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미세 임프린팅 장치

  • 기술번호 : KST2014064381
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 미세 임프린팅 장치에 관한 것으로, 그 목적은 유체를 가압매체로 사용함으로써 패턴의 전체영역에 대하여 균일한 가압력의 구현이 가능하며, 이로 인하여 패턴의 전사 정밀도를 보다 높일 수 있는 미세 임프린팅 장치를 제공함에 있다. 이를 위한 본 발명은 성형 대상물을 하부에서 지지하는 미러 플레이트; 상기 성형 대상물의 상부에 위치하며 미세 패턴이 각인된 몰드; 상기 미러 플레이트와 몰드의 사이 배치되어 간극을 일정하게 유지하는 스페이서; 상기 미러 플레이트를 하부에서 지지하되, 미러 플레이트의 하부에 유체가 충전되는 밀폐된 공간을 형성하며, 밀폐된 공간으로 유체를 공급하는 유로가 형성된 하부 지지블록; 몰드의 상부에 위치하되, 몰드의 상부에 유체가 충전되는 밀폐된 공간을 형성하고, 밀폐된 공간으로 유체를 공급하는 유로가 형성되며, 상기 하부 지지블록과 결합되어 작업이 진행되는 챔버를 형성하는 상부 지지블록; 상기 하부 지지블록 및 상부 지지블록에 형성된 유로를 통해 유체를 공급하여 패턴의 전사를 위한 압력을 형성하는 압력제어장치; 상기 하부 지지블록을 하부에 위치하며, 몰드와 성형 대상물의 가열을 위한 가열수단이 구비된 하부 베이스; 및 상기 상부 지지블록의 상부에 위치하며, 몰드와 성형 대상물의 가열을 위한 가열수단이 구비된 상부 베이스;를 구비하는 미세 임프린팅 장치에 관한 것을 그 기술적 요지로 한다.하부 지지블록, 상부 지지블록, 몰드, 미러 플레이트, 유체, 코일
Int. CL H01L 21/027 (2006.01)
CPC G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01)
출원번호/일자 1020070104869 (2007.10.18)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-0874756-0000 (2008.12.11)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20081219) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.10.18)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 강정진 대한민국 서울 서대문구
2 홍석관 대한민국 서울 강서구
3 허영무 대한민국 서울 광진구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 최영규 대한민국 서울특별시 금천구 가산디지털*로 ***, B동 ***호 새천년 국제특허법률사무소 (가산동, 우림 라이온스밸리)
2 장순부 대한민국 서울특별시 금천구 가산디지털*로 ***, B동 ***호 새천년국제특허법률사무소 (가산동, 우림 라이온스밸리)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 대한민국(산업통상자원부장관) 세종특별자치시 한누리대
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2007.10.18 수리 (Accepted) 1-1-2007-0744950-33
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2008.08.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2008.09.11 수리 (Accepted) 9-1-2008-0055081-98
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.10.20 수리 (Accepted) 4-1-2008-5164358-96
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.11.11 수리 (Accepted) 4-1-2008-5178457-80
6 등록결정서
Decision to grant		 2008.11.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0608260-73
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.01.20 수리 (Accepted) 4-1-2009-5013686-94
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2010.08.30 수리 (Accepted) 4-1-2010-5161401-06
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.04.02 수리 (Accepted) 4-1-2012-5068733-13
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5090658-47
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2013-5017806-08
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.01.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5006834-98
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
성형 대상물(X)을 하부에서 지지하는 미러 플레이트(110);상기 성형 대상물(X)의 상부에 위치하며 미세 패턴이 각인된 몰드(120);상기 미러 플레이트(110)와 몰드(120)의 사이 배치되어 간극을 일정하게 유지하는 스페이서(130);상기 미러 플레이트(110)를 하부에서 지지하되, 미러 플레이트(110)의 하부에 유체가 충전되는 밀폐된 공간(S1)을 형성하며, 밀폐된 공간(S1)으로 유체를 공급하는 유로(142)가 형성된 하부 지지블록(140);몰드(120)의 상부에 위치하되, 몰드(120)의 상부에 유체가 충전되는 밀폐된 공간(S2)을 형성하고, 밀폐된 공간(S2)으로 유체를 공급하는 유로(152)가 형성되며, 상기 하부 지지블록(140)과 결합되어 작업이 진행되는 챔버(C)를 형성하는 상부 지지블록(150);상기 하부 지지블록(140) 및 상부 지지블록(150)에 형성된 유로(142,152)를 통해 유체를 공급하여 패턴의 전사를 위한 압력을 형성하는 압력제어장치(160);상기 하부 지지블록(140)을 하부에 위치하며, 몰드(120)와 성형 대상물(X)의 가열을 위한 가열수단이 구비된 하부 베이스(170); 및상기 상부 지지블록(150)의 상부에 위치하며, 몰드(120)와 성형 대상물(X)의 가열을 위한 가열수단이 구비된 상부 베이스(180);를 구비하는 것을 특징으로 하는 미세 임프린팅 장치
2 2
제 1 항에 있어서,상기 상부 지지블록(150) 또는 하부 지지블록(140)에는 상기 챔버(C)로 연결되는 진공유로(143)가 형성되고,상기 진공유로(143)를 통해 챔버(C)의 내부 공기를 외부로 배출하여 챔버(C)를 진공상태로 만드는 진공펌프(210);를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 미세 임프린팅 장치
3 3
제 2 항에 있어서,상기 스페이서(130)에 의해 마련된 미러 플레이트(110)와 몰드(120) 사이 공간의 공기가 상기 진공펌프(210)에 의하여 외부로 배출되도록 스페이서(130)의 내외부를 연결하는 구멍(131)이 스페이서(130)에 형성된 것을 특징으로 하는 미세 임프린팅 장치
4 4
제 1 항에 있어서,상기 가열수단은 미러 플레이트(110)와 몰드(120)의 고주파 유도가열을 위하여 상/하부 지지블록(150,140)을 감싸도록 상/하부 베이스(180,170)에 설치된 코일(200)로 이루어지며,상기 미러 플레이트(110)와 몰드(120)는 도체로 이루어지고, 나머지 스페이서(130)와 상/하부 지지블록(140) 및 상/하부 베이스(170)는 부도체로 이루어져 미러 플레이트(110)와 몰드(120)만이 고주파 유도가열에 의해 가열되도록 구성됨을 특징으로 하는 미세 임프린팅 장치
5 5
제 4 항에 있어서,상기 성형 대상물(X)의 상하부가 균일하게 가열되도록 상기 미러 플레이트(110)와 몰드(120)는 동일한 재질로 이루어진 것을 특징으로 하는 미세 임프린팅 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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