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레이저를 발사하는 레이저부;상기 레이저부에서 발사되는 레이저를 설정된 영역으로 조사되도록 구동하는 스캐너 모듈;샘플이 안착되며, 상기 스캐너 모듈로부터 레이저를 수신하는 샘플 홀더;상기 샘플 홀더로 전압을 공급하는 제2 고전압 파워소스;상기 샘플 홀더와 일정 거리 이격되어 형성되며, 상기 샘플 홀더에 안착된 이온화된 샘플을 가속하도록 전압을 형성하고 있는 제1 이온광학계;상기 제1 이온광학계로 전압을 공급하는 제1 고전압 파워소스;를 포함하여,상기 레이저부에서 발사되는 레이저의 주파수와 상기 스캐너 모듈의 주파수는 서로 상이하며,상기 스캐너 모듈은 수평 주파수와 수직 주파수를 가지며, 상기 수평 주파수와 상기 수직 주파수는 서로 상이함을 특징으로 하는 질량 분석 장치
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제 1항에 있어서, 상기 제1 고전압 파워소스에서 출력되는 전압과 상기 제2 고전압 파워소스에서 출력되는 전압의 상대적인 차이는 이온화된 상기 샘플의 극성에 따라 달라짐을 특징으로 질량 분석 장치
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제 2항에 있어서, 상기 샘플 홀더에 안착되어 있는 샘플의 조사 영역에 따라 상기 스캐너 모듈의 회전 각도를 조절함을 특징으로 하는 질량 분석 장치
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제 3항에 있어서,상기 제1 이온광학계 상단에 형성되어 있으며, 이온화된 상기 샘플의 속도를 가속시키며, 접지와 연결되어 있는 제2 이온광학계;상기 제2 이온광학계 상단에 형성되어 있으며, 이온화된 상기 샘플을 검출하는 이온 검출부;를 포함함을 특징으로 하는 질량 분석 장치
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제 4항에 있어서, 상기 샘플 홀더에 조사되는 레이저의 조사 영역을 확인하는 비전 모듈을 포함함을 특징으로 하는 질량 분석 장치
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제 5항에 있어서, 상기 레이저부에서 발사되는 레이저의 주파수는 상기 스캐너 모듈의 주파수보다 상대적으로 높음을 특징으로 하는 질량 분석 장치
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레이저를 발사하는 레이저부;상기 레이저부에서 발사되는 레이저를 설정된 영역으로 조사되도록 구동하는 스캐너 모듈;샘플이 안착되며, 상기 스캐너 모듈로부터 레이저를 수신하는 샘플 홀더;상기 샘플 홀더로 전압을 공급하는 제2 고전압 파워소스;상기 샘플 홀더와 일정 거리 이격되어 형성되며, 상기 샘플 홀더에 안착된 이온화된 샘플을 가속하도록 전압을 형성하고 있는 제1 이온광학계;상기 제1 이온광학계로 전압을 공급하는 제1 고전압 파워소스;상기 제1 이온광학계 상단에 형성되어 있으며, 이온화된 상기 샘플의 속도를 가속시키며, 접지와 연결되어 있는 제2 이온광학계;상기 제2 이온광학계 상단에 형성되어 있으며, 이온화된 상기 샘플의 검출하는 이온 검출부;를 포함하며,상기 레이저부에서 발사되는 레이저의 주파수와 상기 스캐너 모듈의 주파수는 서로 상이하며,상기 스캐너 모듈은 수평 주파수와 수직 주파수를 가지며, 상기 수평 주파수와 상기 수직 주파수는 서로 상이함을 특징으로 하는 질량 분석 장치
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제 7항에 있어서,상기 스캐너 모듈은 수평 주파수와 수직 주파수를 가지며, 상기 레이저부에서 발사되는 레이저의 주파수는 상기 스캐너 모듈의 수직 주파수 또는 수평 주파수보다 상대적으로 높음을 특징으로 하는 질량 분석 장치
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