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전자기파를 발생시키는 광원;상기 전자기파를 제1 빔과 제2 빔으로 분할하는 분할수단;상기 제1 빔을 제1 구면파로 변환하는 제1 변조수단;상기 제2 빔을 제2 구면파로 변환하는 제2 변조수단;상기 분할수단과 상기 제1 변조수단 사이 또는 상기 분할수단과 상기 제2 변조수단 사이에 위치하여 상기 제1 빔 또는 상기 제2 빔에 대한 위상 또는 주파수를 천이시키는 천이수단;서로 다른 초점 위치를 갖는 상기 제1 구면파와 상기 제2 구면파를 서로 간섭시켜서 비선형 프레넬 윤대판(non-linear Fresnel zone plate) 형태의 간섭 빔을 형성하는 간섭수단; 상기 간섭 빔을 이용하여 촬영대상물을 스캔하는 스캔수단; 및상기 촬영대상물로부터 반사된 빔을 검출하는 광 검출수단을 포함하며,상기 간섭 빔은 상기 제1 구면파와 상기 제2 구면파의 곡률 방향이 동일한 영역에서 위상 또는 주파수 천이된 비선형 프레넬 윤대판 형태인 홀로그램 레코딩 장치
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청구항 1에 있어서,상기 제1 변조수단 및 상기 제2 변조수단은,렌즈 또는 광섬유로 구성되는 홀로그램 레코딩 장치
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청구항 1에 있어서,상기 천이수단은, 상기 제1 빔 또는 상기 제2 빔에 대한 주파수를 천이시키고,상기 간섭 빔은, 상기 제1 구면파와 상기 제2 구면파의 곡률 방향이 동일한 영역에서 시간에 따라 헤테로다인 변조된 비선형 프레넬 윤대판 형태로서 아래의 수학식으로 정의되는 홀로그램 레코딩 장치:여기서, λ는 상기 전자기파의 파장, x02+y02은 상기 촬영대상물 공간의 좌표계, 상기 좌표계의 원점은 상기 제1 변조수단의 초점 위치, d는 상기 제1 변조수단과 상기 제2 변조수단 사이의 초점의 위치 차, z는 상기 제1 변조수단의 초점 위치에서 상기 비선형 프레넬 윤대판 까지의 거리, Ω은 상기 천이수단에 의해 천이시킨 주파수이다
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청구항 1에 있어서,상기 천이수단은,상기 제1 빔 또는 상기 제2 빔에 대한 위상을 천이시키고,상기 간섭 빔은, 상기 제1 구면파와 상기 제2 구면파의 곡률 방향이 동일한 영역에서 위상 천이된 비선형 프레넬 윤대판 형태로서 아래의 수학식으로 정의되는 홀로그램 레코딩 장치:여기서, λ는 상기 전자기파의 파장, x02+y02은 상기 촬영대상물 공간의 좌표계, 상기 좌표계의 원점은 상기 제1 변조수단의 초점 위치, d는 상기 제1 변조수단과 상기 제2 변조수단 사이의 초점의 위치 차, z는 상기 제1 변조수단의 초점 위치에서 상기 비선형 프레넬 윤대판 까지의 거리, pn은 상기 위상 천이에 사용되는 n개의 서로 다른 위상들의 집합이다
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청구항 5 또는 청구항 7에 있어서,상기 홀로그램의 축소 또는 확대를 위한 상기 비선형 프레넬 윤대판의 스케일링 요소가 -10 내지 10의 범위를 갖도록 상기 d 값을 조절하는 홀로그램 레코딩 장치
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청구항 1에 있어서,상기 광 검출수단에서 검출된 신호를 처리하여 상기 촬영대상물의 홀로그램을 생성하는 전자처리부를 더 포함하고,상기 전자처리부는,상기 검출된 신호를 디지털 신호로 변환한 AD컨버터;상기 변환된 디지털 신호로부터 상기 촬영대상물의 복소수 홀로그램을 생성하는 신호처리부;상기 복소수 홀로그램을 저장하는 저장부; 및상기 촬영대상물의 임의 위치에 대한 홀로그램 처리가 완료될 때마다 상기 스캔수단의 위치를 변경시키는 제어 신호를 생성하는 스캔 제어부를 포함하는 홀로그램 레코딩 장치
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전자기파를 발생시키는 광원;상기 전자기파를 제1 빔과 제2 빔으로 분할하는 분할수단;상기 제1 빔을 구면파로 변환하는 제1 변조수단;상기 제2 빔을 평면파로 변환하는 제2 변조수단;상기 분할수단과 상기 제1 변조수단 사이 또는 상기 분할수단과 상기 제2 변조수단 사이에 위치하여 상기 제1 빔 또는 상기 제2 빔에 대한 위상 또는 주파수를 천이시키는 천이수단;상기 구면파와 상기 평면파를 서로 간섭시켜서 간섭 빔을 형성하는 간섭수단; 상기 간섭 빔을 비선형 프레넬 윤대판(non-linear Fresnel zone plate) 형태로 변환하는 투사렌즈;상기 변환된 간섭 빔을 이용하여 촬영대상물을 스캔하는 스캔수단; 및상기 촬영대상물로부터 반사된 빔을 검출하는 광 검출수단을 포함하며,상기 투사렌즈는,선형 프레넬 윤대판을 형성하는 상기 구면파를 상기 투사렌즈에 의한 상 위치에서 발산하는 제1 구면파로 변환하고, 상기 평면파를 상기 투사렌즈의 초점 위치에서 발산하는 제2 구면파로 변환하되, 서로 다른 초점 위치를 갖는 상기 제1 구면파와 상기 제2 구면파에 의해 상기 비선형 프레넬 윤대판을 형성하며,상기 투사렌즈에 의해 상기 간섭 빔은 상기 제1 구면파와 상기 제2 구면파의 곡률 방향이 동일한 영역에서 주파수 또는 위상 천이된 비선형 프레넬 윤대판 형태인 홀로그램 레코딩 장치
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청구항 10에 있어서,상기 제1 변조수단은, 렌즈 또는 광섬유로 구성되고,상기 제2 변조수단은, 빔 확장기 또는 광섬유로 구성되는 홀로그램 레코딩 장치
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청구항 10에 있어서,상기 천이수단은, 상기 제1 빔 또는 상기 제2 빔에 대한 주파수를 천이시키고,상기 간섭 빔은, 상기 제1 구면파와 상기 제2 구면파의 곡률 방향이 동일한 영역에서 시간에 따라 헤테로다인 변조된 비선형 프레넬 윤대판 형태로서 아래의 수학식으로 정의되는 홀로그램 레코딩 장치:여기서, λ는 상기 전자기파의 파장, x02+y02은 상기 촬영대상물 공간의 좌표계, 상기 좌표계의 원점은 상기 제1 변조수단의 초점 위치, d는 상기 제1 변조수단과 상기 제2 변조수단 사이의 초점의 위치 차, z는 상기 제1 변조수단의 초점 위치에서 상기 비선형 프레넬 윤대판 까지의 거리, Ω은 상기 천이수단에 의해 천이시킨 주파수이다
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청구항 10에 있어서,상기 천이수단은, 상기 제1 빔 또는 상기 제2 빔에 대한 위상을 천이시키고,상기 간섭 빔은, 상기 제1 구면파와 상기 제2 구면파의 곡률 방향이 동일한 영역에서 위상 천이된 비선형 프레넬 윤대판 형태로서 아래의 수학식으로 정의되는 홀로그램 레코딩 장치:여기서, λ는 상기 전자기파의 파장, x02+y02은 상기 촬영대상물 공간의 좌표계, 상기 좌표계의 원점은 상기 제1 변조수단의 초점 위치, d는 상기 제1 변조수단과 상기 제2 변조수단 사이의 초점의 위치 차, z는 상기 제1 변조수단의 초점 위치에서 상기 비선형 프레넬 윤대판 까지의 거리, pn은 상기 위상 천이에 사용되는 n개의 서로 다른 위상들의 집합이다
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청구항 14 또는 청구항 16에 있어서,상기 홀로그램의 축소 또는 확대를 위한 상기 비선형 프레넬 윤대판의 스케일링 요소가 -10 내지 10의 범위를 갖도록 상기 d 값을 조절하는 홀로그램 레코딩 장치
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청구항 10에 있어서,상기 광 검출수단에서 검출된 신호를 처리하여 상기 촬영대상물의 홀로그램을 생성하는 전자처리부를 더 포함하고,상기 전자처리부는,상기 검출된 신호를 디지털 신호로 변환한 AD컨버터;상기 변환된 디지털 신호로부터 상기 촬영대상물의 복소수 홀로그램을 생성하는 신호처리부;상기 복소수 홀로그램을 저장하는 저장부; 및상기 촬영대상물의 임의 위치에 대한 홀로그램 처리가 완료될 때마다 상기 스캔수단의 위치를 변경시키는 제어 신호를 생성하는 스캔 제어부를 포함하는 홀로그램 레코딩 장치
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