1 |
1
일측면에 전극이 구비된 한 쌍의 유연기판을 준비하는 단계; 상기 한 쌍의 유연기판 중 적어도 어느 하나의 유연기판의 타측면에 플라즈마 처리, 열 처리, 자외선 조사 처리 중 어느 하나의 처리를 통해 요철부를 형성하는 단계; 상기 한 쌍의 유연기판 중 적어도 어느 하나의 유연기판의 타측면에 고분자 화합물층을 형성하는 단계; 및상기 한 쌍의 유연기판의 타측면 사이에 상기 고분자 화합물층이 개재되도록 상기 한 쌍의 유연기판 및 상기 고분자 화합물층을 합착하는 단계;를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 나노발전기의 제조방법
|
2 |
2
제1항에 있어서, 상기 요철부는, 10㎛×10㎛ 범위 면적에서 Ra=1㎚ ~ 100㎛의 거칠기를 갖도록 형성되는 것을 특징으로 하는 나노발전기의 제조방법
|
3 |
3
제1항에 있어서, 상기 요철부는, 상기 한 쌍의 유연기판의 타측면에 각각 형성되는 것을 특징으로 하는 나노발전기의 제조방법
|
4 |
4
제1항에 있어서, 상기 고분자 화합물층은, 상기 한 쌍의 유연기판의 타측면에 각각 형성되는 것을 특징으로 하는 나노발전기의 제조방법
|
5 |
5
제1항에 있어서, 상기 플라즈마 처리는, O2, N2, He, Ar, SiH4, NF3, CF4, N2O, Cl, BCl4, NH3으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종 이상의 가스로 처리하는 것을 특징으로 하는 나노발전기의 제조방법
|
6 |
6
제1항에 있어서, 상기 열 처리는, 50℃ 내지 400℃에서 처리하는 것을 특징으로 하는 나노발전기의 제조방법
|
7 |
7
제1항에 있어서, 상기 자외선 조사 처리는, 100㎚ 내지 400㎚의 파장을 갖는 자외선으로 처리하는 것을 특징으로 하는 나노발전기의 제조방법
|
8 |
8
제1항에 있어서, 상기 한 쌍의 유연기판 및 상기 고분자 화합물층의 합착 시 열과 압력 중 적어도 어느 하나를 가하는 것을 특징으로 하는 나노발전기의 제조방법
|
9 |
9
제8항에 있어서, 상기 한 쌍의 유연기판 및 상기 고분자 화합물층의 합착 시 가해지는 열의 온도는 5℃ 내지 400℃인 것을 특징으로 하는 나노발전기의 제조방법
|
10 |
10
제8항에 있어서, 상기 한 쌍의 유연기판 및 상기 고분자 화합물층의 합착 시 가해지는 압력의 크기는 0
|
11 |
11
제1항에 있어서, 상기 유연기판은, 폴리에틸렌 테레프타레이트(PET, polyethylene terephthalate), 폴리다이메틸실록세인(PDMS, polydimethylsiloxane), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA, polymethyl methacrylate), 폴리우레탄(PUA, polyurethane), 폴리이미드(polyimide), SU-8 폴리머로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노발전기의 제조방법
|
12 |
12
제1항에 있어서, 상기 전극은, ITO(indium tin oxide), IZO(indium zinc oxide), GZO(Ga-doped ZnO), 금 나노 와이어(Au nanowire), 은 나노 와이어(Ag nanowire), 은 페이스트(Ag paste), DMD(Dielectric/Metal/Dielectric), 그래핀(graphene), 탄소나노튜브(carbon nanotube), 전도성 폴리머로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노발전기의 제조방법
|
13 |
13
제1항에 있어서, 상기 전극은, Fe, Ag, Au, Cu, Cr, W, Al, Mo, Zn, Ni, Pt, Pd, Co, In, Mn, Si, Ta, Ti, Sn, Pb, V, Ru, Ir, Zr, Rh 및 Mg로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노발전기의 제조방법
|
14 |
14
제1항에 있어서, 상기 고분자 화합물층은, 폴리이미드(polyimide) 또는 폴리이미드를 포함하는 공중합체, 폴리아크릴산(polyacrylic acid) 또는 폴리아크릴산을 포함하는 공중합체, 폴리스티렌(polystyrene) 또는 폴리스티렌을 포함하는 공중합체, 폴리설파이트(polysulfite) 또는 폴리설파이트를 포함하는 공중합체, 폴리아믹산(polyamic acid) 또는 폴리아믹산을 포함하는 공중합체, 폴리아민(polyamine) 또는 폴리아민을 포함하는 공중합체, 폴리비닐 알콜(polyvinyl alcohol), 폴리 알릴아민(polyallylamine) 및 폴리아크릴산(polyacrylic acid), 폴리다이메틸실록세인(PDMS, polydimethylsiloxane), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA, polymethyl methacrylate), Su-8 폴리머, 폴리우레탄(PUA, polyurethane), Ormoclear로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노발전기의 제조방법
|
15 |
15
제1항에 있어서,상기 고분자 화합물층은, 바 코팅(bar coating)법, 스프레이 코팅(spray coating)법, 프린팅법, 닥터 블레이드 코팅(doctor blade coating)법, 슬롯다이코팅(slot die coating)법, 스핀코팅(spin coating)법, 드랍코팅(drop coating)법, 열 증착법, 전자선 증착법, 스퍼터링(sputtering)법 중 어느 하나의 방법으로 형성되는 것을 특징으로 하는 나노발전기의 제조방법
|
16 |
16
삭제
|