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질화갈륨계 반도체 발광 소자로서, 구조내 산화 아연, 산화 주석, 산화 갈륨, 및 산화 인듐에서 3성분 이상 선택되어 형성된 다성분계 산화물 투명 전극을 구비하는 것을 특징으로 하는 질화갈륨계 반도체 발광 소자
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제 2항에 있어서, 다성분계 산화물 투명 전극이 하기 화학식 1로 표시되는 산화물로 형성된 것을 특징으로 하는 질화갈륨계 반도체 발광 소자화학식 11) xZn2In2O5 + (1-x)In4Sn3O122) xGaInO3 + (1-x)In4Sn3O123) xZnSnO3 + (1-x)In4Sn3O124) xZn2In2O5 + (1-x)GaInO3상기 식에서, x는 0<x<1 이다
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제 2항 또는 제 3항에 있어서, 질화갈륨계 반도체와 다성분계 산화물로 이루어진 투명 산화물 전극이 오믹 접촉을 이루는 것을 특징으로 하는 질화갈륨계 반도체 발광 소자
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제 2항 또는 제 3항에 있어서, 다성분계 산화물로 이루어진 투명 산화물 전극이 1×10-3Ωㆍcm 이하의 비저항, 85% 이상의 광선 투과율 및 1×1019 cm-3 이상의 캐리어 농도를 지님을 특징으로 하는 질화갈륨계 반도체 발광 소자
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제 2항 또는 제 3항에 있어서, 다성분계 산화물로 이루어진 투명 산화물 전극의 광흡수가 300∼400 nm 영역에 있는 것을 특징으로 하는 질화갈륨계 반도체 발광 소자
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제 2항 또는 제 3항에 있어서, 다성분계 산화물로 이루어진 투명 산화물 전극이 1 nm 내지 1000 nm 두께임을 특징으로 하는 질화갈륨계 반도체 발광 소자
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제 2항 또는 제 3항에 있어서, 질화갈륨계 반도체 발광 소자가 아래서부터 순차적으로 기판, 버퍼층, n형 질화갈륨계 반도체층, 발광층, p형 질화갈륨계 반도체층, 다성분계 산화물로 이루어진 투명 산화물 전극, 및 투명산화물 전극 일측 상부와 n형 질화갈륨계 반도체층의 타측상에 각각 형성된 금속 전극으로 구성됨을 특징으로 하는 질화갈륨계 반도체 발광 소자
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