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이온성 유화제, 탄소재료, 음이온성 개선제, 양이온성 개선제로부터 선택되는 어느 하나 이상의 첨가제 및 음이온계면활성제를 이용하여 코어-쉘형 키토산 입자를 제조하는 단계; 및 상기 제조된 키토산 입자의 코어 내에 존재하는 액상의 일부 또는 전부를 제거하여 쉘 멤브레인을 수득하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 코어-쉘형 키토산 비드의 제조방법
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제 1항에 있어서,
a) 키토산 분말을 아세트산 용액에 이온성 유화제, 탄소재료, 음이온성 개선제, 양이온성 개선제로부터 선택되는 어느 하나 이상의 첨가제를 첨가하여 키토산 용액을 제조하는 단계;
b) 상기 제조된 키토산 용액을 음이온계면활성제가 첨가된 겔화 용액에 떨어뜨려 키토산 입자를 제조하는 단계;
c) 상기 제조된 키토산 입자의 코어 내에 존재하는 용액의 일부 또는 전부를 제거하고 쉘 멤브레인 수득하는 단계;
를 포함하는 것을 특징으로 하는 코어-쉘형 키토산 비드의 제조방법
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삭제
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제 2항에 있어서,
상기 첨가제는 키토산 100 중량부에 대하여 2 내지 50 중량부로 첨가하는 것을 특징으로 하는 코어-쉘형 키토산 비드의 제조방법
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제 2항에 있어서,
상기 b) 단계의 음이온계면활성제는 겔화용액 100 중량부에 대하여 0
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제 5항에 있어서,
상기 음이온계면활성제는 탄소수가 12 내지 18개인 알킬기를 함유하는 알킬벤젠술폰산염, 올레핀 술폰산염, 알킬황산에스테르염, 알킬에테르 황산에스테르염, 알칸술폰산염, 바일산, 소듐데실설페이트, 소듐도데실벤젠설페이트, 디옥틸술포숙시네이트소듐, 및 소듐도데실 설페이트로부터 선택되는 어느 하나 이상인 것을 특징으로 하는 코어-쉘형 키토산 비드의 제조방법
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제 2항에 있어서,
상기 b) 단계 후, 제조된 키토산 비드에 표면개질 개선제, 공간충진제 및 가교결합제로부터 선택되는 어느 하나 이상인 개질제를 첨가하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 코어-쉘형 키토산 비드의 제조방법
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제 7항에 있어서,
상기 개질제는 키토산 100 중량부에 대하여 10 내지 200 중량부로 첨가하는 것을 특징으로 하는 코어-쉘형 키토산 비드의 제조방법
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제 2항에 있어서,
상기 c) 단계는 감압, 가압, 및 물리적 충격으로부터 선택되는 어느 하나 이상의 방법을 통해 키토산 입자 코어 내에 존재하는 용액의 일부 또는 전부를 제거하는 것을 특징으로 하는 코어-쉘형 키토산 비드의 제조방법
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제 1항, 제 2항, 및 제 4항 내지 제 9항에서 선택되는 어느 한 항에 있어서,
상기 코어-쉘형 키토산 비드는 코어-쉘의 내부와 외부가 연통될 수 있도록 기공이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 코어-쉘형 키토산 비드의 제조방법
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액상의 일부 또는 전부가 제거된 코어;
상기 코어를 둘러싸고 있는 키토산 쉘;
상기 쉘의 상부에 이온성 유화제, 탄소재료, 음이온성 개선제, 양이온성 개선제로부터 선택되는 어느 하나 이상의 첨가제를 함유하는 코팅층; 및
상기 형성된 코어-쉘의 내부와 외부가 연통될 수 있도록 기공이 형성되어져 있는 것을 특징으로 하는 코어-쉘형 키토산 비드
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삭제
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제 11항에 있어서,
상기 키토산 비드는 키토산 100 중량부에 대하여 음이온계면활성제 0
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제 11항에 따른 코어-쉘형 키토산 비드를 포함하는 것을 특징으로 하는 수처리용 키토산 흡착제
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제 14항에 있어서,
상기 키토산 흡착제는 음이온오염물질, 양이온오염물질, 유기오염물질로부터 선택되는 어느 하나 이상을 처리하는 것을 특징으로 하는 수처리용 키토산 흡착제
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