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플라즈마 용사 공정을 통해 기판상에 다공성 세라믹 코팅층을 형성하는 단계(단계 1); 상기 단계 1에서 형성된 다공성 세라믹 코팅층의 표면이 0
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소결공정을 통하여 다공성 세라믹 기판을 형성하는 단계(단계 a); 상기 단계 a에서 형성된 다공성 세라믹 기판의 표면이 0
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3
제1항에 있어서, 상기 기판은 평균 표면 거칠기가 0
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제1항에 있어서, 상기 다공성 세라믹 코팅층은 다공성 알루미나층인 것을 특징으로 하는 희토류 금속 산화물 코팅막의 제조방법
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5
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 희토류 금속 산화물 코팅막은 90% 이상의 치밀도를 가지는 것을 특징으로 하는 희토류 금속 산화물 코팅막의 제조방법
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제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 희토류 금속 산화물 코팅막의 두께는 1 내지 50 μm인 것을 특징으로 하는 희토류 금속 산화물 코팅막의 제조방법
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7
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 희토류 금속 산화물은 이트리아(Y2O3), 디스프로시아(Dy2O3), 어비아(Er2O3) 및 사마리아(Sm2O3)를 포함하는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 희토류 금속 산화물 코팅막의 제조방법
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8
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 코팅막은 반도체 식각장비를 포함하는 반도체 장비용 부품에 적용되는 것을 특징으로 하는 희토류 금속 산화물 코팅막의 제조방법
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삭제
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제1항에 있어서, 상기 단계 2의 가공은 샌드블라스트(sand blast)에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 희토류 금속 산화물 코팅막의 제조방법
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11
제10항에 있어서, 상기 샌드블라스트는 1 내지 5 기압의 공기압으로 수행되는 것을 특징으로 하는 희토류 금속 산화물 코팅막의 제조방법
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12
제1항에 있어서, 상기 단계 3의 에어로졸 성막법은 메디컬 그레이드의 압축공기를 사용하는 것을 특징으로 하는 희토류 금속 산화물 코팅막의 제조방법
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13
삭제
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제2항에 있어서, 상기 단계 b의 가공은 샌드블라스트(sand blast)에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 희토류 금속 산화물 코팅막의 제조방법
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제14항에 있어서, 상기 샌드블라스트는 1 내지 5 기압의 공기압으로 수행되는 것을 특징으로 하는 희토류 금속 산화물 코팅막의 제조방법
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제2항에 있어서, 상기 단계 c의 에어로졸 성막법은 메디컬 그레이드의 압축공기를 사용하는 것을 특징으로 하는 희토류 금속 산화물 코팅막의 제조방법
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