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사이클로트론의 입자 가속 스트립핑 장치 및 방법

  • 기술번호 : KST2014059614
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 사이클로트론 및 사이클로트론용 스트리핑 박막 조립체에 관한 것으로, 본체, 본체의 내측에 구비되어 입자가 가속되는 공간을 형성하는 챔버, 상기 챔버에서 가속된 입자가 외부로 인출되는 인출부 및 상기 인출부와 인접한 위치에 배치되며 상기 가속된 입자를 양성자 빔으로 변환시키는 복수개의 박막이 동일한 방향을 향하도록 배치된 스트리핑 박막 조립체를 포함하는 사이클로트론을 제공한다.본 발명에 의할 경우, 하나의 스트리핑 박막 조립체 자체에 복수개의 박막을 구비하고 있으므로 조립체 자체를 교체하지 않은 상태에서 사용할 수 있는 기간을 증가할 수 있다. 또한, 스트리핑 박막 조립체의 박막이 회전하는 회전축을 입자의 충돌 방향과 유사한 방향으로 설치함으로써, 입자가 충돌되는 경우에도 박막의 설치 각도가 틀어지는 현상을 최소화시킬 수 있는 장점이 있다.
Int. CL H01J 27/00 (2006.01)
CPC H01J 37/32678(2013.01)H01J 37/32678(2013.01)H01J 37/32678(2013.01)H01J 37/32678(2013.01)
출원번호/일자 1020130058192 (2013.05.23)
출원인 성균관대학교산학협력단
등록번호/일자 10-1356036-0000 (2014.01.21)
공개번호/일자 10-2013-0131249 (2013.12.03) 문서열기
공고번호/일자 (20140129) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보 대한민국  |   1020120054683   |   2012.05.23
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020130168197;
심사청구여부/일자 Y (2013.05.23)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 대한민국 경기도 수원시 장안구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 채종서 대한민국 서울 노원구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 인비전 특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길**, *층(대치동, 동산빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교산학협력단 경기도 수원시 장안구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.05.23 수리 (Accepted) 1-1-2013-0455093-15
2 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2013.09.27 수리 (Accepted) 1-1-2013-0877763-84
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.10.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.10.24 수리 (Accepted) 9-1-2013-0089064-14
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.11.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0760565-87
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.12.31 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-1210166-50
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.12.31 수리 (Accepted) 1-1-2013-1210167-06
8 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application
2013.12.31 수리 (Accepted) 1-1-2013-1210176-17
9 등록결정서
Decision to grant
2014.01.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0012266-86
10 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2014.01.22 수리 (Accepted) 1-1-2014-0066776-12
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.02.23 수리 (Accepted) 4-1-2017-5028829-43
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번호 청구항
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본체;상기 본체의 내측에 구비되어 입자가 가속되는 공간을 형성하는 챔버;상기 챔버에서 가속된 입자가 외부로 인출되는 인출부; 및;상기 인출부와 인접한 위치에 배치되며, 상기 가속된 입자가 충돌하여 양성자 빔으로 변환되는 복수개의 박막이 동일한 방향을 향하도록 배치된 스트리핑 박막 조립체;를 포함하고,상기 스트리핑 박막 조립체는 복수개의 박막이 하나의 회전축을 중심으로 회전 가능하게 배치되며, 상기 회전축은 상기 복수개의 박막이 향하는 방향과 나란하게 형성되는 것을 특징으로 하는 사이클로트론
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3 3
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제1항에 있어서,상기 스트리핑 박막 조립체는 상기 각각의 박막이 설치되는 복수개의 박막 프레임, 상기 복수개의 박막 프레임이 상기 회전축을 축으로 회전할 수 있도록 지지하는 회전 프레임, 그리고 상기 회전 프레임이 고정되는 지지 프레임을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 사이클로트론
5 5
제4항에 있어서,상기 스트리핑 박막 조립체는 상기 챔버의 내측에서 가속된 입자가 상기 복수개의 박막 중 하나와 충돌하도록 배치되는 것을 특징으로 하는 사이클로트론
6 6
제4항에 있어서,상기 챔버의 내측에서 가속되는 입자는 에너지 준위에 따라 상이한 회전 반경을 갖는 궤적을 형성하며, 상기 스트리핑 박막 조립체의 지지 프레임은 신축 가능하게 설치되어 상기 박막의 위치를 상기 회전 반경 방향을 따라 이동시키는 것을 특징으로 하는 사이클로트론
7 7
제5항에 있어서,상기 스트리핑 박막 조립체는 상기 가속된 입자의 다양한 에너지 준위에 대응할 수 있도록, 상기 복수개의 박막이 각각 상이한 두께로 구성되는 것을 특징으로 하는 사이클로트론
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사이클로트론 내부에서 가속된 입자를 양성자 빔으로 변환시키기 위한 박막이 설치되며, 상기 각각의 박막이 동일한 방향을 향하도록 배치되는 복수개의 박막 프레임;상기 복수개의 박막 프레임을 동일한 회전축을 축으로 회전시키는 회전 프레임; 및상기 회전 프레임이 고정되는 지지 프레임;을 포함하고,상기 회전 프레임은 상기 각각의 박막이 향하는 방향과 나란하게 형성되는 회전축을 축으로 상기 복수개의 박막 프레임을 회전시키는 것을 특징으로 하는 사이클로트론용 스트리핑 박막 조립체
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제8항에 있어서,상기 지지 프레임은 상기 가속되는 입자의 궤적이 형성하는 반경 방향을 따라 상기 박막 프레임을 이동시킬 수 있도록 신축 가능하게 구성되는 것을 특징으로 하는 사이클로트론용 스트리핑 박막 조립체
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제11항에 있어서,상기 복수개의 박막은 상기 가속된 입자의 다양한 에너지 준위에 대응할 수 있도록 각각 상이한 두께로 구성되는 것을 특징으로 하는 사이클로트론용 스트리핑 박막 조립체
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