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주사 탐침 현미경(SPM: Scanning Probe Microscope)에 구비된 Z 스캐너를 이용해 하나 이상의 스캔라인을 따라 시료를 스캔하여 획득되는 데이터 값들(시료 데이터 값들)에 존재하는 왜곡을 검출하는 장치에 있어서, 상기 하나 이상의 스캔라인 방향으로의 상기 시료 데이터 값들의 변화를 분석하여 상기 시료 데이터 값들에 존재하는 상기 시료의 기움에 의한 왜곡(기움 왜곡), 상기 Z 스캐너의 히스테리시스(Hysteresis) 특성에 의한 왜곡(히스테리시스 왜곡) 및 상기 Z 스캐너의 크립(Creep) 특성에 의한 왜곡(크립 왜곡) 중에서 적어도 하나를 검출하는 왜곡 검출부를 포함하는 것을 특징으로 하는 왜곡 검출 장치
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제1항에 있어서, 상기 시료 데이터 값들은 상기 Z 스캐너를 제어하기 위한 제어 신호로부터 획득되는 상기 시료의 표면 형상과 관련된 데이터 값들을 포함하는 것을 특징으로 하는 왜곡 검출 장치
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제1항에 있어서,상기 왜곡 검출부는 상기 하나 이상의 스캔라인 별로 상기 기움 왜곡을 검출하되, 상기 하나 이상의 스캔라인 중 어느 하나의 스캔라인에 포함된 시료 데이터 값들 중에서 상기 어느 하나의 스캔라인에서의 스캔 시작 지점에서의 시료 데이터 값과 상기 어느 하나의 스캔라인에서의 스캔 종료 지점에서의 시료 데이터 값 사이의 차이를 이용하여 상기 어느 하나의 스캔라인에서의 상기 기움 왜곡을 검출하는 것을 특징으로 하는 왜곡 검출 장치
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제3항에 있어서,상기 어느 하나의 스캔라인에 포함된 시료 데이터 값들은 상기 Z 스캐너를 이용해 상기 어느 하나의 스캔라인의 한쪽 방향 또는 다른 쪽 방향으로 상기 시료를 빠른 스캔(Fast Scan)하여 획득된 것이거나, 상기 하나 이상의 스캔라인을 포함하고 상기 시료 상에 설정되는 스캔영역에 대해 스캔모드 A에 따른 스캔과 스캔모드 B에 따른 스캔을 연속적으로 수행하여 획득된 것임을 특징으로 하는 왜곡 검출 장치
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제1항에 있어서,상기 왜곡 검출부는 상기 하나 이상의 스캔라인 별로 상기 히스테리시스 왜곡을 검출하되, 상기 하나 이상의 스캔라인 중 어느 하나의 스캔라인에 대하여, 상기 어느 하나의 스캔라인의 한쪽 방향으로 상기 시료를 빠른 스캔하여 획득된 시료 데이터 값들과 상기 어느 하나의 스캔라인의 다른 쪽 방향으로 상기 시료를 빠른 스캔하여 획득된 시료 데이터 값들의 차이 값들을 이용하여 상기 어느 하나의 스캔라인에서의 상기 히스테리시스 왜곡을 검출하는 것을 특징으로 하는 왜곡 검출 장치
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제5항에 있어서,상기 어느 하나의 스캔라인의 한쪽 방향으로 상기 시료를 빠른 스캔하여 획득된 시료 데이터 값들 및 상기 어느 하나의 스캔라인의 다른 쪽 방향으로 상기 시료를 빠른 스캔하여 획득된 시료 데이터 값들은 상기 어느 하나의 스캔라인을 따라 트레이스(Trace) 모드 및 리트레이스(Retrace) 모드로 상기 시료를 스캔하여 획득된 것이거나, 상기 하나 이상의 스캔라인이 포함하고 상기 시료 상에 설정되는 스캔영역에 대해 스캔모드 A에 따른 스캔과 스캔모드 B에 따른 스캔을 연속적으로 수행하여 획득된 것임을 특징으로 하는 왜곡 검출 장치
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제1항에 있어서,상기 시료 데이터 값들은 상기 하나 이상의 스캔라인을 포함하고 상기 시료 상에 설정되는 스캔영역에 대해 스캔모드 A에 따른 스캔을 수행하거나 스캔모드 B에 따른 스캔을 수행하거나 스캔모드 A에 따른 스캔 및 스캔모드 B에 따른 스캔을 연속적으로 수행하여 획득된 것이고,상기 왜곡 검출부는 상기 시료 데이터 값들에서 상기 기움 왜곡 및 상기 히스테리시스 왜곡을 우선적으로 제거하고, 상기 기움 왜곡 및 상기 히스테리시스 왜곡이 제거된 데이터 값들(선 왜곡 제거 데이터 값들)을 대응되는 시료 데이터 값들이 획득된 시간과 동기화되도록 시간 축을 기준으로 정렬하며, 상기 정렬된 선 왜곡 제거 데이터 값들의 시간에 흐름에 따른 변화를 분석하여 상기 크립 왜곡을 검출하는 것을 특징으로 하는 왜곡 검출 장치
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제7항에 있어서,상기 왜곡 검출부는 상기 정렬된 선 왜곡 제거 데이터 값들을 기 설정된 크립 왜곡 모델과 비교하여 상기 크립 왜곡을 검출하는 것을 특징으로 하는 왜곡 검출 장치
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제8항에 있어서,상기 크립 왜곡 모델은 시간의 흐름 및 크립 인자의 크기에 따라 왜곡의 크기가 변화하는 로그 함수로 표현되고, 상기 왜곡 검출부는 상기 정렬된 선 왜곡 제거 데이터 값과 상기 크립 왜곡 모델 사이의 차이가 최소가 되도록 하는 상기 크립 인자를 산출하고, 상기 산출된 크립 인자를 적용한 크립 왜곡 모델을 이용하여 상기 크립 왜곡을 검출하는 것을 특징으로 하는 왜곡 검출 장치
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제7항에 있어서,상기 시료 데이터 값들은 트레이스 모드로 상기 시료를 스캔하여 획득한 데이터 값들 및 리트레이스 모드로 상기 시료를 스캔하여 획득한 데이터 값들 중에서 적어도 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 왜곡 검출 장치
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제1항에 있어서,상기 시료 데이터 값들은 상기 하나 이상의 스캔라인을 포함하고 상기 시료 상에 설정되는 스캔영역에 대해 스캔모드 A에 따른 스캔을 수행하거나 스캔모드 B에 따른 스캔을 수행하거나 스캔모드 A에 따른 스캔 및 스캔모드 B에 따른 스캔을 연속적으로 수행하여 획득된 것이고, 상기 왜곡 검출부는 상기 시료 데이터 값들에서 상기 기움 왜곡 및 상기 히스테리시스 왜곡을 우선적으로 제거하고, 상기 기움 왜곡 및 상기 히스테리시스 왜곡이 제거된 데이터 값들(선 왜곡 제거 데이터 값들) 중에서 느린 스캔(Slow Scan)을 통해 획득되어 왜곡이 제거된 선 왜곡 제거 데이터 값들을 대응되는 시료 데이터 값들이 획득된 시간과 동기화되도록 시간 축을 기준으로 정렬하며, 상기 정렬된 선 왜곡 제거 데이터 값들의 시간에 흐름에 따른 변화를 분석하여 상기 크립 왜곡을 검출하는 것을 특징으로 하는 왜곡 검출 장치
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제11항에 있어서,상기 왜곡 검출부는 상기 정렬된 선 왜곡 제거 데이터 값들을 기 설정된 크립 왜곡 모델과 비교하여 상기 크립 왜곡을 검출하는 것을 특징으로 하는 왜곡 검출 장치
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제12항에 있어서,상기 크립 왜곡 모델은 시간의 흐름 및 크립 인자의 크기에 따라 왜곡의 크기가 변화하는 로그 함수로 표현되고, 상기 왜곡 검출부는 상기 정렬된 선 왜곡 제거 데이터 값과 상기 크립 왜곡 모델 사이의 차이가 최소가 되도록 하는 상기 크립 인자를 산출하고, 상기 산출된 크립 인자를 적용한 크립 왜곡 모델을 이용하여 상기 크립 왜곡을 검출하는 것을 특징으로 하는 왜곡 검출 장치
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주사 탐침 현미경에 구비된 Z 스캐너를 이용해 하나 이상의 스캔라인을 따라 시료를 스캔하여 획득되는 데이터 값들(시료 데이터 값들)에 존재하는 왜곡을 검출하는 방법에 있어서, 상기 하나 이상의 스캔라인 방향으로의 상기 시료 데이터 값들의 변화를 분석하여 상기 시료 데이터 값들에 존재하는 상기 시료의 기움에 의한 왜곡, 상기 Z 스캐너의 히스테리시스 특성에 의한 왜곡 및 상기 Z 스캐너의 크립 특성에 의한 왜곡 중에서 적어도 하나를 검출하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 왜곡 검출 방법
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