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NiO, pH 조절제, PdCl2, 안트라퀴논(Anthraquinone), PVP(Polyvinyl pyrrolidone) 및 물을 포함하는 수열합성 혼합물을 저장하며, 환원제 투입구가 마련되어 있는 밀폐된 상태의 반응 용기;상기 환원제 투입구를 통하여 환원제를 공급하는 환원제 공급기; 및상기 반응 용기 내에 저장된 수열합성 혼합물을 물의 끓는점 이상으로 가열하여 상기 반응 용기 내에서 수열합성이 이루어지도록 하는 히터;를 포함하고,상기 히터는 상기 수열합성 혼합물을 200 ~ 250℃로 가열하는 것을 특징으로 하는 니켈 분말 제조 장치
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제1항에 있어서,블레이드(blade)가 상기 반응 용기에 저장된 수열합성 혼합물에 침지되어, 회전에 의하여 상기 수열합성 혼합물을 교반하는 임펠러;를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 니켈 분말 제조 장치
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제1항에 있어서,상기 반응 용기에는 NiO : 2 ~ 5 중량%, PVP : 1 ~ 3 중량%, PdCl2 : 1x10-3 ~ 1
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제1항에 있어서,상기 수열합성 혼합물은NiSO4를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 니켈 분말 제조 장치
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제4항에 있어서,상기 NiSO4는상기 NiO 100 중량부에 대하여, 10 중량부 이하로 포함되는 것을 특징으로 하는 니켈 분말 제조 장치
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6
제1항에 있어서,상기 pH 조절제는 NaH2PO4 및 Na2HPO4 중 하나 이상 선택되는 것을 특징으로 하는 니켈 분말 제조 장치
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삭제
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제1항에 있어서,상기 환원제 공급기는 환원제로서, 수소 가스를 공급하는 것을 특징으로 하는 니켈 분말 제조 장치
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제8항에 있어서,상기 환원제 공급기는상기 수소 가스를 150 ~ 400 psi 분압으로 상기 반응 용기 내로 공급하는 것을 특징으로 하는 니켈 분말 제조 장치
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10
제1항에 기재된 니켈 분말 제조 장치를 이용하여 니켈 분말을 제조하는 방법에 있어서,(a) 반응 용기 내에, NiO : 2 ~ 5 중량%, PVP : 1 ~ 3 중량%, PdCl2 : 1x10-3 ~ 1
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11
제10항에 있어서,상기 수열합성 혼합물은상기 NiO 100 중량부에 대하여, 10 중량부 이하의 NiSO4를 더 포함하여, 상기 (c) 단계에서 상기 NiO 용해에 필요한 수소 이온을 제공하는 것을 특징으로 하는 니켈 분말 제조 방법
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제10항에 있어서,상기 (b) 단계는상기 수열합성 혼합물을 200 ~ 250℃로 가열하는 것을 특징으로 하는 니켈 분말 제조 방법
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제10항에 있어서,상기 (c) 단계에서, 상기 수소 가스는 150 ~ 400 psi 분압으로 공급되는 것을 특징으로 하는 니켈 분말 제조 방법
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제10항에 있어서,상기 (c) 단계에서, 상기 NiO의 용해는 4 ≤ pH ≤ 6 분위기 하에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 니켈 분말 제조 방법
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