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카테콜, 도파(DOPA, 3,4-dihydroxyphenylalanine), 도파민, N-아세틸도파민, NBAD(N-β-alanyldopamine), 메틸-카테콜, 니트로-도파, 카테킨, 탄닌산, 페룰산, 노르디히드로구아이아레트산, 하이드록시도파민, 하이드록시피론, 미모신, 하이드록시피리딘, 니트로-도파민, 하이드록시도파, 토파(TOPA, 2,4,5-trihydroxyphenylalanine), 및 폴리페놀로 이루어진 군으로부터 선택된 화합물을 포함하며, 상기 화합물은 자기조립단분자층을 형성하고,상기 자기조립단분자층은 Al3+ 또는 Fe3+를 처리함으로써 표면에서 제거되는 것인, 표면 처리용 조성물
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제1항에 있어서, 상기 화합물에 PEO(polyethylene oxide), PTFE(polytetrafluoroethylene), PMMA(polymethyl methacrylate) 및 PS(polystyrene)로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 기능성 물질이 결합된 것인, 표면 처리용 조성물
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제1항에 있어서, 상기 표면은 금속 또는 금속산화물의 표면인 것인 표면 처리용 조성물
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제1항에 있어서, 상기 표면은 티타늄, 알루미늄, 철, 규소, 구리, 주석, 납, 금 및 아연으로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 금속, 또는이산화규소, 이산화타이타늄, 산화알루미늄, 산화철, 산화구리, 산화주석, 산화아연, 및 산화납으로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 금속산화물인 것인 표면 처리용 조성물
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제1항에 있어서, 상기 자기조립단분자층은 표면과 카테콜, 도파(DOPA, 3,4-dihydroxyphenylalanine), 도파민, N-아세틸도파민, NBAD(N-β-alanyldopamine), 메틸-카테콜, 니트로-도파, 카테킨, 탄닌산, 페룰산, 노르디히드로구아이아레트산, 하이드록시도파민, 하이드록시피론, 미모신, 하이드록시피리딘, 니트로-도파민, 하이드록시도파, 토파(TOPA, 2,4,5-trihydroxyphenylalanine), 및 폴리페놀로 이루어진 군으로부터 선택된 화합물의 배위결합을 통해 형성되는 것인 표면 처리용 조성물
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제1항에 있어서, 상기 자기조립단분자층의 두께는 10 내지 100nm인 것인 표면 처리용 조성물
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카테콜, 도파(DOPA, 3,4-dihydroxyphenylalanine), 도파민, N-아세틸도파민, NBAD(N-β-alanyldopamine), 메틸-카테콜, 니트로-도파, 카테킨, 탄닌산, 페룰산, 노르디히드로구아이아레트산, 하이드록시도파민, 하이드록시피론, 미모신, 하이드록시피리딘, 니트로-도파민, 하이드록시도파, 토파(TOPA, 2,4,5-trihydroxyphenylalanine), 및 폴리페놀로 이루어진 군으로부터 선택된 화합물을 포함하는 표면 처리용 조성물을 기재 표면에 처리하여 자기조립단분자층을 형성하는 단계; 및상기 자기조립단분자층을 형성하는 단계 후에, Al3+ 또는 Fe3+를 처리하여 자기조립단분자층를 제거하는 단계를 포함하는 표면 처리 방법
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제9항에 있어서, 상기 자기조립 단분자층을 형성하는 단계 전에, 카테콜, 도파(DOPA, 3,4-dihydroxyphenylalanine), 도파민, N-아세틸도파민, NBAD(N-β-alanyldopamine), 메틸-카테콜, 니트로-도파, 카테킨, 탄닌산, 페룰산, 노르디히드로구아이아레트산, 하이드록시도파민, 하이드록시피론, 미모신, 하이드록시피리딘, 니트로-도파민, 하이드록시도파, 토파(TOPA, 2,4,5-trihydroxyphenylalanine), 및 폴리페놀로 이루어진 군으로부터 선택된 화합물에, PEO(polyethylene oxide), PTFE(polytetrafluoroethylene), PMMA(polymethyl methacrylate) 및 PS(polystyrene)로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 기능성 물질이 결합하는 단계를 더 포함하는, 표면 처리 방법
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제10항에 있어서, 상기 화합물에 기능성 물질이 결합하는 단계는, 상기 화합물에 보호기를 도입하고, 보호기가 결합된 화합물의 말단에 기능성 물질을 결합시키고, 상기 보호기를 제거하는 단계를 포함하는 것인, 표면 처리 방법
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제9항에 있어서, 상기 표면은 금속 또는 금속산화물의 표면인 것인 표면 처리 방법
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제9항에 있어서, 상기 표면은 티타늄, 알루미늄, 철, 규소, 구리, 주석, 납, 금 및 아연으로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 금속, 또는이산화규소, 이산화타이타늄, 산화알루미늄, 산화철, 산화구리, 산화주석, 산화아연, 및 산화납으로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택되는 금속산화물의 표면인 것인 표면 처리 방법
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제9항에 있어서, 상기 자기조립단분자층을 제거하는 단계 후에, 상기 표면 처리용 조성물을 기재 표면에 다시 처리하여 자기조립단분자층을 재형성하는 단계를 포함하는 표면 처리방법
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