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이트리아 안정화 지르코니아층(YSZ)과; 및상기 이트리아 안정화 지르코니아층 하부에 위치하는 MCrAlY(M= Co, Ni 또는 이들간의 합금) 본드코팅층으로 구성되는 초내열합금 코팅용 열차폐 코팅층에 있어서,상기 본드코팅층은 열 성장 산화막 형성을 억제하기 위한 니오븀(Nb) 또는 니오븀-질소(Nb-N)를 포함하는 것을 특징으로 하는 초내열합금 코팅용 열차폐 코팅층
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제1항에 있어서, 상기 열차폐 코팅층이 니오븀을 포함하는 경우에는 1
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제1항에 있어서, 상기 열차폐 코팅층이 니오븀-질소를 포함하는 경우에는 니오븀 이온은 1
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열차폐 기능을 담당하는 이트리아 안정화 지르코니아층(YSZ)과; 및상기 이트리아 안정화 지르코니아층 하부에 위치하는 MCrAlY (M= Co, Ni 또는 이들간의 합금)본드코팅층으로 구성되는 초내열합금 코팅용 열차폐 코팅층에 있어서,상기 본드코팅층은 열 성장 산화막 형성을 억제하기 위한 니오븀을 6
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열차폐 기능을 담당하는 이트리아 안정화 지르코니아층(YSZ)과; 및상기 이트리아 안정화 지르코니아층 하부에 위치하는 MCrAlY(Co, Ni 또는 이들간의 합금)본드코팅층으로 구성되는 초내열합금 코팅용 열차폐 코팅층에 있어서,상기 본드코팅층은 열 성장 산화막 형성을 억제하기 위한 니오븀-질소를 각각 5
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초내열합금 표면에 MCrAlY(Co, Ni 또는 이들간의 합금) 분말을 진공 플라즈마 용사법으로 코팅시키는 단계(단계 1);상기 단계 1에서 제조된 코팅층에 플라즈마를 이용하여 이온상태물질을 주입하는 단계(단계 2); 및상기 단계 2에서 제조된 코팅층에 대기 플라즈마 용사법으로 이트리아 안정화 지르코니아를 코팅시키는 단계(단계 3)를 포함하는 이온 주입법을 이용한 열차폐 코팅층의 제조방법
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제7항에 있어서, 상기 단계 1의 코팅 이전에 초내열합금 표면을 그릿 블라스팅하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 이온 주입법을 이용한 열차폐 코팅층의 제조방법
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제7항에 있어서, 상기 단계 2의 이온상태물질은 니오븀 또는 니오븀-질소 이온인 것을 특징으로 하는 이온 주입법을 이용한 열차폐 코팅층의 제조방법
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제9항에 있어서, 상기 이온상태물질이 니오븀 이온인 경우에는 1
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제9항에 있어서, 상기 이온상태물질이 니오븀-질소 이온인 경우에는 니오븀 이온을 1
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제7항에 있어서, 상기 단계 1은 제조된 코팅층을 추가적으로 진공 후열처리하는 단계를 더 포함하되, 상기 진공 후열처리는 10-4-10-1Torr진공도에서 20 - 30 ℃/분의 승온속도로 550 - 570 ℃까지 승온시킨 후 1 - 30 분 동안 유지되게 하며, 1100 - 1140 ℃까지 승온시켜 170 - 190 분 동안 유지되게 한 후 냉각속도 1 - 10 ℃/분으로 915 - 935 ℃로 냉각시키고 5 - 20 ℃/분으로 530 - 550 ℃로 냉각시킨 후에는 가스 냉각시키는 것을 특징으로 하는 이온 주입법을 이용한 열차폐 코팅층의 제조방법
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초내열합금 표면에 MCrAlY(M= Co, Ni 또는 이들간의 합금) 분말을 진공 플라즈마 용사법으로 코팅시키는 단계(단계 1); 상기 단계 1에서 제조된 코팅층에 플라즈마를 이용하여 니오븀 이온을 6
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초내열합금 표면에 MCrAlY(M= Co, Ni 또는 이들간의 합금) 분말을 진공 플라즈마 용사법으로 코팅시키는 단계(단계 1); 상기 단계 1에서 제조된 코팅층에 플라즈마를 이용하여 니오븀-질소 이온을 각각 5
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