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고분자 기반 집적형 분광분석 모듈을 제조하기 위한 스탬프의 제조 방법으로서,실리콘 기판 위에 포토레지스트를 스핀 코팅하는 단계;포토마스크를 사용하는 포토리소그래피 공정을 통해 광 도파로부, 오목 거울 및 정렬 가이드 패턴을 포함하는 스탬프 패턴을 형성하는 단계;상기 스탬프 패턴을 열처리하는 단계;상기 스탬프 패턴을 이용한 복제 주조 공정에 의하여 1차 PDMS(polydimethylsiloxane) 금형을 제작하는 단계;별도 제작된 회절 격자를 상기 정렬 가이드 패턴에 삽입하여 PDMS 원형 마스터를 제작하는 단계; 및상기 PDMS 원형 마스터를 2번 복제 주조하여 UV 임프린트용 PDMS 스탬프를 제작하는 단계를 포함하는 스탬프의 제조 방법
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제3항에 있어서, 상기 정렬 가이드 패턴은,상기 회절 격자를 삽입하기 위한 제1 정렬 가이드 패턴과 PDA와 광섬유를 결합하기 위한 제2 정렬 가이드 패턴을 포함하는 스탬프의 제조 방법
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고분자 기반 집적형 분광분석 모듈의 제조 방법으로서,광 도파로부, 오목 거울 및 회절 격자 패턴이 형성된 UV 임프린트용 PDMS 스탬프를 이용하여 코어층으로 이루어진 분광분석 모듈 패턴을 성형하는 단계;상기 코어층의 상하부에 클래드층을 형성하는 단계; 및상기 오목 거울 및 회절 격자 패턴의 반사면에 금속을 증착하는 단계를 포함하는 분광분석 모듈의 제조 방법
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제5항에 있어서,상기 UV 임프린트용 PDMS 스탬프에는 포토다이오드 어레이(PDA: photo-diode array)와 광섬유를 결합하기 위한 정렬 가이드 패턴이 더 형성되어 있는 분광분석 모듈의 제조 방법
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제6항에 있어서, 상기 금속을 증착하는 단계 이후에,PDA와 광섬유를 결합하는 단계를 더 포함하는 분광분석 모듈의 제조 방법
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제5항에 있어서, 상기 금속을 증착하는 단계에서는,전자빔 증착(e-beam evaporation) 기법에 의하여 금(Au)을 증착하는 분광분석 모듈의 제조 방법
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