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복합 기공을 갖는 커패시터 전극 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2014062227
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 복합 기공을 갖는 커패시터 전극 및 그 제조방법에 관한 것으로, 자세하게는 균일한 매크로 기공을 갖는 메조포러스 물질을 이중 템플리팅(dual templating)을 통한 간단한 방법으로 제조하고 커패시터 전극에 이를 도입함으로써, 메조 기공이 갖는 장점인 넓은 표면적에 의한 높은 흡착 능력과 매크로 기공이 갖는 장점인 물질전달의 용이성을 복합적으로 얻을 수 있는 기술에 관한 것이다.본 발명에 따르면, 메조/매크로포러스 물질을 커패시터 전극에 적용하여 높은 수열 안정성과 유효 비표면적을 얻을 수 있고, 물질전달의 용이성을 확보함으로써 전해질 이온의 흡착과 탈착에서 큰 장점을 보이며, 나아가 이에 따른 충전 및 방전 속도의 향상 효과를 얻을 수 있다.
Int. CL H01G 11/86 (2013.01) H01G 11/26 (2013.01)
CPC H01G 11/86(2013.01) H01G 11/86(2013.01) H01G 11/86(2013.01) H01G 11/86(2013.01)
출원번호/일자 1020130035886 (2013.04.02)
출원인 한국세라믹기술원
등록번호/일자 10-1549481-0000 (2015.08.27)
공개번호/일자 10-2014-0120148 (2014.10.13) 문서열기
공고번호/일자 (20150903) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.04.02)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 대한민국 경상남도 진주시 소호로 ***

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 윤지선 대한민국 경기 의왕시 부곡복지관길 **
2 백종후 대한민국 경기 안양시 동안구
3 조정호 대한민국 경기 수원시 장안구
4 정영훈 대한민국 경기도 광명시 디지털로
5 남중희 대한민국 경기 군포시 고산로***번길 **, *

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인(유)화우 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로***길 **, *층 (대치동, 삼호빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국세라믹기술원 대한민국 경상남도 진주시 소호로 *
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2013.04.02 수리 (Accepted) 1-1-2013-0286922-41
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.01.03 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000353-25
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2014.01.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2014.02.11 수리 (Accepted) 9-1-2014-0011295-38
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.05.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0370543-25
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.07.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0712450-64
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.07.28 수리 (Accepted) 1-1-2014-0712451-10
8 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal		 2014.11.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0792039-12
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2015.01.06 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2015-0010417-25
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2015.01.06 수리 (Accepted) 1-1-2015-0010418-71
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.03.31 수리 (Accepted) 4-1-2015-5040685-78
12 등록결정서
Decision to grant		 2015.05.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0359861-60
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
메조 기공에 매크로 기공을 도입하여 메조포러스 물질의 특성인 높은 유효 비표면적의 장점을 그대로 유지하면서, 동시에 매크로 기공으로 인해 전해질 이온과 전해질 용매의 결합체가 흡착 및 탈착을 함에 있어 전극 표면에 있는 흡착 및 탈착 지점으로의 물질 전달을 통한 이동성이 향상되는 커패시터 전극의 제조방법에 있어서,유화중합법(emulsion polymerization)에 의해 매크로 고분자 구형입자를 합성하는 단계;상기 합성된 매크로 고분자 구형입자를 얼음결정법(ice-crystallization)에 의해 균일하게 정렬시켜 콜로이달 결정 템플릿(colloidal crystal template)을 제조하는 단계;상기 균일하게 정렬된 고분자 구형입자를 액정 템플릿(liquid crystal template)을 형성시키기 위한 혼합용액과 혼합하여 이중 템플릿(dual template)을 제조하는 단계;상기 제조된 이중 템플릿의 공극에 전극용 무기물질을 주입하여 유무기 복합체를 형성하는 단계;상기 유무기 복합체로부터 이중 템플릿만을 제거하기 위하여 건조 및 소성하는 단계; 및활성탄, 탄소나노튜브(CNT), 탄소나노섬유(CNF) 및 그래핀(graphene) 중 어느 하나 이상을 포함하는 다공성 탄소소재와 혼합하여 복합체를 형성하는 단계;를 포함하며,상기 복합체는 (i) 상기 매크로 기공의 크기가 250 ㎚일 때, 방전조건 0
2 2
제1항에 있어서,고분자 구형입자를 합성하는 단계에서, 상기 고분자 구형 입자의 크기를 100~1000nm로 조절하는 것을 특징으로 하는 복합 기공을 갖는 커패시터 전극의 제조방법
3 3
제1항에 있어서,상기 이중 템플릿을 제조하는 단계에서, 상기 액정 템플릿을 형성시키기 위한 혼합용액이 i) 산 수용액과 삼블럭 공중합체(triblock copolymer)의 혼합용액 또는 ⅱ) 물과 계면활성제의 혼합용액인 것을 특징으로 하는 복합 기공을 갖는 커패시터 전극의 제조방법
4 4
제1항에 있어서,상기 전극용 무기물질을 주입하는 단계에서, 전극용 무기물질로서 실리카 소스를 주입하여 이중 템플릿의 공극에서 졸-젤(sol-gel) 반응을 유도하는 것을 특징으로 하는 복합 기공을 갖는 커패시터 전극의 제조방법
5 5
제4항에 있어서,상기 실리카 소스로서 TEOS(tetraethyl orthosilicate) 또는 규산나트륨(sodium silicate)이 사용되는 것을 특징으로 하는 복합 기공을 갖는 커패시터 전극의 제조방법
6 6
제1항에 있어서,상기 건조 및 소성단계에서, 상기 이중 템플릿과 이를 둘러싼 전극용 무기물질로 구성된 유무기 복합물에서 구조의 붕괴 없이 이중 템플릿만이 제거되어 균일한 매크로기공이 형성된 메조포러스 물질이 얻어지는 것을 특징으로 하는 복합 기공을 갖는 커패시터 전극의 제조방법
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제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 방법에 의하여 제조된 커패시터 전극으로서, 균일한 매크로기공이 형성된 메조기공 물질로 이루어져, 물질 전달 능력이 향상된 것을 특징으로 하는 커패시터 전극
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11 11
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지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.