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광발광을 측정하고 이미징하는 장치에 있어서,이미징하기 위한 시료를 배치하는 스테이지;상기 시료로 빛을 조사하기 위한 광원;반사 이미지를 얻기 위해 시료 표면에서 반사된 빛을 검출하는 반사광 검출기;광발광 이미지를 얻기 위해 시료가 발광하는 빛을 검출하는 광발광 검출기;상기 광원, 스테이지, 반사광 검출기, 광발광 검출기 사이에 위치하여 상기 광원에서 발생한 빛이 상기 스테이지 상에 배치된 시료에 도달하고, 상기 시료에서 반사 또는 발광된 빛이 상기 반사광 검출기 또는 광발광 검출기에 도달할 수 있도록 빛의 경로를 사용자의 목적에 따라 조절하는 것이 가능하도록 하는 광경로 조절부;를 포함하여 구성되고,상기 광발광 검출기는 상기 시료에서 발광하는 빛을 파장에 따라 분해하는 분광기;상기 분광기를 거친 빛을 파장에 따른 빛의 세기를 검출하는 광발광 디텍터;를 포함하고, 상기 분광기를 거친 빛은 파장에 따라 상기 광발광 디텍터에 도달되는 위치가 다르고, 상기 시료에서 발광한 빛의 파장은 광원에서 발생한 빛의 파장보다 길다는 원리를 이용하여 발광된 빛만을 검출하게 되고,상기 광원이 고정된 상태에서 상기 스테이지의 이동을 이용하여 시료의 측정위치를 변화시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 광발광을 측정하고 이미징하는 장치
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제 1항에 있어서,상기 스테이지의 X 방향 또는 Y 방향의 이동을 조절하여, 동일한 광원의 위치에서 시료에 입사되는 빛의 위치를 연속적으로 변화시킴으로써, 시료에 대해 연속적인 광발광 및 반사 이미지를 측정할 수 있는 것을 특징으로 하는 광발광을 측정하고 이미징하는 장치
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제 1항에 있어서,상기 스테이지는 수직(Z-방향)으로 이동이 가능한 하부 스테이지,상기 하부 스테이지 위에 수평 방향으로 이동이 가능한 X-Y 스캐닝 피에조 스테이지를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 광발광을 측정하고 이미징하는 장치
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제 3항에 있어서,상기 X-Y 스캐닝 피에조 스테이지(piezo-stage)는 가로 및 세로 방향(X-Y방향)으로 100nm 간격으로 움직이는 것을 특징으로 하는 광발광을 측정하고 이미징하는 장치
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제 1항에 있어서,상기 광경로 조절부는 레이저 빛의 직경을 크게 만드는 빔 익스팬더(beam expander),분광 조성을 변경하지 않고 감광하는 ND 필터(neutral density filter),빛의 일부는 통과시키고 일부는 반사하여 광선속을 둘로 나누는 빔 스플리터(beam splitter),빛을 반사하여 빛의 경로를 원하는 방향으로 조절하는 거울,선형 편광된 빛의 편광방향을 바꾸는 웨이브 플레이트(wave plate),빛을 상기 시료에 집광시키는 대물렌즈 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 광발광을 측정하고 이미징하는 장치
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광발광을 측정하고 이미징하는 장치에 있어서,시료를 5 내지 475K 범위의 저온 상태로 유지하기 위한 저온 챔버;상기 시료로 빛을 조사하기 위한 광원;반사 이미지를 얻기 위해 시료 표면에서 반사된 빛을 검출하는 반사광 검출기;광발광 이미지를 얻기 위해 시료가 발광하는 빛을 검출하는 광발광 검출기;상기 광원, 스테이지, 반사광 검출기, 광발광 검출기 사이에 위치하여 상기 광원에서 발생한 빛이 상기 스테이지 상에 배치된 시료에 도달하고, 상기 시료에서 반사된 빛이 상기 반사광 검출기에 도달할 수 있고 상기 시료에서 발광된 빛이 상기 광발광 검출기에 도달할 수 있도록 빛의 경로를 사용자의 목적에 따라 조절하는 것이 가능하도록 하는 광경로 조절부;를 포함하여 구성되고,상기 광발광 검출기는 상기 시료에서 발광하는 빛을 파장에 따라 분해하는 분광기;상기 분광기를 거친 빛을 파장에 따른 빛의 세기를 검출하는 광발광 디텍터;를 포함하고, 상기 분광기를 거친 빛은 파장에 따라 상기 광발광 디텍터에 도달되는 위치가 다르고, 상기 시료에서 발광한 빛의 파장은 광원에서 발생한 빛의 파장보다 길다는 원리를 이용하여 발광된 빛만을 검출하게 되고,상기 시료와 광원의 위치는 고정된 상태에서, 상기 광경로 조절부만을 이용하여 시료의 측정위치를 변화시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 광발광을 측정하고 이미징하는 장치
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제 6항에 있어서,상기 저온 챔버는 대물렌즈와 마주보는 상부에 빛이 입사할 수 있도록 형성된 윈도우,상기 시료가 저온 챔버 내부에 위치할 수 있는 스테이지,액화기체를 순환시켜 저온을 유지하는 냉각부를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 광발광을 측정하고 이미징하는 장치
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제 6항에 있어서,상기 광경로 조절부는 분광 조성을 변경하지 않고 감광하는 ND 필터(neutral density filter),빛을 반사하여 빛의 경로를 원하는 방향으로 조절하는 거울,빛의 일부는 통과시키고 일부는 반사하여 광선속을 둘로 나눈는 빔 스플리터(beam splitter),레이저 빛의 직경을 조절하고, 상기 시료에서 반사된 빛의 굴절을 작게 만들어 상기 반사된 빛이 상기 포토 디텍터에 모두 들어갈 수 있게 하는 렌즈 페어(lens pair),상기 시료에 입사되는 빛의 입사위치를 X 방향 또는 Y 방향으로 변화시켜 시료를 스캐닝하기 위한 2D 스캐닝 거울,빛을 상기 시료에 집광시키는 대물렌즈 중에서 적어도 어느 하나를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 광발광을 측정하고 이미징하는 장치
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제 8항에 있어서,상기 2D 스캐닝 거울은 상기 시료에 입사되는 빛의 입사위치를 X축 방향으로 움직이는 제 1 거울과 Y축 방향으로 움직이는 제 2 거울을 포함하여 구성되고,상기 거울을 회전함으로써 상기 시료에 입사되는 빛이 X 방향 또는 Y 방향으로 입사 위치가 변화게 되고,상기 제 1 거울 또는 제 2 거울의 회전각도를 조절하여 시료에 입사되는 빛의 위치를 연속적으로 변화시킴으로써, 시료에 대해 연속적인 광발광 또는 반사광을 측정할 수 있는 것을 특징으로 하는 광발광을 측정하고 이미징하는 장치
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제 1항 또는 제 6항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 광원은 450~2000nm의 파장을 가지는 초연속 레이저(supercontinuum laser), 405nm CW 레이저(continuous wave laser), 532nm CW 레이저(continuous wave laser) 중에서 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 광발광을 측정하고 이미징하는 장치
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제 10항에 있어서,상기 광원이 초연속 레이저(supercontinuum laser)인 경우에는 450~2000nm의 파장 중에서 특정 파장을 선택하기 위한 단색화 장치(monochromator)와 편광판(polaizer)을 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 광발광을 측정하고 이미징하는 장치
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제 1항 또는 제 6항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 반사광 검출기는 포토다이오드인 것을 특징으로 하는 광발광을 측정하고 이미징하는 장치
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제 1항 또는 제 6항 중 어느 하나의 항에 있어서,상기 광발광 디텍터는 CCD 카메라 또는 IR 디텍터 중에서 적어도 어느 하나를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 광발광을 측정하고 이미징하는 장치
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광발광을 측정하고 이미징하는 방법에 있어서,(i) 광원에서 빛을 발생시키는 단계;(ii) 상기 빛이 광경로 조절부를 통과하여 시료에 도달하는 단계;(iii) 상기 빛의 일부가 시료의 표면에서 반사되는 단계;(iv) 상기 빛의 일부가 시료에 흡수되어 시료가 발광하는 단계;(v) 상기 시료의 표면에서 반사된 빛이 광경로 조절부를 통하여 반사광 검출기에 도달하고, 상기 반사광 검출기에서 상기 (iii) 단계의 반사된 빛을 검출하는 단계;(vi) 상기 시료가 발광하는 빛이 광경로 조절부를 통하여 광발광 검출기에 도달하고, 상기 광발광 검출기에서 상기 (iv) 단계의 발광한 빛을 검출하는 단계;(vii) 상기 시료의 서로 다른 복수개의 위치에서 상기 (i)~(vi) 단계를 복수회 반복 실시하여 연속적으로 광발광 및 반사된 빛을 검출하여 이를 데이터화하여 광발광 이미지 및 반사 이미지를 얻는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광발광을 측정하고 이미징하는 방법
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제 14항에 있어서,상온에서 광발광을 측정하고 이미징하는 경우,상기 (vii) 단계의 상기 서로 다른 복수개의 위치는 광원의 이동 또는 광원의 이동 없이 피에조 스테이지의 이동만을 조절함으로써, 시료의 측정위치를 변화시켜 결정되는 것을 특징으로 하는 광발광을 측정하고 이미징하는 방법
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제 14항에 있어서,저온에서 광발광을 측정하고 이미징하는 경우,상기 (vii) 단계의 상기 서로 다른 복수개의 위치는 광원의 이동 또는 광원의 이동 없이 2D 스캐닝 거울의 각도만을 조절함으로써, 시료의 측정위치를 변화시켜 결정되는 것을 특징으로 하는 광발광을 측정하고 이미징하는 방법
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제 14항에 있어서,상온에서 광발광을 측정하고 이미징하는 경우, 상기 (ii) 단계는(a) 상기 광원에서 발생한 빛이 빔 익스팬더를 통과하여 빛의 직경이 확대되는 단계;(b) 상기 직경이 확대된 빛이 ND 필터를 통과하는 단계;(c) 상기 ND 필터를 통과한 빛이 제 1 빔 스플리터를 통과하는 단계;(d) 상기 제 1 빔 스플리터를 통과한 빛이 제 2 빔 스플리터에서 반사되는 단계;(e) 상기 제 2 빔 스플리터에서 반사된 빛이 대물렌즈를 통과하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광발광을 측정하고 이미징하는 방법
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제 14항에 있어서,저온에서 광발광을 측정하고 이미징하는 경우, 상기 (ii) 단계는(a) 상기 광원에서 발생한 빛이 ND 필터를 통과하는 단계;(b) 상기 ND 필터를 통과한 빛이 제 1 빔 스플리터를 통과하는 단계;(c) 상기 제 1 빔 스플리터를 통과한 빛이 2D 스캐닝 거울을 통과하는 단계;(d) 상기 2D 스캐닝 거울을 통과한 빛이 렌즈 페어를 통과하는 단계;(e) 상기 렌즈 페어를 통과한 빛이 제 2 빔 스플리터에서 반사되는 단계;(f) 상기 제 2 빔 스플리터에서 반사된 빛이 대물렌즈를 통과하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 광발광을 측정하고 이미징하는 방법
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제 14항에 있어서,상기 (i) 단계의 광원은 450~2000nm의 파장을 가지는 초연속 레이저(supercontinuum laser), 405nm CW 레이저(continuous wave laser), 532nm CW 레이저(continuous wave laser) 중에서 어느 하나인 것을 특징으로 하는 광발광을 측정하고 이미징하는 방법
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제 14항에 있어서,상기 (i) 단계의 광원이 초연속 레이저(supercontinuum laser)인 경우,상기 (i) 단계 및 (ii) 단계 사이에 상기 초연속 레이저(supercontinuum laser)가 단색화 장치(monochromator) 및 편광판(polarizer)을 통과하면서 400~2000nm의 파장 중 특정 파장을 갖는 레이저가 되도록 선택할 수 있는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광발광을 측정하고 이미징하는 방법
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