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(a) 메조세공 무기 구체(mesoporous inorganicsphere)에 자성입자 형성을 위한 전구체를 로딩(loading)하는 단계;(b) 상기 전구체가 로딩된 메조세공 무기 구체를 환원 분위기 하에서 가열한 후 탄소원 가스를 이용한 화학기상증착(chemical vapor deposition; CVD) 에 의하여 카본을 증착함으로써 자성 입자 코어/카본 쉘 나노입자가 혼입된 자성 무기 복합체를 형성하는 단계; 및,(c) 상기 자성 무기 복합체에 산 촉매를 로딩하는 단계를 포함하는, 자성 무기 복합체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 자성 입자는 철, 망간, 크롬, 코발트, 니켈, 구리, 아연, 사마륨, 가돌리늄, 네오디뮴, 유로퓸, 바륨, 백금, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택되는 것을 포함하는 금속, 합금, 산화물, 인화물, 또는 황화물을 포함하는 것인, 자성 무기 복합체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 증착된 카본은 탄소나노튜브, 흑연, 그래핀, 활성탄, 또는 카본블랙을 포함하는 것인, 자성 무기 복합체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 메조세공 무기 구체는 메조세공 실리카 구체 또는 메조세공 티타니아 구체를 포함하는 것인, 자성 무기 복합체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 메조세공 무기 구체에 상기 자성입자 형성을 위한 전구체를 로딩하는 것은 상기 전구체를 함유하는 용액에 상기 메조세공 무기 구체를 함침(impregnation)시키는 것을 포함하는 것인, 자성 무기 복합체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 자성 입자 코어/카본 쉘 나노입자가 상기 무기 구체에 형성되어 있는 메조세공에 혼입되어 있는 것인, 자성 무기 복합체의 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 무기 구체의 평균 직경은 20 nm 내지 1,000 nm인, 자성 무기 복합체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 자성입자의 크기는 1 nm 내지 100 nm 인, 자성 무기 복합체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 자성입자는 Fe/Co 복합 나노입자를 포함하는 것인, 자성 무기 복합체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 환원 분위기는 수소 기체, 아르곤 기체, 헬륨 기체, 질소 기체, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택되는 가스를 포함하는 것인, 자성 무기 복합체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 탄소원 가스는 메탄 기체, 에틸렌 기체, 에탄올 기체, 아세틸렌 기체, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택되는 가스를 포함하는 것인, 자성 무기 복합체의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 단계 (b)에서 상기 가열 온도는 500℃ 내지 1,000℃인, 자성 무기 복합체의 제조 방법
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제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 따른 방법에 의하여 제조되고, 자성 입자 코어/카본 쉘 나노입자가 혼입된 자성 무기 복합체로서, 상기 자성 무기 복합체에 산 촉매가 로딩되어 있는 것인, 자성 무기 복합체
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제 13 항에 있어서,상기 산 촉매는 인 몰리브덴산, 규소 몰리브덴산, 규소 텅스텐 몰리브덴산, 인 텅스텐산, 규소 텅스텐산 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택되는 것을 포함하는 것인, 자성 무기 복합체
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제 13 항에 있어서,상기 산 촉매는 프로파길화(propargylation) 반응용 촉매로서 사용되는 것인, 자성 무기 복합체
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제 13 항에 있어서,상기 자성 무기 복합체는 자석에 의하여 분리되어 재사용될 수 있는 것인, 자성 무기 복합체
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