요약 | 본 발명의 목적은 능동형 유기 자체 발광 소자에 불량 화소가 발생된 경우, 선택적 펄스 폭 가변형 극초단 펄스 레이저를 사용하여 리페어를 수행함으로써, 리페어 공정을 통해 의도치 않은 신호가 전달되는 문제나 리페어 공정 시 불량 발생부 이외의 주변부로 공정 영향이 미쳐 손상이 발생되는 문제를 근본적으로 해결하여, 능동형 유기 자체 발광 소자 자체의 손상을 최소화하면서 리페어가 가능하게 하는, 선택적 펄스 폭 가변형 능동형 유기 자체 발광 소자의 비열 리페어 방법 및 장치를 제공함에 있다. 또한 본 발명의 목적은, 극초단 펄스 레이저를 사용하여 레이저 가공을 수행하되, 가공 대상물 또는 집속렌즈를 진동시킴으로써 가공 품질 및 절단 효율을 극대화하는, 선택적 펄스 폭 가변형 능동형 유기 자체 발광 소자의 비열 리페어 방법 및 장치를 제공함에 있다. |
---|---|
Int. CL | B23K 26/00 (2014.01) H01L 51/56 (2006.01) |
CPC | H01L 51/56(2013.01) H01L 51/56(2013.01) H01L 51/56(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020130044803 (2013.04.23) |
출원인 | 한국기계연구원 |
등록번호/일자 | 10-1450767-0000 (2014.10.07) |
공개번호/일자 | |
공고번호/일자 | (20141017) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 등록 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2013.04.23) |
심사청구항수 | 18 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국기계연구원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 조성학 | 대한민국 | 대전광역시 서구 |
2 | 윤지욱 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
3 | 김재구 | 대한민국 | 충청남도 금산군 |
4 | 황경현 | 대한민국 | 서울특별시 중구 청구로 |
5 | 최두선 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 김종관 | 대한민국 | 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스) |
2 | 박창희 | 대한민국 | 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스) |
3 | 권오식 | 대한민국 | 대전광역시 서구 한밭대로 ***번지 (둔산동, 사학연금회관) **층(특허법인 플러스) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국기계연구원 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2013.04.23 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0356666-22 |
2 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2014.03.06 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2014.04.08 | 수리 (Accepted) | 9-1-2014-0027358-35 |
4 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2014.05.09 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0317430-98 |
5 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2014.05.23 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-0486465-57 |
6 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2014.05.23 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2014-0486423-40 |
7 | 등록결정서 Decision to grant |
2014.07.18 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0489723-04 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2017.11.28 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5193093-72 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 능동형 유기 자체 발광 소자(Active Matrix Organic Light Emitting Diode, AMOLED)의 불량 화소를 리페어(repair)하는 방법으로서,능동형 유기 자체 발광 소자를 구성하는 각 레이어의 물성적 또는 형태적 특성에 따라 레이저의 문턱값(threshold) 및 펄스 폭을 포함하는 가공 조건을 결정하는 준비 단계;상기 결정된 가공 조건을 가지도록 처프 펄스 증폭(chirped pulse amplification)에 의하여 펄스 폭이 선택적으로 가변 조절되는 극초단 펄스 레이저를 능동형 유기 자체 발광 소자의 불량 화소의 가공 대상 부위에 조사하는 가공 단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 선택적 펄스 폭 가변형 레이저를 이용한 능동형 유기 자체 발광 소자의 비열 리페어 방법 |
2 |
2 제 1항에 있어서, 상기 가공 조건은레이저의 파장, 펄스 에너지, 반복률, 조사 시간을 포함하는 것을 특징으로 하는 선택적 펄스 폭 가변형 레이저를 이용한 능동형 유기 자체 발광 소자의 비열 리페어 방법 |
3 |
3 제 1항에 있어서, 상기 문턱값은109W/cm2 ~ 1012W/cm2 범위 내인 것을 특징으로 하는 선택적 펄스 폭 가변형 레이저를 이용한 능동형 유기 자체 발광 소자의 비열 리페어 방법 |
4 |
4 제 1항에 있어서, 상기 극초단 펄스 레이저는피코초(10-12s) 레이저, 펨토초(10-15s) 레이저 중 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 선택적 펄스 폭 가변형 레이저를 이용한 능동형 유기 자체 발광 소자의 비열 리페어 방법 |
5 |
5 제 4항에 있어서, 상기 극초단 펄스 레이저는펄스 폭이 10fs ~ 100ps 범위 내인 것을 특징으로 하는 선택적 펄스 폭 가변형 레이저를 이용한 능동형 유기 자체 발광 소자의 비열 리페어 방법 |
6 |
6 제 1항에 있어서, 상기 극초단 펄스 레이저는파장 대역이 Deep UV, UV, VIS(Visible), NIR(Near Infrared Ray), IR(Infrared) 중 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는 선택적 펄스 폭 가변형 레이저를 이용한 능동형 유기 자체 발광 소자의 비열 리페어 방법 |
7 |
7 제 6항에 있어서, 상기 극초단 펄스 레이저는파장이 102nm ~ 104nm 범위 내인 것을 특징으로 하는 선택적 펄스 폭 가변형 레이저를 이용한 능동형 유기 자체 발광 소자의 비열 리페어 방법 |
8 |
8 제 1항에 있어서, 상기 극초단 펄스 레이저는펄스 에너지가 1μJ ~ 1mJ 범위 내인 것을 특징으로 하는 선택적 펄스 폭 가변형 레이저를 이용한 능동형 유기 자체 발광 소자의 비열 리페어 방법 |
9 |
9 제 1항에 있어서, 상기 극초단 펄스 레이저는반복률이 1Hz ~ 1MHz 범위 내인 것을 특징으로 하는 선택적 펄스 폭 가변형 레이저를 이용한 능동형 유기 자체 발광 소자의 비열 리페어 방법 |
10 |
10 제 1항에 있어서, 상기 극초단 펄스 레이저는조사 시간이 1ns ~ 102s 범위 내인 것을 특징으로 하는 선택적 펄스 폭 가변형 레이저를 이용한 능동형 유기 자체 발광 소자의 비열 리페어 방법 |
11 |
11 제 1항에 있어서, 상기 가공 단계는가공 대상 부위에 대하여 능동형 유기 자체 발광 소자를 형성하는 레이어들 중 일부를 제거하여 리페어하거나, 또는 전체를 제거하여 홀을 형성하는 단계인 것을 특징으로 하는 선택적 펄스 폭 가변형 레이저를 이용한 능동형 유기 자체 발광 소자의 비열 리페어 방법 |
12 |
12 제 1항에 있어서, 상기 레이어 특성은레이어 재질의 물성적 특징으로서 파장에 대한 흡수율을 포함하며, 레이어의 형태적 특성으로서 레이어 두께를 포함하는 것을 특징으로 하는 선택적 펄스 폭 가변형 레이저를 이용한 능동형 유기 자체 발광 소자의 비열 리페어 방법 |
13 |
13 제 1항 내지 제 12항 중 선택되는 어느 한 항에 의한 방법을 사용하여 가공 대상물(500)인 능동형 유기 자체 발광 소자(Active Matrix Organic Light Emitting Diode, AMOLED)의 불량 화소를 리페어(repair)하는 장치(100)로서,극초단 펄스 레이저 광을 발생시키되, 처프 펄스 증폭(chirped pulse amplification)에 의하여 펄스 폭이 선택적으로 가변 조절되도록 이루어지는 레이저 광원(110);상기 레이저 광원(110)에서 발생된 레이저를 상기 가공 대상물(500)의 가공 대상 부위로 조사시키는 렌즈부(120);그 위에 상기 가공 대상물(500)이 놓여지며, X, Y, Z 3축 방향으로 이동 가능하게 형성되는 스테이지(130);상기 가공 대상물(500)의 가공 대상 부위를 촬영하여 영상 정보를 획득하는 촬영부(140);상기 촬영부(140)에서 획득된 영상 정보를 사용하여 상기 스테이지(130)의 3축 이동을 제어하는 제어부(150);를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 선택적 펄스 폭 가변형 레이저를 이용한 능동형 유기 자체 발광 소자의 비열 리페어 장치 |
14 |
14 제 13항에 있어서, 상기 레이저 광원(110)은극초단 펄스 레이저 광을 발생시키는 시드 레이저(seed laser, 111), 상기 시드 레이저(111)에서 발생된 레이저 광을 증폭하는 예비 증폭기(pre-amplifier, 112), 상기 예비 증폭기(112)에서 증폭된 레이저 광의 펄스폭을 신장하는 펄스 신장기(pulse stretcher, 113), 펌핑용 레이저 광을 발생시키는 펌프 레이저(pump laser, 114), 상기 펄스 신장기(113) 및 상기 펌프 레이저(114)에서 입력된 레이저 광들을 증폭하는 다중 증폭기(multipass-amplifier, 115), 각도가 가변되는 적어도 한 쌍의 회절 격자(116a, 116b)와 적어도 하나의 미러(116c)와 적어도 하나의 편광판(116d)을 포함하여 이루어지며 상기 다중증폭기(115)를 통과한 레이저 광을 입사받아 압축하는 펄스 압축기(pulse compressor, 116), 상기 펄스 압축기(116)에 의하여 펄스폭이 압축된 레이저 광의 파장을 조절하여 외부로 조사하는 HG 모듈(harmonic generation module, 117)을 포함하여 이루어지며,상기 펄스 압축기(116)의 상기 회절 격자(116a, 116b)의 각도 변경에 의하여 상기 시드 레이저(111)에서 발생된 극초단 펄스 레이저 광의 펄스폭이 가변되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 선택적 펄스 폭 가변형 레이저를 이용한 능동형 유기 자체 발광 소자의 비열 리페어 장치 |
15 |
15 제 13항에 있어서, 상기 리페어 장치(100)는레이저 빔 크기를 조절하도록, 상기 레이저 광원(110)에서 발생된 레이저의 광로 상에 배치되어 레이저의 일부만을 통과시키는 슬릿이 형성되는 슬릿부(160);을 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 선택적 펄스 폭 가변형 레이저를 이용한 능동형 유기 자체 발광 소자의 비열 리페어 장치 |
16 |
16 제 15항에 있어서, 상기 슬릿은크기가 1μm × 1μm ~ 102μm × 102μm 범위 내인 것을 특징으로 하는 선택적 펄스 폭 가변형 레이저를 이용한 능동형 유기 자체 발광 소자의 비열 리페어 장치 |
17 |
17 제 15항에 있어서, 상기 슬릿부(160)는크기 또는 형상이 서로 다르게 형성되는 적어도 하나 이상의 슬릿이 서로 이격 배치된 형태로 형성되는 것을 특징으로 하는 선택적 펄스 폭 가변형 레이저를 이용한 능동형 유기 자체 발광 소자의 비열 리페어 장치 |
18 |
18 제 15항에 있어서, 상기 슬릿부(160)는상기 제어부(150)에 의해 이동 가능하게 형성되는 것을 특징으로 하는 선택적 펄스 폭 가변형 레이저를 이용한 능동형 유기 자체 발광 소자의 비열 리페어 장치 |
지정국 정보가 없습니다 |
---|
패밀리정보가 없습니다 |
---|
순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
---|---|---|---|---|
1 | 지식경제부 | 한국기계연구원 | 주요사업 | 나노/마이크로 복합구조 공정 및 응용 기술개발 |
공개전문 정보가 없습니다 |
---|
특허 등록번호 | 10-1450767-0000 |
---|
표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20130423 출원 번호 : 1020130044803 공고 연월일 : 20141017 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20140718 청구범위의 항수 : 18 유별 : H01L 51/56 발명의 명칭 : 선택적 펄스 폭 가변형 레이저를 이용한 능동형 유기 자체 발광 소자의 비열 리페어 방법 및 장치 존속기간(예정)만료일 : |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 한국기계연구원 대전광역시 유성구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 373,500 원 | 2014년 10월 08일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 305,200 원 | 2017년 09월 07일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 218,000 원 | 2018년 09월 07일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 218,000 원 | 2019년 09월 09일 | 납입 |
제 7 년분 | 금 액 | 392,000 원 | 2020년 09월 11일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2013.04.23 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0356666-22 |
2 | 선행기술조사의뢰서 | 2014.03.06 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
3 | 선행기술조사보고서 | 2014.04.08 | 수리 (Accepted) | 9-1-2014-0027358-35 |
4 | 의견제출통지서 | 2014.05.09 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0317430-98 |
5 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2014.05.23 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-0486465-57 |
6 | [명세서등 보정]보정서 | 2014.05.23 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2014-0486423-40 |
7 | 등록결정서 | 2014.07.18 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0489723-04 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2017.11.28 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5193093-72 |
기술번호 | KST2014064014 |
---|---|
자료제공기관 | NTB |
기술공급기관 | 한국기계연구원 |
기술명 | 선택적 펄스 폭 가변형 레이저를 이용한 능동형 유기 자체 발광 소자의 비열 리페어 방법 및 장치 |
기술개요 |
본 발명의 목적은 능동형 유기 자체 발광 소자에 불량 화소가 발생된 경우, 선택적 펄스 폭 가변형 극초단 펄스 레이저를 사용하여 리페어를 수행함으로써, 리페어 공정을 통해 의도치 않은 신호가 전달되는 문제나 리페어 공정 시 불량 발생부 이외의 주변부로 공정 영향이 미쳐 손상이 발생되는 문제를 근본적으로 해결하여, 능동형 유기 자체 발광 소자 자체의 손상을 최소화하면서 리페어가 가능하게 하는, 선택적 펄스 폭 가변형 능동형 유기 자체 발광 소자의 비열 리페어 방법 및 장치를 제공함에 있다. 또한 본 발명의 목적은, 극초단 펄스 레이저를 사용하여 레이저 가공을 수행하되, 가공 대상물 또는 집속렌즈를 진동시킴으로써 가공 품질 및 절단 효율을 극대화하는, 선택적 펄스 폭 가변형 능동형 유기 자체 발광 소자의 비열 리페어 방법 및 장치를 제공함에 있다. |
개발상태 | 기술개발완료 |
기술의 우수성 | |
응용분야 | 능동형 유기 자체 발광 소자(AMOLED) 리페어 |
시장규모 및 동향 | |
희망거래유형 | 기술매매,라이센스,기술협력,기술지도,M&A, |
사업화적용실적 | |
도입시고려사항 |
과제고유번호 | 1415129657 |
---|---|
세부과제번호 | 10033350 |
연구과제명 | 고에너지 빔 응용 초정밀 하이브리드 가공 시스템 개발 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 산업통상자원부 |
연구관리전문기관명 | |
연구주관기관명 | |
성과제출연도 | 2013 |
연구기간 | 200906~201505 |
기여율 | 0.25 |
연구개발단계명 | 개발연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
과제고유번호 | 1415134360 |
---|---|
세부과제번호 | EUR-12-1310 |
연구과제명 | 5인치 풀HD급 모바일 디스플레이 제조용 초미세 패터닝 시스템 개발 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 산업통상자원부 |
연구관리전문기관명 | |
연구주관기관명 | |
성과제출연도 | 2013 |
연구기간 | 201211~201510 |
기여율 | 0.25 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | 기타 |
과제고유번호 | 1425074918 |
---|---|
세부과제번호 | C0005006 |
연구과제명 | 고해상도 모바일 디스플레이용 극초단 레이저 초정밀 가공시스템 개발 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 중소기업청 |
연구관리전문기관명 | |
연구주관기관명 | |
성과제출연도 | 2012 |
연구기간 | 201206~201405 |
기여율 | 0.25 |
연구개발단계명 | 개발연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
과제고유번호 | 1711009062 |
---|---|
세부과제번호 | NK175D |
연구과제명 | 나노/마이크로 복합구조 공정 및 응용 기술개발 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 미래창조과학부 |
연구관리전문기관명 | |
연구주관기관명 | |
성과제출연도 | 2013 |
연구기간 | 201201~201412 |
기여율 | 0.25 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
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