요약 | 자외선 발광소자의 투명전극을 Ni/Au 또는 ITO 막 대신에 은 (Ag) 을 포함하는 물질로 함으로써, 높은 광투과성 및 높은 휘도를 갖는 자외선 발광소자를 얻을 수 있다. 기판, 상기 기판 위에 차례로 형성되는 n-GaN 계 반도체층, 활성층, p-GaN 계 반도체층, 투명전극을 포함하는 자외선 발광소자로서, 상기 투명전극은 은 (Ag) 으로 이루어지는 물질인, 자외선 발광소자가 제공된다. 자외선 발광소자, 투명전극, 은 (Ag) |
---|---|
Int. CL | H01L 33/42 (2010.01.01) H01L 33/00 (2010.01.01) |
CPC | H01L 33/42(2013.01) H01L 33/42(2013.01) H01L 33/42(2013.01) H01L 33/42(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020070097545 (2007.09.27) |
출원인 | 한국광기술원 |
등록번호/일자 | 10-0959163-0000 (2010.05.13) |
공개번호/일자 | 10-2009-0032366 (2009.04.01) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20100524) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 등록 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2007.09.27) |
심사청구항수 | 3 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국광기술원 | 대한민국 | 광주광역시 북구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 김상묵 | 대한민국 | 광주 서구 |
2 | 백종협 | 대한민국 | 대전 서구 |
3 | 김강호 | 대한민국 | 광주 광산구 |
4 | 김윤석 | 대한민국 | 서울 강북구 |
5 | 이승재 | 대한민국 | 전북 전주시 덕진구 |
6 | 진정근 | 대한민국 | 경기 군포시 |
7 | 이상헌 | 대한민국 | 부산 금정구 |
8 | 염홍서 | 대한민국 | 서울 마포구 |
9 | 유영문 | 대한민국 | 서울 관악구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 황이남 | 대한민국 | 서울시 송파구 법원로 ***, ****호 (문정동, 대명벨리온지식산업센터)(아시아나국제특허법률사무소) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국광기술원 | 대한민국 | 광주광역시 북구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2007.09.27 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0696955-01 |
2 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2008.06.09 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2008.07.10 | 수리 (Accepted) | 9-1-2008-0041653-21 |
4 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2008.07.17 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0377526-60 |
5 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2008.09.17 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0654697-87 |
6 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2008.10.15 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0717599-11 |
7 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2008.11.17 | 무효 (Invalidation) | 1-1-2008-0791797-79 |
8 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2008.11.17 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0791798-14 |
9 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2008.11.17 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0791785-21 |
10 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2008.11.17 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2008-0791782-95 |
11 | 보정요구서 Request for Amendment |
2008.11.28 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2008-0129900-85 |
12 | 무효처분통지서 Notice for Disposition of Invalidation |
2008.12.31 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2008-0140035-10 |
13 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2009.03.09 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2009-0103480-90 |
14 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2009.05.11 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0281608-20 |
15 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2009.06.09 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2009-0348535-90 |
16 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2009.06.09 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0348536-35 |
17 | 최후의견제출통지서 Notification of reason for final refusal |
2009.10.22 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2009-0435448-81 |
18 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2009.12.22 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 1-1-2009-0794501-32 |
19 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2009.12.22 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0794504-79 |
20 | 등록결정서 Decision to grant |
2010.03.19 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2010-0116512-81 |
21 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.07.03 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5148105-81 |
22 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2020.07.09 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5153634-39 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 기판, 상기 기판 위에 차례로 형성되는 n-GaN 계 반도체층, 자외선 영역의 광을 방출하는 활성층, p-GaN 계 반도체층을 포함하는 자외선 발광소자에 있어서, 상기 p-GaN 계 반도체층 상에 두께 0 |
2 |
2 삭제 |
3 |
3 삭제 |
4 |
4 기판, n-GaN 계 반도체층, 자외선 영역의 광을 방출하는 활성층, p-GaN 계 반도체층을 차례로 적층하는 단계; 및 상기 p-GaN 계 반도체층 상에 두께 0 |
5 |
5 제 4 항에 있어서, 상기 은(Ag) 단일 막으로 이루어지는 투명전극을 증착시키는 단계는, e-빔 (e-beam) 증착법 또는 스퍼터링 증착법을 이용하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 자외선 발광소자의 제조 방법 |
6 |
6 삭제 |
7 |
7 삭제 |
지정국 정보가 없습니다 |
---|
패밀리정보가 없습니다 |
---|
국가 R&D 정보가 없습니다. |
---|
특허 등록번호 | 10-0959163-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20070927 출원 번호 : 1020070097545 공고 연월일 : 20100524 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20100319 청구범위의 항수 : 3 유별 : H01L 33/42 발명의 명칭 : 은계를 투명전극으로 하는 자외선 발광소자 존속기간(예정)만료일 : |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 한국광기술원 광주광역시 북구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 81,000 원 | 2010년 05월 14일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 106,000 원 | 2013년 04월 29일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 106,000 원 | 2014년 04월 30일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 74,200 원 | 2015년 04월 29일 | 납입 |
제 7 년분 | 금 액 | 214,000 원 | 2016년 05월 03일 | 납입 |
제 8 년분 | 금 액 | 149,800 원 | 2017년 04월 20일 | 납입 |
제 9 년분 | 금 액 | 107,000 원 | 2018년 04월 17일 | 납입 |
제 10 년분 | 금 액 | 202,500 원 | 2019년 04월 25일 | 납입 |
제 11 년분 | 금 액 | 202,500 원 | 2020년 04월 24일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2007.09.27 | 수리 (Accepted) | 1-1-2007-0696955-01 |
2 | 선행기술조사의뢰서 | 2008.06.09 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 | 2008.07.10 | 수리 (Accepted) | 9-1-2008-0041653-21 |
4 | 의견제출통지서 | 2008.07.17 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2008-0377526-60 |
5 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2008.09.17 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0654697-87 |
6 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2008.10.15 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0717599-11 |
7 | [명세서등 보정]보정서 | 2008.11.17 | 무효 (Invalidation) | 1-1-2008-0791797-79 |
8 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2008.11.17 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0791798-14 |
9 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2008.11.17 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0791785-21 |
10 | [명세서등 보정]보정서 | 2008.11.17 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2008-0791782-95 |
11 | 보정요구서 | 2008.11.28 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2008-0129900-85 |
12 | 무효처분통지서 | 2008.12.31 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2008-0140035-10 |
13 | 의견제출통지서 | 2009.03.09 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2009-0103480-90 |
14 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2009.05.11 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0281608-20 |
15 | [명세서등 보정]보정서 | 2009.06.09 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2009-0348535-90 |
16 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2009.06.09 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0348536-35 |
17 | 최후의견제출통지서 | 2009.10.22 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2009-0435448-81 |
18 | [명세서등 보정]보정서 | 2009.12.22 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 1-1-2009-0794501-32 |
19 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2009.12.22 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0794504-79 |
20 | 등록결정서 | 2010.03.19 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2010-0116512-81 |
21 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.07.03 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5148105-81 |
22 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2020.07.09 | 수리 (Accepted) | 4-1-2020-5153634-39 |
기술번호 | KST2014059599 |
---|---|
자료제공기관 | NTB |
기술공급기관 | 한국광기술원 |
기술명 | 은계를 투명 전극으로 하는 자외선 발광소자 |
기술개요 |
자외선 발광소자의 투명전극을 Ni/Au 또는 ITO 막 대신에 은 (Ag) 을 포함하는 물질로 함으로써, 높은 광투과성 및 높은 휘도를 갖는 자외선 발광소자를 얻을 수 있다. 기판, 상기 기판 위에 차례로 형성되는 n-GaN 계 반도체층, 활성층, p-GaN 계 반도체층, 투명전극을 포함하는 자외선 발광소자로서, 상기 투명전극은 은 (Ag) 으로 이루어지는 물질인, 자외선 발광소자가 제공된다. 자외선 발광소자, 투명전극, 은 (Ag) |
개발상태 | 시제품단계 |
기술의 우수성 | |
응용분야 | LED 조명기구, 고출력 LED 칩, 기판 |
시장규모 및 동향 | |
희망거래유형 | 기술매매,라이센스,기술협력, |
사업화적용실적 | |
도입시고려사항 |
과제고유번호 | 1410042197 |
---|---|
세부과제번호 | itep10018225 |
연구과제명 | 초고출력380nmUVLED칩개발 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 한국산업기술평가원 |
연구주관기관명 | 한국광기술원 |
성과제출연도 | 2004 |
연구기간 | 200412~200809 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 개발연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
과제고유번호 | 1415100395 |
---|---|
세부과제번호 | 10034099 |
연구과제명 | 고효율고지향성LED칩/패키지를이용한그린네트워크가로조명시스템개발 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 한국산업기술평가관리원 |
연구주관기관명 | 알에프텍 |
성과제출연도 | 2009 |
연구기간 | 200907~201006 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 개발연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
[1020100014980] | 선택적 에칭층을 구비하는 발광다이오드 및 그 제조방법 | 새창보기 |
---|---|---|
[1020070117857] | 수직형 발광 소자 및 그의 제조 방법 | 새창보기 |
[1020070097545] | 은계를 투명 전극으로 하는 자외선 발광소자 | 새창보기 |
[1020070079741] | 패드 재배열을 이용한 반도체 발광 다이오드 및 그의 제조방법 | 새창보기 |
[1020070068335] | 웨이퍼레벨 패키징된 발광다이오드 및 그의 제조 방법 | 새창보기 |
[1020070052278] | 횡방향 전류 확산을 향상시킨 발광소자 및 제조 방법 | 새창보기 |
[1020070004582] | 고내정전압을 갖는 발광다이오드 및 그의 제조방법 | 새창보기 |
[1020060025342] | 절연체 반사면을 구비하는 플립칩 발광소자 | 새창보기 |
[1020060013781] | 질화물 반도체 발광소자 | 새창보기 |
[1020050124685] | 반도체 발광소자 | 새창보기 |
[1020050073482] | 다성분계 투명 산화물 전극을 구비한 반도체 발광소자 | 새창보기 |
[KST2014059595][한국광기술원] | 선택적 에칭층을 구비하는 발광다이오드 및 그 제조방법 | 새창보기 |
---|---|---|
[KST2014022521][한국광기술원] | 비평면의 p형 화합물 반도체 형성방법 및 화합물 반도체발광소자의 제조방법 | 새창보기 |
[KST2014058935][한국광기술원] | 동종기판에 표면요철을 구비한 반도체 발광소자 및 그 제조방법 | 새창보기 |
[KST2015200481][한국광기술원] | 확산 렌즈를 구비한 엘이디 및 그 제작방법 | 새창보기 |
[KST2015200483][한국광기술원] | 질화물계 반도체 발광소자의 제조 방법 | 새창보기 |
[KST2014002101][한국광기술원] | 질화물 반도체 발광소자 | 새창보기 |
[KST2014059512][한국광기술원] | 다성분계 투명 산화물 전극을 구비한 반도체 발광소자 | 새창보기 |
[KST2014002109][한국광기술원] | 웨이퍼 본딩공정을 이용한 실리콘기반 발광다이오드 제조방법 | 새창보기 |
[KST2015200477][한국광기술원] | 다중 파장을 가지는 발광다이오드 및 그 제조방법 | 새창보기 |
[KST2014023520][한국광기술원] | 웨이퍼레벨 패키징된 발광다이오드 및 그의 제조 방법 | 새창보기 |
[KST2014023522][한국광기술원] | 인듐주석산화물 투명전극 직접 접촉층을 포함하는 발광다이오드 및 그의 제조방법 | 새창보기 |
[KST2014023524][한국광기술원] | 전기적 특성을 향상한 광자결정 발광 소자 및 제조방법 | 새창보기 |
[KST2014053397][한국광기술원] | 화학적 리프트 오프 방법을 이용한 III족 질화물 기판의 제조방법 | 새창보기 |
[KST2014002113][한국광기술원] | 경사식각된 발광다이오드 및 그 제조방법 | 새창보기 |
[KST2019013433][한국광기술원] | 마이크로 LED를 이용한 디스플레이 및 그 제조방법 | 새창보기 |
[KST2014059555][한국광기술원] | 플렉시블 LED조명용 모듈 및 평판 디스플레이 장치 | 새창보기 |
[KST2014066732][한국광기술원] | 표면 코팅 기술을 적용한 고신뢰성 LED용 형광체 개발 | 새창보기 |
[KST2015200482][한국광기술원] | 질화물계 반도체 소자 및 그의 제조 방법 | 새창보기 |
[KST2014002116][한국광기술원] | 실리콘 기판 3족 질화물계 적층구조를 가지는 발광다이오드 및 그 제작방법 | 새창보기 |
[KST2014022528][한국광기술원] | 레이저 에너지 흡수 초격자 층을 구비한 질화물 발광소자및 그의 제조방법 | 새창보기 |
[KST2014058939][한국광기술원] | 질화물계 반도체 발광소자 및 그의 제조 방법 | 새창보기 |
[KST2014052193][한국광기술원] | 모스-아이 구조를 이용한 고효율 반도체소자 및 그 제조방법 | 새창보기 |
[KST2017008635][한국광기술원] | 질화물 양자점을 갖는 발광 소자 및 그 제조방법(Light emitting device having nitride quantum dot and method of manufacturing the same) | 새창보기 |
[KST2015011056][한국광기술원] | 고방열 LED 칩 접착기술 | 새창보기 |
[KST2014053398][한국광기술원] | 자립형 III족 질화물 기판의 제조방법 | 새창보기 |
[KST2014023535][한국광기술원] | 횡방향 전류 확산을 향상시킨 발광소자 및 제조 방법 | 새창보기 |
[KST2014023523][한국광기술원] | 적층형 발광다이오드 및 그 제조 방법 | 새창보기 |
[KST2015200470][한국광기술원] | 박막 형성장치, 이를 이용한 박막 형성방법 및 상기 박막 형성장치를 이용한 발광다이오드 제조방법 | 새창보기 |
[KST2014023515][한국광기술원] | 수직형 발광 소자 및 이중포토레지스트를 이용한 그의제조방법 | 새창보기 |
[KST2014059653][한국광기술원] | 발광소자 및 그의 제조 방법 | 새창보기 |
심판사항 정보가 없습니다 |
---|