1 |
1
삭제
|
2 |
2
삭제
|
3 |
3
삭제
|
4 |
4
삭제
|
5 |
5
기재 상에 제 1 고분자 콜로이드 입자를 함유하는 제 1 희생층을 형성하고;상기 제 1 희생층 내로 제 1 전이금속 산화물 전구체를 주입하고;상기 제 1 희생층을 제거함으로써 3차원으로 배열된 제 1 기공을 가지는 제 1 전이금속 산화물 구조체를 형성하고;상기 제 1 전이금속 산화물 구조체의 제 1 기공 내로 상기 제 1 고분자 콜로이드 입자보다 작은 크기를 가지는 제 2 고분자 콜로이드 입자를 주입하여 제 2 희생층을 형성하고;상기 제 2 희생층 내로 제 2 전이금속 산화물 전구체를 주입하고; 및,상기 제 2 희생층을 제거함으로써 상기 제 1 기공 내에 형성되며, 상기 제 1 기공의 크기보다 작은 3차원으로 배열된 제 2 기공을 가지는 제 2 전이금속 산화물 구조체를 형성하는 것:을 포함하는, 계층형 다공성 전이금속 산화물 구조체의 제조 방법
|
6 |
6
제 5 항에 있어서,상기 제 1 고분자 콜로이드 입자, 및 상기 제 2 고분자 콜로이드 입자는, 각각 독립적으로 폴리스타이렌(PS), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리스타이렌/디비닐벤젠(PS/DVB), 폴리아미드, 폴리(부틸메타크릴레이트)(PBMA), 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 포함하는 것인, 계층형 다공성 전이금속 산화물 구조체의 제조 방법
|
7 |
7
제 5 항에 있어서,상기 제 1 희생층은, 상기 제 1 고분자 콜로이드 입자를 함유하는 용액을 상기 기재 상에 스핀 코팅 또는 캐스팅함으로써 형성되는 것인, 계층형 다공성 전이금속 산화물 구조체의 제조 방법
|
8 |
8
제 5 항에 있어서,상기 제 1 희생층 내로 상기 제 1 전이금속 산화물 전구체를 주입한 후 스핀 코팅을 수행하는 것을 추가 포함하는, 계층형 다공성 전이금속 산화물 구조체의 제조 방법
|
9 |
9
제 5 항에 있어서,상기 제 2 희생층은, 상기 제 2 고분자 콜로이드 입자를 함유하는 용액을 상기 제 1 기공 내로 스핀 코팅 또는 캐스팅함으로써 형성되는 것인, 계층형 다공성 전이금속 산화물 구조체의 제조 방법
|
10 |
10
제 5 항에 있어서, 상기 제 2 희생층 내로 상기 제 2 전이금속 산화물 전구체를 주입한 후 스핀 코팅을 수행하는 것을 추가 포함하는, 계층형 다공성 전이금속 산화물 구조체의 제조 방법
|
11 |
11
제 5 항에 있어서,상기 제 1 희생층 제거, 및 상기 제 2 희생층 제거는, 각각 독립적으로 가열 소성 공정 또는 용매를 이용하여 수행되는 것인, 계층형 다공성 전이금속 산화물 구조체의 제조 방법
|
12 |
12
제 5 항에 있어서,상기 제 1 전이금속 산화물 구조체, 및 상기 제 2 전이금속 산화물 구조체는, 각각 독립적으로 Ti, Cu, Zr, Sr, Zn, In, La, V, Mo, W, Sn, Nb, Mg, Al, Y, Sc, Sm, Ga, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 전이금속의 산화물을 포함하는 것인, 계층형 다공성 전이금속 산화물 구조체의 제조 방법
|
13 |
13
제 5 항에 있어서,상기 제 1 고분자 콜로이드 입자의 크기는 마이크로미터 단위이고, 상기 제 2 고분자 콜로이드 입자의 크기는 나노미터 단위인, 계층형 다공성 전이금속 산화물 구조체의 제조 방법
|
14 |
14
제 5 항에 있어서,상기 기재는 전도성 투명 기재를 포함하는 것인, 계층형 다공성 전이금속 산화물 구조체의 제조 방법
|
15 |
15
제 11 항에 있어서,상기 가열 소성 공정은 400℃ 내지 800℃의 온도에서 수행되는 것인, 계층형 다공성 전이금속 산화물 구조체의 제조 방법
|
16 |
16
삭제
|
17 |
17
삭제
|
18 |
18
삭제
|
19 |
19
삭제
|
20 |
20
삭제
|