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유리기판에 투명 전극 산화막(Transparent Conductive Oxide; TCO) 용액을 분무하여 증착하는 하드 로이 유리 제조장치에 있어서,진공챔버 내부를 진공 상태로 유지시켜 이로 인해 투명 전극 산화막 내 비결합 산소의 양을 감소시킴으로써 하드 로이 유리의 투명도를 높이면서 면 저항을 낮추어 단열 성능을 높이게 하는 진공펌프;상기 유리기판을 가열하는 히팅판; 및상기 히팅판에 의해 가열된 유리기판에 상기 투명 전극 산화막 용액을 분무하는 노즐을 포함하는 초음파 분무기를 포함하며,상기 유리기판, 상기 히팅판, 및 상기 초음파 분무기는 상기 진공챔버 내에 위치하는 것을 특징으로 하는,하드 로이 유리 제조장치
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제 1 항에 있어서,노즐과 연결된 XY 스테이지를 더 포함하며,상기 XY 스테이지는 스텝모터에 의해 제어되어 상기 노즐이 상기 투명 전극 산화막 용액을 상기 유리기판의 전면에 도포할 수 있는 것을 특징으로 하는,하드 로이 유리 제조장치
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제 1 항에 있어서,상기 진공챔버 내로 고순도 질소가스를 주입하는 질소가스 공급부; 및상기 고순도 질소가스의 주입을 제어하는 밸브를 더 포함하는 것을 특징으로 하는,하드 로이 유리 제조장치
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제 1 항에 있어서,상기 초음파 분무기와 연결되어 상기 초음파 분무기에 상기 투명 전극 산화막 용액을 공급하는 투명 전극 산화막 용액공급부를 더 포함하며,상기 투명 전극 산화막 용액공급부는 상기 진공챔버의 외부에 위치하여 상기 진공챔버의 진공상태를 유지하면서 상기 투명 전극 산화막 용액공급부에 투명 전극 산화막 용액을 공급할 수 있는 것을 특징으로 하는, 하드 로이 유리 제조장치
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유리기판에 투명 전극 산화막(Transparent Conductive Oxide; TCO) 용액을 분무하여 증착하는 하드 로이 유리 제조방법에 있어서,(a) 상기 유리기판이 글로브 박스 내에 위치한 히팅판에 장착되는 단계;(b) 상기 글로브 박스가 진공펌프에 의해 진공 배기되는 단계;(c) 상기 히팅판이 상기 히팅판에 장착된 유리기판을 가열하는 단계; 및(d) 초음파 분무기가 상기 가열된 유리기판에 상기 투명 전극 산화막 용액을 분무하는 단계를 포함하되,상기 진공펌프는 진공챔버 내부를 진공 상태로 유지시켜 이로 인해 투명 전극 산화막 내 비결합 산소의 양을 감소시킴으로써 하드 로이 유리의 투명도를 높이면서 면 저항을 낮추어 단열 성능을 높이게 하는 것을 특징으로 하는,하드 로이 유리 제조방법
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제 5 항에 있어서,상기 (a) 단계 이전에,(1) 상기 유리기판이 절단 및 에지 그라인딩되는 단계;(2) 상기 유리기판이 세정 및 건조되는 단계; 및(3) 상기 유리기판 표면이 활성화되는 단계를 더 포함하며,상기 유리기판 표면의 활성화는 대기압 플라즈마를 이용하는 것을 특징으로 하는,하드 로이 유리 제조방법
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제 5 항에 있어서,상기 (b) 단계에서,상기 글로브 박스는 진공 배기되고, 동시에 상기 글로브 박스 내에 4~6N의 고순도 질소가스가 충진되는 것을 특징으로 하는, 하드 로이 유리 제조방법
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제 5 항에 있어서,상기 (c) 단계에서,상기 히팅판은 상기 히팅판에 장착된 유리기판을 360~400℃로 가열하는 것을 특징으로 하는,하드 로이 유리 제조방법
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제 5 항에 있어서,상기 (d) 단계에서,상기 초음파 분무기에 의해 분무되는 상기 투명 전극 산화막 용액의 액적의 지름이 5~15㎛인 것을 특징으로 하는,하드 로이 유리 제조방법
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제 5 항에 있어서,상기 (d) 단계에서,상기 투명 전극 산화막 용액은 주석(Sn), 아연(Zn), 인듐(In), 플루오르(F), 알루미늄(Al), 및 티타늄(Ti) 중 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는,하드 로이 유리 제조방법
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제 10 항에 있어서,상기 (c) 단계 이후,상기 (d) 단계는, 상기 투명 전극 산화막 용액은 그 성분을 변경하여 반복되는 것을 특징으로 하는,하드 로이 유리 제조방법
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