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샤워헤드에 잔류하는 반응기체를 반응실 외부로 배출시킬 수 있는 화학기상증착 장치 및 방법

  • 기술번호 : KST2014061805
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명에 따른 화학기상증착 장치 및 방법은, 반응기체와는 별도로 분사조절기체를 샤워헤드(20) 안으로 공급하되, 통상적인 증착공정 중에는 분사조절기체가 샤워헤드(20)로부터 단독으로 또는 반응기체와 혼합되어 기판(30) 쪽으로 분사되지만, 기판(30) 쪽으로의 반응기체의 분사를 중단하고자 할 때에는 샤워헤드 내에 잔류하는 반응기체가 분사조절기체의 압력에 의해 반응챔버(10) 밖으로 배출되어 제거되도록 하는 것을 특징으로 한다. 따라서 샤워헤드(20)로의 반응기체 공급을 단속하고 스위칭하는 과정에서 샤워헤드(20) 내에 잔류하던 반응기체가 원하지 않게 기판(30) 쪽으로 지속 분사되는 것을 방지할 수 있다. 본 발명에 의하면 막의 품질이 저하되거나 성분이 서로 달라야 할 막의 계면에서 조성 절환이 명확히 이루어지지 않는 종래의 문제점 등을 해결할 수 있다.
Int. CL C23C 16/455 (2006.01) C23C 16/44 (2006.01)
CPC C23C 16/45565(2013.01) C23C 16/45565(2013.01) C23C 16/45565(2013.01)
출원번호/일자 1020120038495 (2012.04.13)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-1470476-0000 (2014.12.02)
공개번호/일자 10-2013-0115821 (2013.10.22) 문서열기
공고번호/일자 (20141208) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.04.13)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 변철수 대한민국 충남 천안시 서북구
2 정일용 대한민국 충남 천안시 서북구
3 최현석 대한민국 경기 용인시 수지구
4 김종석 대한민국 경기 안산시 단원구
5 최경락 대한민국 경기 의왕시 내손로 **, *

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이종우 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, **,**층(역삼동, 동희빌딩)(특허법인아주)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 충청남도 천안시 서북구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.04.13 수리 (Accepted) 1-1-2012-0294692-32
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5090658-47
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2013-5017806-08
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.03.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.04.09 수리 (Accepted) 9-1-2013-0026308-50
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.09.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0627879-76
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2013.11.05 수리 (Accepted) 1-1-2013-1006031-10
8 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2013.12.03 수리 (Accepted) 1-1-2013-1104833-97
9 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2014.01.03 수리 (Accepted) 1-1-2014-0005623-72
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.02.05 수리 (Accepted) 1-1-2014-0114915-22
11 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2014.03.04 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0159424-51
12 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Extension of Legal Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration)
2014.04.03 무효 (Invalidation) 7-1-2014-0012763-15
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.04.04 수리 (Accepted) 1-1-2014-0324696-32
14 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2014.04.04 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2014-0324710-95
15 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.04.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0296273-88
16 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.05.21 수리 (Accepted) 1-1-2014-0476288-93
17 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.05.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0476277-91
18 등록결정서
Decision to Grant Registration
2014.10.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0688937-24
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5006834-98
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
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번호 청구항
1 1
반응챔버와, 상기 반응챔버 내에 설치되는 샤워헤드와, 상기 샤워헤드에 공정기체를 공급하는 공정기체공급수단를 포함하여 이루어지고, 상기 샤워헤드는, 분사조절기체 주입구와 분사조절기체 배출구를 가지는 분사조절기체 확산실;반응기체 주입구와 반응기체 배출구를 가지는 반응기체 확산실; 및상기 분사조절기체 배출구에서 배출되는 분사조절기체와 상기 반응기체 배출구에서 배출되는 반응기체가 서로 혼합되는 공간을 제공하도록 상기 분사조절기체 배출구 및 반응기체 배출구에 연결 설치되며, 일면에는 혼합된 기체가 상기 반응챔버 내로 분사되도록 분사공이 형성되는 혼합실;을 포함하여 이루어지며, 상기 공정기체공급수단은, 상기 반응기체 주입구로의 반응기체 공급이 중단되는 경우에, 상기 분사조절기체 주입구를 통하여 상기 샤워헤드 내부로 공급되는 분사조절기체의 압력으로 인해, 상기 샤워헤드 내부에 잔류하는 반응기체가 상기 샤워헤드에 연결 설치되는 바이패스 배출관을 통하여 상기 반응챔버의 외부로 배출되도록 설치되는 것을 특징으로 하는 화학기상증착장치
2 2
제1항에 있어서, 상기 공정기체공급수단은, 상기 분사조절기체 주입구에 분사조절기체를 공급하는 분사조절기체 공급관;상기 반응기체 주입구에 반응기체를 공급하는 반응기체 공급관;상기 분사조절기체 공급여부를 결정하도록 상기 분사조절기체 공급관에 설치되는 분사조절기체 공급밸브;상기 반응기체 공급여부를 결정하도록 상기 반응기체 공급관에 설치되는 반응기체 공급밸브; 및상기 바이패스 배출관을 통한 반응기체 배출여부를 결정하도록 상기 바이패스 배출관에 바이패스 배출밸브;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 화학기상증착장치
3 3
제2항에 있어서, 상기 바이패스 배출관이 상기 반응기체 공급관에 연결 설치되는 것을 특징으로 하는 화학기상증착장치
4 4
제1항에 있어서, 상기 바이패스 배출관이 상기 반응챔버에 설치되는 배기관에 연결 설치되는 것을 특징으로 하는 화학기상증착장치
5 5
제2항에 있어서, 상기 공정기체공급수단은, 상기 반응챔버 내에서 증착공정이 진행되지 않을 경우 상기 분사조절기체 공급밸브와 상기 바이패스 배출밸브는 열리고 상기 반응기체 공급밸브가 닫히도록 제어하는 제어수단을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 화학기상증착장치
6 6
제1항에 있어서, 상기 분사조절기체 확산실과 상기 반응기체 확산실이 직렬적으로 배열되되 상기 분사조절기체 확산실이 상기 반응기체 확산실보다 더 기판 쪽에 위치하도록 설치되는 것을 특징으로 하는 화학기상증착장치
7 7
제1항에 있어서, 상기 샤워헤드 내부로 유입되는 분사조절기체와 반응기체가 다단계에 걸친 확산 과정을 거친 후 상기 혼합실로 유입되도록 상기 분사조절기체 확산실 및 반응기체 확산실 각각이 복수개의 격실로 분리되어 설치되는 것을 특징으로 하는 화학기상증착장치
8 8
제1항에 있어서, 상기 샤워헤드는 복수개가 직렬적으로 쌓이도록 배열되어 이루어지며, 상기 공정기체공급수단은 각각의 샤워헤드에 대해 독립적인 동작하도록 설치되는 것을 특징으로 하는 화학기상증착장치
9 9
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10 10
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