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기판의 외주면에 서로 대향하도록 한쌍의 전극을 형성하는 단계;상기 전극을 포함하여 기판 상에 투명 전도성 산화물을 포함하는 발열층을 형성하는 단계;상기 발열층을 레이저로 스크라이빙하여 기판 일부가 외부로 드러나도록 패턴화된 발열층을 형성하는 단계;상기 패턴화된 발열층을 포함하도록 기판 전면에 걸쳐 절연층을 형성하는 단계를 포함하는 투명 면상 발열체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 기판은 단일 실리콘, p-Si, 규산알칼리계 유리, 무알칼리 유리, 석영 유리, 실리콘 기판, 폴리아크릴레이트, 폴리에틸렌, 폴리우레탄, 에폭시, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리이미드, 폴리아마이드 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 1종을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 면상 발열체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 전극은 은, 금, 백금, 알루미늄, 구리, 크롬, 바나듐, 마그네슘, 티타늄, 주석, 납, 팔라듐, 텅스텐, 니켈, 및 이들의 합금으로 이루어진 군에서 선택된 1종을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 면상 발열체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 전극은 그라비아 인쇄, 플락소 인쇄, 콤마 인쇄, 슬릿 코팅, 스프레이 코팅, 스크린 인쇄, 오프셋 인쇄, 라미네이트, 그린 시트 공법, 리프트-오프법, 포토리쏘그래피, 스퍼터링, E-빔 증착, 이온 플레이팅, 화학 기상 증착, 플라즈마 화학 기상 증착, 열 증착, 레이저 분자빔 증착, 펄스 레이저 증착, 또는 원자층 증착법 중 어느 하나를 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 투명 면상 발열체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 투명 전도성 산화물은 ITO(Indium Tin Oxide), ZTO(Zinc Tin Oxide), IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide), ZAO(Zinc Aluminum Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide), ZnO(Zinc Oxide) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 1종을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 면상 발열체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 투명 전도성 산화물은 직경이 10∼800nm인 입자로 제조된 것을 특징으로 하는 투명 면상 발열체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 패턴화된 발열층은 스트라이프, 모눈, 물결 무늬, 지그재그, 마름모, 원형 및 이들이 조합된 형태 중 어느 하나의 형태로 패턴화되는 것을 특징으로 하는 투명 면상 발열체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 발열층의 패턴은 폭이 1∼100mm인 것을 특징으로 하는 투명 면상 발열체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 발열층은 패턴끼리 10nm∼5mm의 간격으로 이격하도록 배치된 것을 특징으로 하는 투명 면상 발열체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 발열층은 두께가 1∼1000㎛인 것을 특징으로 하는 투명 면상 발열체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 발열층의 패턴은 폭이 1∼100mm, 패턴 간 간격이 10nm∼5mm, 두께가 0
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제1항에 있어서, 상기 발열층의 패턴은 발열층 형성용 조성물을 슬러리 코팅, 또는 스프레이 코팅 후 레이저로 스크라이빙하는 것을 특징으로 하는 투명 면상 발열체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 절연층은 나일론, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리카보네이트, 폴리아미드, 불소 수지 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 1종을 포함하는 것을 특징으로 하는 투명 면상 발열체의 제조방법
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제13항에 있어서, 상기 절연층은 그라비아 인쇄, 플락소 인쇄, 콤마 인쇄, 슬릿 코팅, 스프레이 코팅, 스크린 인쇄, 오프셋 인쇄, 라미네이트, 그린 시트 공법, 리프트-오프법, 포토리쏘그래피, 스퍼터링, E-빔 증착, 이온 플레이팅, 화학 기상 증착, 플라즈마 화학 기상 증착, 열 증착, 레이저 분자빔 증착, 펄스 레이저 증착, 또는 원자층 증착법 중 어느 하나를 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 투명 면상 발열체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 투명 면상 발열체는 가시광선 투과율이 최소 50% 이상이며, 헤이즈값이 0
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