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도전성 고분자 수지 제조 방법에 있어서, ECR에 의해 불활성기체를 고밀도 플라즈마 이온으로 형성시키는 단계; 액체 또는 기체상태의 유기금속 전구체를 공급하여 상기 플라즈마 이온과 충돌시켜 유기 금속 이온을 형성하는 단계; 상기 유기 금속 이온을 자기장을 이용하여 1차 가속하는 단계; 1차 가속된 상기 유기 금속 이온을 직류고전압 또는 펄스전압을 이용하여 2차 가속하여 상기 고분자 수지의 표면에 증착시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 ECR을 이용한 도전성 고분자 수지의 제조방법
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제 5항에 있어서, 상기 유기금속 전구체는 Li(acetate), (CH3)3Al, (C2H5)3Al, (C4H9)3Al, (CH3)3Bi, (C2H5)3Sb, (C3H7)3Sb, Ag(trifluoroacetate), Ag(acetate), (C2H5O)4Si, (C2H5)3SiH, (CH3)4Sn, (C2H5)4Sn, Cu(hfac)2, Cu(acac), Cu(DPM), (hfac)Cu(I)MP, (Hfac)Cu(I)(DMB), (COD)Pt(CH3)2, Pt(CH3)2(CH3NC)2, Pd(allyl)2, Ni(C5H5)2, Ni(CO)4, Pt(hfac)2중에서 선택된 어느 1종인 것을 특징으로 하는 ECR을 이용한 도전성 고분자 수지의 제조방법
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제 5항에 있어서, 상기 고분자 수지는 PS, PE, PP, ABS, PET, PETG, PVC, HIPS, PBT, PPS에서 선택된 범용 고분자수지, N6, N66, PC, PPO, PSU, PES, PEEK, PEI에서 선택된 엔지니어링 고분자, 그리고 상기 엔지니어링 고분자에 유리섬유로 컴파운딩(compounding)된 고분자수지로 구성된 그룹에서 선택된 어느 1종인 것을 특징으로 하는 ECR을 이용한 도전성 고분자 수지의 제조방법
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