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플라즈마 화학기상법에 의해 광촉매 박막이 코팅된 고분자 비드를 제조하는 방법 및 이를 이용한 수질오염물질의 제거방법

  • 기술번호 : KST2014055294
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 광촉매 박막이 코팅된 고분자 비드를 제조하는 방법으로서, 상기 광촉매 박막은 플라즈마 화학기상법에 의해 상기 고분자 비드에 코팅되는 것을 특징으로 하는 광촉매 박막이 코팅된 고분자 비드의 제조방법으로, 본 발명에 의하면, 광촉매 박막이 균일하게 코팅된 고분자 비드가 수표면에 위치하여 태양광을 최대한 흡수하여 광분해 반응에 의한 수질오염물질의 제거를 효율적으로 할 수 있다.
Int. CL C23C 16/505 (2006.01) C23C 16/18 (2006.01)
CPC C23C 16/18(2013.01) C23C 16/18(2013.01) C23C 16/18(2013.01) C23C 16/18(2013.01) C23C 16/18(2013.01)
출원번호/일자 1020100018011 (2010.02.26)
출원인 강원대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1205341-0000 (2012.11.21)
공개번호/일자 10-2011-0098407 (2011.09.01) 문서열기
공고번호/일자 (20121128) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.02.26)
심사청구항수 1

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 강원대학교산학협력단 대한민국 강원도 춘천시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김교선 대한민국 강원도 춘천시 행촌로 **,
2 김동주 대한민국 강원도 춘천시 지석로 **,
3 흥크엉팜 베트남 강원도 춘천시 강원대학길 *

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인태동 대한민국 서울특별시 구로구 가마산로 ***, ***호(구로동, 대림오피스밸리)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 강원대학교산학협력단 강원도 춘천시
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.02.26 수리 (Accepted) 1-1-2010-0129209-19
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.02.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.03.14 수리 (Accepted) 9-1-2011-0021186-35
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.04.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5075634-10
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.11.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0667892-17
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2011.12.13 수리 (Accepted) 4-1-2011-5249875-98
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.01.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0035329-21
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.01.13 수리 (Accepted) 1-1-2012-0035328-86
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.03.08 수리 (Accepted) 4-1-2012-5049179-27
10 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2012.05.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0285665-45
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.07.16 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2012-0564495-55
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.07.16 수리 (Accepted) 1-1-2012-0564494-10
13 등록결정서
Decision to grant
2012.11.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0695883-42
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.11.05 수리 (Accepted) 4-1-2019-5230938-29
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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광촉매 박막이 코팅된 고분자 비드를 수중에 투입하여 수질오염물질을 제거하는 방법으로서,상기 광촉매 박막이 코팅된 고분자 비드는 직경이 3mm인 폴리프로필렌 입자를 회전식 플라즈마 화학기상 증착 반응기에 주입시키고, 상기 회전식 플라즈마 화학기상 증착 반응기를 10 ~ 20rpm의 속도로 회전시키며, 산소가스와 질소가스를 각각 30sccm의 유량으로, TTIP를 2 ~ 5 mg/min의 공급농도로 공급하고, 반응기 내의 공정 압력을 0
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지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.