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펄스 발생부가 구비되어 이온빔 펄스를 생성하는 이온원;상기 이온원의 이온 인출구에 연결되는 선형가속기;상기 선형가속기의 출구단에 배치되어 복수의 빔 라인으로 이온빔 펄스의 경로를 조절하는 분배전자석; 상기 이온원의 이온 인출구에 빔전류 측정기를 배치하여 빔전류를 측정하는 빔전류 모니터부; 및 상기 빔전류 모니터부로부터 신호를 수신하며, 상기 펄스 발생부 및 분배전자석을 제어하는 제어부를 포함하고,상기 제어부는 상기 펄스 발생부에 펄스 생성 신호를 송신하며, 상기 펄스 생성 신호와 동기화된 신호에 의하여 미리 설정된 패턴에 따라 복수의 빔 라인 중 어느 하나가 선택되도록 상기 분배전자석을 제어하며,상기 빔전류 모니터부로부터 수신된 상기 이온 인출구의 빔전류 신호가 상기 펄스 생성 신호와 동기화 실패되는 경우, 상기 제어부는 추가적인 펄스 발생 신호를 송신하며, 동시에 미리 설정된 패턴에서 동기화가 실패된 빔 라인이 재선택되도록 상기 분배전자석을 제어하는 이온빔 펄스 공급 장치
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펄스 발생부가 구비되어 이온빔 펄스를 생성하는 이온원;상기 이온원의 이온 인출구에 연결되는 선형가속기;상기 선형가속기의 출구단에 배치되어 복수의 빔 라인으로 이온빔 펄스의 경로를 조절하는 분배전자석; 상기 이온원의 이온 인출구에 빔전류 측정기를 배치하여 빔전류를 측정하는 빔전류 모니터부; 및 상기 빔전류 모니터부로부터 신호를 수신하며, 상기 펄스 발생부 및 분배전자석을 제어하는 제어부를 포함하고,상기 제어부는 상기 펄스 발생부에 펄스 생성 신호를 송신하며, 상기 펄스 생성 신호와 동기화된 신호에 의하여 미리 설정된 패턴에 따라 복수의 빔 라인 중 어느 하나가 선택되도록 상기 분배전자석을 제어하며,상기 빔전류 모니터부는 상기 복수의 각 빔 라인 상에 배치된 빔전류 측정기를 더 포함하고, 상기 빔전류 모니터부로부터 수신된 어느 하나의 빔 라인의 빔전류 신호가 상기 펄스 생성 신호와 동기화가 실패되는 경우, 상기 제어부는 추가적인 펄스 발생 신호를 송신하며, 동시에 동기화 실패된 해당 빔 라인이 선택되도록 상기 분배전자석을 제어하는 이온빔 펄스 공급 장치
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펄스 발생부가 구비되어 이온빔 펄스를 생성하는 이온원;상기 이온원의 이온 인출구에 연결되는 선형가속기;상기 선형가속기의 출구단에 배치되어 복수의 빔 라인으로 이온빔 펄스의 경로를 조절하는 분배전자석; 상기 이온원의 이온 인출구에 빔전류 측정기를 배치하여 빔전류를 측정하는 빔전류 모니터부; 및 상기 빔전류 모니터부로부터 신호를 수신하며, 상기 펄스 발생부 및 분배전자석을 제어하는 제어부를 포함하고,상기 제어부는 펄스 발생부에 펄스 생성 신호를 송신하며, 펄스 생성 신호와 동기화된 신호에 의하여 미리 설정된 패턴에 따라 복수의 빔 라인 중 어느 하나가 선택되도록 분배 전자석을 제어하며,상기 빔전류 모니터부는 상기 복수의 각 빔 라인 상에 배치된 빔전류 측정기를 더 포함하고, 상기 빔전류 모니터부로부터 수신된 어느 하나의 빔 라인의 빔전류 신호 및 상기 이온 인출구의 빔전류 신호의 양자 신호가 상기 펄스 생성 신호와 동기화 실패되는 경우, 상기 제어부는 추가적인 펄스 발생 신호를 송신하며, 동시에 동기화가 실패된 해당 빔 라인이 선택되도록 상기 분배전자석을 제어하는 이온빔 펄스 공급 장치
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