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기판;상기 기판에 접촉하고, 환원된 산화 그라핀 콜로이드를 포함하는 작동 유체;상기 기판 표면을 비등시킴으로써 기판 표면과 평행하게 배열되어 쌓이는 베이스 그라핀 다층 구조층; 및상기 베이스 그라핀 다층 구조층의 상부에 형성되고, 비등에 의한 기포들의 결합현상으로 생성되는 자가 형성 3차원 그라핀 네트워크 구조층;을 포함하고,상기 베이스 그라핀 다층 구조층은 비등 표면 온도를 고르게 만들고, 핵 비등 열전달이 임계열유속에 다다르면, 열전달 모드가 핵비등에서 막비등으로의 천이를 차단하는 것을 특징으로 하는 핵 비등 열전달을 사용하는 열전달 시스템
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제 1 항에 있어서,상기 기판은 실리콘, 투명 전도도 산화물 글라스(TCO), 금속, 기본 유리, 신축성 폴리머 중 어느 하나 인 것을 특징으로 하는 핵 비등 열전달을 사용하는 열전달 시스템
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제 1 항에 있어서,상기 작동 유체는 환원된 산화 그라핀의 비율이 0
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제 1 항에 있어서,상기 베이스 그라핀 다층 구조층 형성은 열유속 100kW/m2 내지 400kW/m2 조건에서 형성되는 것을 특징으로 하는 핵 비등 열전달을 사용하는 열전달 시스템
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제 1 항에 있어서,상기 베이스 그라핀 다층 구조층은 환원된 산화 그라핀 조각들이 삼중점의 움직임에 의해서 상기 기판 표면에 형성되는 것을 특징으로 하는 핵 비등 열전달을 사용하는 열전달 시스템
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제 1 항에 있어서,상기 자가 형성 3차원 그라핀 네트워크 구조층은 1μm 내지 10μm의 기공을 갖는 다공성 구조인 것을 특징으로 하는 핵 비등 열전달을 사용하는 열전달 시스템
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제 1 항에 있어서,상기 베이스 그라핀 다층 구조층과 자가 형성 3차원 그라핀 네트워크 구조층은 비등시 액체와 기체사이에 형성되는 계면에서 표면장력에 의해 배열되는 것을 특징으로 하는 핵 비등 열전달을 사용하는 열전달 시스템
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제 7 항에 있어서,상기 베이스 그라핀 다층 구조층과 자가 형성 3차원 그라핀 네트워크 구조층은 비등이 일어남에 따라 버블 다이나믹에 의해 그라핀 3차원 구조가 형성되는 것을 특징으로 하는 핵 비등 열전달을 사용하는 열전달 시스템
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