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음이온성 고분자가 표면처리된 세라믹 입자 및 표면처리방법

  • 기술번호 : KST2014055911
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 일 측면에 따르면, 세라믹 입자의 표면 특성 제어를 위해, 세라믹 입자의 표면에 음이온성 고분자를 표면처리 하도록 하는 음이온성 고분자가 표면처리된 세라믹 입자 및 표면처리방법이 제공된다.
Int. CL C04B 35/628 (2006.01) C04B 41/83 (2006.01)
CPC C04B 35/628(2013.01) C04B 35/628(2013.01) C04B 35/628(2013.01)
출원번호/일자 1020110144449 (2011.12.28)
출원인 전자부품연구원
등록번호/일자 10-1328495-0000 (2013.11.06)
공개번호/일자 10-2013-0076045 (2013.07.08) 문서열기
공고번호/일자 (20131113) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.12.28)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 임호선 대한민국 서울특별시 중랑구
2 이우성 대한민국 경기도 성남시 분당구
3 박성대 대한민국 서울특별시 송파구
4 유명재 대한민국 서울특별시 광진구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남충우 대한민국 서울 강남구 언주로 ***, *층(역삼동, 광진빌딩)(알렉스국제특허법률사무소)
2 노철호 대한민국 경기도 성남시 분당구 판교역로 ***, 에스동 ***호(삼평동,에이치스퀘어)(특허법인도담)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자기술연구원 경기도 성남시 분당구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.12.28 수리 (Accepted) 1-1-2011-1043573-87
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.11.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.12.17 수리 (Accepted) 9-1-2012-0093201-99
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.03.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0166839-14
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.04.17 수리 (Accepted) 4-1-2013-0013766-37
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2013.05.13 수리 (Accepted) 1-1-2013-0417047-45
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2013.06.12 수리 (Accepted) 1-1-2013-0521063-38
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.07.08 수리 (Accepted) 1-1-2013-0610808-12
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.07.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0610815-21
10 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2013.09.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0623192-25
11 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2013.10.07 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2013-0905305-99
12 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.10.07 수리 (Accepted) 1-1-2013-0905277-08
13 등록결정서
Decision to Grant Registration
2013.11.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0759089-20
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.08.24 수리 (Accepted) 4-1-2020-5189497-57
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
음이온성 고분자로 표면처리된 세라믹 입자이고, 상기 세라믹 입자는 표면의 전하밀도가 pH 4 이상이 되면 양의 값에서 음의 값으로 변화하는 질화붕소, 알루미나, 질화알루미늄, 산화티타늄, 산화마그네슘 및 산화베릴륨 중 어느 하나로 상기 세라믹 입자의 표면에 2가 염화철 및 3가 염화철을 포함하는 자성 전구체가 코팅되는 세라믹 입자
2 2
삭제
3 3
청구항 1에 있어서,상기 이온성 고분자는 음이온성 고분자로, 폴리아크릴산(poly acrylic acid), 폴리소디움 스티렌 술포네이트(poly sodium 4-styrene sulfonate), 폴리비닐술포닉산(poly vinylsulfonic acid), 폴리소디움염(poly sodium salt), 폴리아미노산 (poly amino acids) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 이온성 고분자가 표면처리된 세라믹 입자
4 4
삭제
5 5
표면의 전하밀도가 pH 4이상이 되면 양의 값에서 음의 값으로 변화하는 질화붕소, 알루미나, 질화알루미늄, 산화티타늄, 산화마그네슘 및 산화베릴륨 중 어느 하나인 세라믹 입자를 함유한 용액의 pH를 소정용액을 사용하여 pH를 4 미만으로 조정하는 pH조정단계;상기 pH조정단계 후에 음이온성 고분자로 상기 세라믹 입자의 표면을 처리하는 표면처리단계; 및상기 세라믹 입자의 표면을 2가 염화철 및 3가 염화철을 포함하는 자성 전구체로 코팅하는 코팅단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 이온성 고분자를 이용한 세라믹 입자의 표면처리방법
6 6
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7 7
삭제
8 8
청구항 5에 있어서,상기 pH조정단계에 사용되는 소정용액은 염산, 황산, 질산 또는 아세트산인 것을 특징으로 하는 이온성 고분자를 이용한 세라믹 입자의 표면처리방법
9 9
청구항 5에 있어서,상기 이온성 고분자는 음이온성 고분자로, 폴리아크릴산(poly acrylic acid), 폴리소디움 스티렌 술포네이트(poly sodium 4-styrene sulfonate), 폴리비닐술포닉산(poly vinylsulfonic acid), 폴리소디움염(poly sodium salt), 폴리아미노산 (poly amino acids) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 이온성 고분자를 이용한 세라믹 입자의 표면처리방법
10 10
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 전자부품연구원 산업원천기술개발사업 차세대 전자패키지용 고방열 융복합 신소재 기술 개발