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염화희토류 수화물을 수용하는 수용부;상기 수용부에 수용된 상기 염화희토류 수화물을 단계적으로 온도를 높이며 가열하여 수분을 제거하도록, 상기 수용부를 감싸는 가열부;상기 염화희토류 수화물의 탈수화 공정 중에 희토류 산화물 또는 옥시염화물의 생성을 차단하도록, 상기 수용부에 비활성 가스를 공급하는 가스공급부; 및탈수화 공정을 제어하기 위한 전자제어장치;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 염화희토류 수화물의 수분 제거장치
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제1항에 있어서, 상기 수용부는 상부에 감압장치와 연결된 출구관이 구비되고, 하부에 출입관을 통해 공급되는 가스를 균일하게 분산시키기 위한 가스 분산판(sintered plate)이 구비되며, 상기 가스 분산판 상부에 전자제어장치와 연결된 온도계가 구비되는 것을 특징으로 하는 염화희토류 수화물의 수분 제거장치
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제1항에 있어서, 상기 가스공급부는 전자제어장치와 연결되는 유량계가 구비되고, 비활성 가스를 수용부로 운송하는 중에 예열하도록 가열코일이 구비되는 것을 특징으로 하는 염화희토류 수화물의 수분 제거장치
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제1항에 있어서, 상기 전자제어장치는 수용부 내부의 온도, 가열부의 온도, 가스공급부로부터 주입되는 가스의 온도 및 유입량을 제어하는 것을 특징으로 하는 염화희토류 수화물의 수분 제거장치
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제1항에 있어서, 상기 비활성 가스는 60-100 ℃로 예열되어 수용부에 공급되는 것을 특징으로 하는 염화희토류 수화물의 수분 제거장치
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제1항에 있어서, 상기 비활성 가스는 1-20ℓ/분의 속도로 수용부에 공급되는 것을 특징으로 하는 염화희토류 수화물의 수분 제거장치
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제1항에 있어서, 상기 비활성 가스는 아르곤 가스인 것을 특징으로 하는 염화희토류 수화물의 수분 제거장치
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제2항에 있어서, 상기 가스 분산판은 직경 0
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염화희토류 수화물을 60-100 ℃의 온도 범위로 1차 열처리하며, 비활성 가스를 공급하는 단계(단계 1);상기 단계 1에서 1차 열처리를 거친 염화희토류 수화물을 130-170 ℃의 온도 범위로 2차 열처리하며, 비활성 가스를 공급하는 단계(단계 2); 및상기 단계 2에서 2차 열처리를 거친 염화희토류 수화물을 210-250 ℃의 온도 범위로 3차 열처리하며, 비활성 가스를 공급하는 단계(단계 3)를 포함하는 염화희토류 수화물의 수분 제거방법
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제9항에 있어서, 상기 단계 1 이후에 염화희토류 수화물을 분쇄하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 염화희토류 수화물의 수분 제거방법
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제9항에 있어서, 상기 각 단계에서의 열처리는 1-3시간 동안 유지되는 것을 특징으로 하는 염화희토류 수화물의 수분 제거방법
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제9항에 있어서, 상기 비활성 가스는 60-100 ℃로 예열되어 공급되는 것을 특징으로 하는 염화희토류 수화물의 수분 제거방법
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제9항에 있어서, 상기 비활성 가스는 아르곤 가스인 것을 특징으로 하는 염화희토류 수화물의 수분 제거방법
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