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CaHPO4 및 Zn2TiO4를 제조하는 단계(단계 1);상기 단계 1에서 제조된 Zn2TiO4 50 - 65 중량%, CaHPO4 15- 20 중량%와 SiO2 8 - 12 중량%, 및 B2O3 12 - 18 중량%를 혼합하는 단계(단계 2);상기 단계 2에서 제조된 혼합분말을 대기 분위기에서 소결하고 자연 냉각시킨 후 분쇄하여 고화 매질을 제조하는 단계(단계 3); 및상기 단계 3에서 제조된 고화 매질 60 - 90 중량%와 방사성 희토류 산화물 10 - 40 중량%를 혼합한 후 대기 분위기에서 소결하여 세라믹 고화체를 제조하는 단계(단계 4)를 포함하는 1000 ℃이하의 저온에서 제조되는 방사성 희토류 산화물이 함유된 세라믹 고화체의 제조방법
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CaHPO4 및 Zn2TiO4를 제조하는 단계(단계 A);상기 단계 A에서 제조된 Zn2TiO4 및 CaHPO4에 SiO2, 및 H3BO3를 혼합하되, 그 성분비는 Zn2TiO4 50 - 65 중량%, CaHPO4 15 - 20 중량%와 SiO2 8 - 12 중량%, 및 B2O3 12 - 18 중량%로 이루어진 조성물을 기준으로 B2O3 대신에 H3BO3를 2 배의 중량으로 사용할 경우 결정되는 성분비로 하여 혼합하는 단계(단계 B);상기 단계 B에서 제조된 혼합분말을 대기 분위기에서 소결하고 자연 냉각시킨 후 분쇄하여 고화 매질을 제조하는 단계(단계 C); 및상기 단계 C에서 제조된 고화 매질 60 - 90 중량%와 방사성 희토류 산화물 10 - 40 중량%를 혼합한 후 대기 분위기에서 소결하여 세라믹 고화체를 제조하는 단계(단계 D)를 포함하는 1000 ℃이하의 저온에서 제조되는 방사성 희토류 산화물이 함유된 세라믹 고화체의 제조방법
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3 |
3
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 단계 1 또는 단계 A의 Zn2TiO4 제조를 위한 소결은 800 - 900 ℃에서 2 - 6 시간 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 방사성 희토류 산화물이 함유된 세라믹 고화체의 제조방법
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4 |
4
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 단계 2 또는 단계 B의 혼합은 건식 또는 습식 혼합인 것을 특징으로 하는 방사성 희토류 산화물이 함유된 세라믹 고화체의 제조방법
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5 |
5
제4항에 있어서, 상기 습식 혼합은 메탄올 또는 에탄올을 첨가하여 교반한 후 건조시키는 것을 특징으로 하는 방사성 희토류 산화물이 함유된 세라믹 고화체의 제조방법
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6 |
6
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 단계 3 또는 단계 C의 소결은 5 - 15 ℃/분의 승온속도로 700 - 900 ℃에서 2 - 5 시간 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 방사성 희토류 산화물이 함유된 세라믹 고화체의 제조방법
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7 |
7
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 단계 3 또는 단계 C의 분쇄는 10 - 60 ㎛가 되도록 롤밀, 햄머밀 및 디스크밀 중 어느 하나의 방법으로 수행하는 것을 특징으로 하는 방사성 희토류 산화물이 함유된 세라믹 고화체의 제조방법
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8
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 단계 4 또는 단계 D의 소결은 5 - 15 ℃/분의 승온속도로 800 - 1000 ℃에서 3 - 5 시간 동안 수행하는 것을 특징으로 하는 방사성 희토류 산화물이 함유된 세라믹 고화체의 제조방법
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제1항 또는 제2항의 제조방법으로 제조된, 고화 매질 60 - 90 중량%와 방사성 희토류 산화물 10 - 40 중량%를 포함하는 방사성 희토류 산화물이 함유된 세라믹 고화체
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