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고출력 thin-GaN LED

  • 기술번호 : KST2014058980
  • 담당센터 : 광주기술혁신센터
  • 전화번호 : 062-360-4654
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 수직 구조 발광 다이오드에 관한 것으로서, n형 전극에 의한 광자의 흡수 및 전류 폭주 효과를 최소화하여 고성능의 수직 구조 발광 다이오드를 제공하는 것에 그 목적이 있다.이러한 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 발광 다이오드의 최하부로부터 도전성 전극, 금속 지지층, p형 반도체층, 상기 p형 반도체층의 일부에 삽입된 전류 차단부, 활성층, n형 반도체층 및 n형 전극의 순서로 구성 요소를 포함하고, 상기 n형 전극이 Cr층을 포함한 둘 이상의 금속층을 포함하는 경우, 상기 n형 반도체층에 Cr층, Al층, Pt층, Au층의 순서로 가깝게 배열하는 것을 특징으로 하며, 다른 금속층의 두께가 일정할 경우, Cr층의 두께가 얇아짐에 따라 발광 다이오드의 광 반사율이 증가되는 것을 특징으로 한다.
Int. CL H01L 33/36 (2014.01) H01L 33/40 (2014.01)
CPC H01L 33/145(2013.01) H01L 33/145(2013.01)
출원번호/일자 1020120044763 (2012.04.27)
출원인 한국광기술원
등록번호/일자 10-1220419-0000 (2013.01.03)
공개번호/일자 10-2012-0062660 (2012.06.14) 문서열기
공고번호/일자 (20130121) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자 10-2010-0093272 (2010.09.27)
관련 출원번호 1020100093272
심사청구여부/일자 Y (2012.04.27)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국광기술원 대한민국 광주광역시 북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정탁 대한민국 광주 광산구
2 김승환 대한민국 전남 무안군
3 주진우 대한민국 광주 광산구
4 이승재 대한민국 전북 전주시 덕진구
5 이상헌 대한민국 광주 광산구
6 백종협 대한민국 대전 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이은철 대한민국 서울특별시 송파구 법원로**길 **, A동 *층 ***호 (문정동, H비지니스파크)(*T국제특허법률사무소)
2 이우영 대한민국 서울특별시 송파구 법원로**길 **, A동 *층 ***호 (문정동, H비지니스파크)(*T국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국광기술원 광주광역시 북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application
2012.04.27 수리 (Accepted) 1-1-2012-0340221-76
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.08.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0455813-05
3 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.10.05 수리 (Accepted) 1-1-2012-0807214-21
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.10.05 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0807215-77
5 등록결정서
Decision to grant
2012.12.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0800759-20
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.07.03 수리 (Accepted) 4-1-2020-5148105-81
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.07.09 수리 (Accepted) 4-1-2020-5153634-39
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
수직 구조 발광 다이오드에 있어서, 발광 다이오드의 최하부로부터 도전성 전극(10), 금속 지지층(Metal Receptor)(20), 확산방지 및 접합용 금속층(Barrier/Bonding Metal)(30), 오믹/리플렉터층(Ohmic/Reflector)(40), p형 반도체층(50), 상기 p형 반도체층의 일부에 삽입된 전류 차단부(90), 활성층(60), n형 전극(80)과 결합할 수 있도록 그 일면이 세정 식각된 n형 반도체층(70) 및 n형 전극(80)의 순서로 구성 요소를 포함하고,상기 n형 전극(80)이 Cr층을 포함한 둘 이상의 금속층을 포함하는 경우, 상기 n형 반도체층(70)에 Cr층, Al층, Pt층, Au층의 순서로 가깝게 배열하는 것을 특징으로 하며, 다른 금속층의 두께가 일정할 경우, Cr층의 두께가 얇아짐에 따라 발광 다이오드의 광 반사율이 증가되는 것을 특징으로 하되, 상기 확산방지 및 접합용 금속층(30)은,Ag, Ni, Al, Ti, Pd, Pt, Ru, Au, Rh, Ir, Ta, Cu, Ta로 이루어진 적어도 하나 이상의 층을 포함하는 시드 금속층과, Au-Sn, Sn, In, Au-Au, Pd-Sn 및 Pd-In을 포함하는 그룹으로부터 선택된 물질로 이루어진 도전성 접착층을 포함하는 것을 특징으로 하는 수직 구조 발광 다이오드
2 2
제 1 항에 있어서,상기 p형 반도체층(50)과 n형 반도체층(70)은,질화갈륨(GaN)계인 것을 특징으로 하는 수직 구조 발광 다이오드
3 3
제 1 항에 있어서,상기 전류 차단부(90)는,상기 n형 전극(80)으로부터 상기 발광 다이오드의 하부로 흐르는 전류의 폭주 현상을 차단하기 위하여, 상기 p형 반도체층(50)의 일부를 제거하고 그 내부에 절연체 물질로 채워 넣는 것에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 수직 구조 발광 다이오드
4 4
제 1 항에 있어서,상기 전류 차단부(90)는,상기 p형 반도체층(50)의 일부를 제거한 후, 제거된 부분에 절연성 SiO2 또는 SiNx 를 PECVD 또는 스퍼터링 기법에 의해 증착하는 것에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 수직 구조 발광 다이오드
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 KR1020120031718 KR 대한민국 FAMILY

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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 한국광기술원 전략산업기술개발 외부 양자 효율 향상을 위한 기반 기술개발