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1개의 상부 기판, 2개 이상의 내부 기판, 1개의 하부 기판을 포함하는 다층의 기체 크로마토그래피용 칩에 있어서,상기 상부 기판 및 하부 기판은 일면 또는 양면 상에 미세기로가 구비되어 있고, 내부 기판은 양면상에 미세기로가 구비되어 있으며, 상기 각 기판의 미세기로가 일치하도록 적층시 포개어짐으로써 미세채널을 형성하고,상기 상부 기판에는 주입구 역할을 하는 하나의 천공이 구비되며, 상기 내부 기판에는 연결구 역할을 하는 하나의 천공이 구비되고, 상기 하부 기판에는 배출구 역할을 하는 하나의 천공이 구비되며,상기 각 기판에서 미세기로가 구비되지 않은 구역에 칩내 온도를 조절하는 열전달 접촉부를 구비하고,상기 미세채널의 길이는 상기 내부 기판의 수가 늘어남에 따라 길어지고,상기 기체 크로마토그래피용 칩은 층마다 서로 다른 고정상을 코팅하여, 미세채널의 극성을 조절하는 것을 특징으로 하는 다층의 기체 크로마토그래피용 칩
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제1항에 있어서,상기 기판은 글래스웨이퍼, 석영웨이퍼, 폴리디메틸실록산웨이퍼, 실리콘웨이퍼, 실리케이트웨이퍼, 보로실리케이트웨이퍼 및 용융실리카웨이퍼로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 다층의 기체 크로마토그래피용 칩
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제1항에 있어서,상기 기체 크로마토그래피용 칩은 기체-고체 크로마토그래피 또는 기체-액체 크로마토그래피에 적용하는 것을 특징으로 하는 다층의 기체 크로마토그래피용 칩
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삭제
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제1항에 있어서,상기 열전달 접촉부에는 온도제어 장치를 장착하여 칩의 온도를 고속정밀 제어하는 것을 특징으로 하는 다층의 기체 크로마토그래피용 칩
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제6항에 있어서,상기 온도제어 장치는 펠티어소자인 것을 특징으로 하는 다층의 기체 크로마토그래피용 칩
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미세채널 패턴을 디자인하기 위하여, CAD 프로그램을 이용하여 포토마스크를 준비하는 단계(단계 1);정렬 키(Alignment Key)에 고정된 기판에 포토레지스트를 도포하고, 상기 단계 1에서 준비한 포토마스크를 이용하여 포토리소그래피 방법으로 기판에 미세채널 패턴이 형성된 마스터를 준비하는 단계(단계 2);상기 단계 2에서 준비한 마스터를 에칭하여 미세채널이 형성된 기판을 준비하는 단계(단계 3);상기 단계 3에서 준비한 미세채널이 형성된 기판에 고정상을 코팅하는 단계(단계 4); 및상기 단계 1-4의 과정으로 준비한 기판들을 미세채널 패턴이 서로 마주하도록 적층하는 단계(단계 5)를 포함하는 제1항의 다층의 기체 크로마토그래피용 칩의 제조방법
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제8항에 있어서,상기 단계 1-3의 과정으로 기판의 단면 또는 양면에 미세채널을 형성하는 것을 특징으로 하는 다층의 기체 크로마토그래피용 칩의 제조방법
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제8항에 있어서,상기 정렬 키는 여러 기판의 동일한 위치에 미세채널을 형성하도록 하는 것을 특징으로 하는 다층의 기체 크로마토그래피용 칩의 제조방법
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제8항에 있어서,상기 단계 5에서 기판들을 적층할 때, 각각의 층마다 서로 다른 고정상이 코팅된 기판이 위치하도록 적층하는 것을 특징으로 하는 다층의 기체 크로마토그래피용 칩의 제조방법
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제8항에 있어서,상기 기판은 글래스웨이퍼, 석영웨이퍼, 폴리디메틸실록산웨이퍼, 실리콘웨이퍼, 실리케이트웨이퍼, 보로실리케이트웨이퍼 및 용융실리카웨이퍼로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 다층의 기체 크로마토그래피용 칩의 제조방법
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제8항에 있어서,상기 기체 크로마토그래피용 칩은 기체-고체 크로마토그래피 또는 기체-액체 크로마토그래피에 적용하는 것을 특징으로 하는 다층의 기체 크로마토그래피용 칩의 제조방법
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제1항에 따른 다층의 기체 크로마토그래피용 칩을 이용하여,상기 기체 크로마토그래피용 칩의 주입구에 시료를 주입하는 단계(단계 1); 및상기 단계 1에서 주입된 시료를 분석하는 단계(단계 2)를 포함하는 시료의 성분을 분석하는 방법
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제14항에 있어서,상기 다층의 기체 크로마토그래피용 칩의 열전달 접촉부에 온도제어 장치를 장착하여, 칩의 온도를 고속정밀 제어하는 것을 특징으로 하는 시료의 성분을 분석하는 방법
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