium) 유도체의 제조방법
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제 5항에 있어서,상기 인듐, 1,2-다이할로에탄 및 트리메틸실릴유도체 화합물은 1 : 0
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제 1항 내지 제 4항에서 선택되는 어느 항의 아실 인듐(acyl indium) 유도체와 하기 화학식 4 또는 5의 화합물과의 반응을 통하여 하기 화학식 6 또는 7의 케톤 유도체를 제조하는 것을 특징으로 하는 케톤 유도체의 제조방법:[화학식 4][화학식 5][화학식 6][화학식 7]상기 화학식에서, R1 내지 R2는 서로 독립적으로 수소, (C1-C10)알킬, 할로(C1-C10)알킬, (C1-C10)알콕시, (C3-C30)시클로알킬 또는 (C6-C20)아릴이고; R3 내지 R4는 서로 독립적으로 수소, (C1-C10)알킬, (C2-C10)알케닐, 할로(C1-C10)알킬, (C1-C10)알콕시, (C2-C10)알킬카보닐, (C2-C10)알콕시카보닐, (C3-C30)시클로알킬, (C6-C30)아릴, (C1-C10)알킬(C6-C30)아릴, (C6-C30)아릴(C1-C10)알킬, 시아노, 니트로, 알데하이드 또는 히드록시이고;상기 R3과 R4는 서로 결합하여 융합고리를 형성할 수 있으며;n은 1 내지 2의 정수이며;n이 1일때 A는 할로겐 또는 트리플루오로메탄설포네이트이고;n이 2일때 A는 -C(=O)X11이며;M은 Li, Na 또는 K이고;X11은 할로겐이다
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제 8항에 있어서,상기 케톤 유도체의 제조는 팔라듐 촉매 하에 0 내지 35℃에서 수행하는 것을 특징으로 하는 케톤 유도체의 제조방법
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제 9항에 있어서,상기 팔라듐 촉매는 팔라듐 아세테이트[Pd(OAc)2], 비스트리페닐포스핀 팔라듐 다이클로라이드[(PPh3)2PdCl2], 비스다이벤질리딘아세톤 팔라듐[Pd2(dba)3], 테트라키스 트리페닐포스핀 팔라듐[(PPh3)4Pd], 팔라듐 다이클로라드[PdCl2], 다이클로로 벤조나이트릴 팔라듐[(C6H5CN)2PdCl2], 팔라듐 브로마이드[PdBr2] 또는 아릴 팔라듐 클로라이드다이머[C6H10Cl2Pd2]인 것을 특징으로 하는 케톤 유도체의 제조방법
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제 9항에 있어서,상기 팔라듐 촉매는 상기 화학식 4 또는 5의 화합물에 대하여 0
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제 8항에 있어서,상기 아실 인듐(acyl indium) 유도체는 상기 화학식 4 또는 5의 화합물에 대하여 1 내지 3당량 사용하는 것을 특징으로 하는 케톤 유도체의 제조방법
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제 8항에 있어서,상기 케톤 유도체의 제조는 N-메틸피롤리디논(NMP), 테트라하이드로퓨란(THF), 톨루엔, 다이메틸폼아마이드(DMF), 다이메틸셜폭사이드(DMSO) 또는 이들의 혼합용매 하에서 수행되는 것을 특징으로 하는 케톤 유도체의 제조방법
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제 8항에 있어서,상기 화학식 6 또는 7의 케톤 유도체는 하기 화합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 케톤 유도체의 제조방법
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