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i) 기판(200) 상에 유전체의 무반사 물질층(210)과 마스크 물질(220)을 증착하는 단계;ii) 상기 마스크 물질(220) 상에 나노(Nano) 크기의 구(球, 230)를 생성하고, 상기 구(230)를 마스크로 하여 식각해서 물질층 돌출부(210')와, 마스크 돌출부(Rod, 220')의 나노 텍스쳐(Texture)를 갖는 나노 패턴을 형성하는 단계; 및iii) 무반사층이 형성되도록 상기 구(230)와, 마스크 물질(220)을 식각하는 단계를 포함하는 유전체 나노 텍스쳐를 이용한 무반사층 제조방법
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제 2 항에 있어서,상기 무반사 물질층(210)은 SiNx, TiO2, 또는 ZnO 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 유전체 나노 텍스쳐를 이용한 무반사층 제조방법
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제 3 항에 있어서,상기 무반사 물질층(210)은 굴절율이 2 ~ 3
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제 2 항에 있어서,상기 구(230)는 지름이 10nm 이상 150nm 이하인 것을 특징으로 하는 유전체 나노 텍스쳐를 이용한 무반사층 제조방법
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제 2 항에 있어서,상기 구(230)는 폴리스티렌(PolyStyrene) 구, 레이저 리소그라피, 인프란트, 금속 박막의 열처리 중 어느 하나를 이용하여 생성하는 것을 특징으로 하는 유전체 나노 텍스쳐를 이용한 무반사층 제조방법
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제 6 항에 있어서,상기 금속 박막의 열처리는 무반사 물질층(210) 상에 일정 두께로 특정 금속을 증착하고, 상기 증착된 금속을 400 ~ 550℃의 온도 범위로 열처리하여 나노 크기의 구를 생성하는 것을 특징으로 하는 유전체 나노 텍스쳐를 이용한 무반사층 제조방법
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