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고성능 엘이디 기판 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2014064416
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 고성능 엘이디 기판 제조방법은 금형에 복수 개의 금속 전극를 일정 간격 이격하여 배치하는 금속전극배치단계, 상기 이격된 금속전극 사이에 절연체를 삽입하여 금속전극 플레이트를 형성하는 금속전극 플레이트 형성단계, 상기 금속전극 플레이트의 일면에 절연층을 형성하는 절연층 형성단계 및 상기 한 쌍의 금속전극에 엘이디칩을 장착하는 엘이디칩 장착단계를 포함한다. 그리고 본 발명의 엘이디 기판은 엘이디칩과 전기적으로 연결되고, 일전 간격 이격된 한 쌍의 금속전극 및 상기 금속전극 사이의 이격된 공간을 채우는 절연체를 포함하는 금속전극 플레이트 및 상기 금속전극 플레이트의 하면에 구비되어 상기 금속전극을 전기적으로 분리하는 절연층을 포함한다.
Int. CL H01L 33/48 (2014.01) H01L 33/62 (2014.01)
CPC H01L 33/40(2013.01) H01L 33/40(2013.01)
출원번호/일자 1020130032660 (2013.03.27)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-1356475-0000 (2014.01.22)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20140129) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.03.27)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 유세훈 대한민국 인천 연수구
2 이창우 대한민국 경기 안양시 동안구
3 김준기 대한민국 경기 군포시 산본로***번길 **, **
4 방정환 대한민국 인천 연수구
5 이태영 대한민국 서울 구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 임상엽 대한민국 서울특별시 성동구 광나루로 ***, *층 ***호 (성수동*가, 서울숲IT캐슬)(지반특허법률사무소)
2 고영갑 대한민국 경기도 성남시 분당구 정자일로 ***, 파크뷰 타워 ***호 (정자동)(가람특허법률사무소)
3 권정기 대한민국 서울특별시 성동구 광나루로 ***, *층 ***호 (성수동*가, 서울숲IT캐슬)(지반특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 대한민국(산업통상자원부장관) 세종특별자치시 한누리대
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.03.27 수리 (Accepted) 1-1-2013-0264040-82
2 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2013.04.25 수리 (Accepted) 1-1-2013-0365033-53
3 [우선심사신청]선행기술조사보고서
[Request for Preferential Examination] Report of Prior Art Search
2013.05.10 수리 (Accepted) 9-1-2013-0038710-27
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.07.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0519013-10
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2013.09.30 수리 (Accepted) 1-1-2013-0881382-31
6 [대리인사임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Resignation of Agent] Report on Agent (Representative)
2013.10.14 수리 (Accepted) 1-1-2013-0926716-87
7 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2013.10.29 수리 (Accepted) 1-1-2013-0979703-14
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.11.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-1089231-13
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.11.28 수리 (Accepted) 1-1-2013-1089210-65
10 등록결정서
Decision to grant
2014.01.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0047862-97
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5006834-98
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
금형에 복수 개의 금속 전극를 일정 간격 이격하여 배치하여 상기 금속전극 간에 이격된 공간을 형성하는 금속전극배치단계;상기 이격된 금속전극 사이의 공간에 절연체를 삽입하여 금속전극 플레이트를 형성하는 금속전극 플레이트 형성단계; 및상기 한 쌍의 금속전극에 엘이디칩을 장착하는 엘이디칩 장착단계;를 포함하는 고성능 엘이디 기판 제조방법
2 2
제1항에 있어서,상기 금속전극 플레이트의 일면에 절연층을 형성하는 절연층 형성단계를 더 포함하는 고성능 엘이디 기판 제조방법
3 3
제1항에 있어서,금속 전극 플레이트를 복수 개의 금속전극을 포함하는 금속전극 기판부로 분리하는 기판부 분리 단계를 더 포함하는 고성능 엘이디 기판 제조방법
4 4
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5 5
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6 6
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지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.