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기판에 무기 화합물 형성용 전구체와 안정제를 포함하는 졸겔 용액을 도포한 후 경화시켜 박막을 형성할 때 자가발생적인 버클링이 형성되도록 하는 방법으로,상기 무기 화합물 형성용 전구체와 안정제의 혼합비율은 몰 비율로 1:4 ~ 1:10이고,상기 경화는 제1단계와 2단계로 이루어지며 제1단계는 제2단계에 비해 약한 조건으로 이루어지도록 하는 것을 특징으로 하는 박막의 버클링 형성방법
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제1항에 있어서,상기 무기 화합물은 ZnO, ZrO2, WO3, VO2, TiO2, SiO2, SiO, NiO 또는 ITO인 것을 특징으로 하는 박막의 버클링 형성방법
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제1항에 있어서,상기 안정제는, 아세틸-아세톤(Acetyl-acetone), 모노에탄올아민(Monoethanolamine), 디에탄올아민(Diethanolamine), 트리에탄올아민(Triethanolamine), 에틸렌글리콜(Ethylene glycol) 및 아세트산(Acetic acid)으로 이루어진 군 중에서 선택된 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 박막의 버클링 형성방법
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제1항에 있어서,상기 기판은 친수성 상태가 되도록 표면처리된 후 상기 졸겔 용액이 도포되는 것을 특징으로 하는 박막의 버클링 형성방법
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제6항에 있어서,상기 표면처리를 통해 기판의 접촉각 20°미만인 상태에서, ITO 졸겔 용액이 도포되는 것을 특징으로 하는 박막의 버클링 형성방법
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제1항에 있어서,상기 졸겔 용액의 도포는, 바(bar) 코팅, 딥(dip) 코팅, 스핀(spin) 코팅, 닥터블레이드(Doctor-blade) 코팅, 스프레이(Spray) 코팅, 잉크젯(ink-jet) 코팅 또는 스크린(Screen) 코팅으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 박막의 버클링 형성방법
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제1항에 있어서,상기 도포된 졸겔 용액은, 자외선(UV) 경화, 레이저(Laser) 경화 또는 열(Heat) 경화로 경화되는 것을 특징으로 하는 박막의 버클링 형성방법
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제1항에 있어서,상기 자가발생적인 버클링은 상기 졸겔 용액의 경화 시, 박막 내부의 비경화된 부분의 용매가 휘발되면서 버클링을 유발하는 응력(stress)이 형성되는 것을 특징으로 하는 박막의 버클링 형성방법
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제10항에 있어서,상기 자가발생적인 버클링은 경화 후 상온에서 냉각 및 에이징(Aging) 시 버클링이 일어나는 것을 특징으로 하는 박막의 버클링 형성방법
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제1항에 있어서,상기 안정제의 양의 제어를 통해, 형성되는 버클링의 크기 또는 모양을 제어하는 것을 특징으로 하는 박막의 버클링 형성방법
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제1항에 있어서,상기 전구체대비 안정제의 양이 증가할수록 생성되는 버클링의 크기가 작아지는 것을 특징으로 하는 박막의 버클링 형성방법
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제1항에 있어서,상기 전구체대비 안정제의 양이 증가할수록 생성되는 버클링 모양이 줄무늬 형태에서 점 형태로 변하는 것을 특징으로 하는 박막의 버클링 형성방법
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제1항, 제3항, 제4항, 및 제6항 내지 제14항 중 어느 한 항의 방법에 의하여 제조된 박막을 포함하는 소자
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제16항에 있어서,상기 소자는 광학소자 또는 반도체 소자인 것을 특징으로 하는 소자
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