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회전축을 중심으로 회전하는 회전부를 포함하는 스테이지, 상기 스테이지에 방사선을 조사하는 방사선 조사부 및 상기 스테이지를 통과한 상기 방사선을 검출하는 방사선 검출부를 구비하는 검사 장치의 보정 방법에 있어서,(a) 상기 방사선을 투과시키는 디스크부, 상기 디스크부의 중심부에 구비되며 상기 방사선을 차단하는 제1 방사선 차단 패턴 및 상기 디스크부의 주연부를 따라 배열되며 상기 방사선을 차단하는 복수개의 제2 방사선 차단 패턴을 포함하는 보정용 시편을 상기 회전부 상에 재치하는 단계;(b) 상기 보정용 시편이 재치된 상기 회전부를 회전시키면서 상기 보정용 시편에 상기 방사선을 조사하여 상기 보정용 시편을 통과한 상기 방사선을 검출하는 단계;(c) 상기 (b) 단계에서 검출된 상기 방사선에 대응하는 복수 개의 이미지를 생성하는 단계;(d) 상기 복수 개의 이미지로부터 상기 회전축의 보정 정보를 생성하는 단계; 및(e) 상기 (d) 단계에서 생성된 상기 회전축의 보정 정보를 기초로 상기 회전축의 좌표를 보정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 보정 방법
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제1항에 있어서,상기 (a) 단계는 상기 보정용 시편의 중심이 상기 회전축에 위치하도록 상기 보정용 시편을 상기 회전부 상에 재치하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 보정 방법
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제1항에 있어서,상기 (b) 단계는(b-1) 상기 회전부를 소정 각도씩 회전시키면서 상기 보정용 시편에 상기 방사선을 조사하는 단계; 및(b-2) 상기 (b-1) 단계에서 상기 회전부를 상기 소정 각도씩 회전시킬 때마다 상기 보정용 시편을 통과한 상기 방사선을 검출하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 보정 방법
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제3항에 있어서,상기 (c) 단계는 상기 (b-2) 단계에서 상기 회전부를 상기 소정 각도씩 회전시킬 때마다 검출된 방사선에 대응하는 상기 복수 개의 이미지를 생성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 보정 방법
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제1항에 있어서,상기 (d) 단계는 상기 복수 개의 이미지에 포함된 픽셀의 값을 합산하여 얻어진 합산값으로부터 상기 보정 정보를 생성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 보정 방법
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제5항에 있어서,상기 (e) 단계는 상기 보정 정보에 따라 상기 회전축의 좌표를 이동하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 보정 방법
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피검사체를 투과한 방사선을 검출하는 검사 장치의 위치 보정에 사용되는 시편에 있어서,방사선을 투과시키는 디스크부;상기 디스크부의 중심부에 구비되며 상기 방사선을 차단하는 제1 방사선 차단 패턴; 및상기 디스크부의 주연부를 따라 배열되며 상기 방사선을 차단하는 복수개의 제2 방사선 차단 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 보정용 시편
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제7항에 있어서,상기 디스크부는 아크릴을 포함하는 것을 특징으로 하는 보정용 시편
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제7항에 있어서,상기 제1 방사선 차단 패턴 및 상기 복수개의 제2 방사선 차단 패턴은 금속을 포함하는 것을 특징으로 하는 보정용 시편
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제7항에 있어서,상기 제1 방사선 차단 패턴은 원형인 것을 특징으로 하는 보정용 시편
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제7항에 있어서,상기 복수개의 제2 방사선 차단 패턴 각각은 원형인 것을 특징으로 하는 보정용 시편
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제7항에 있어서,상기 복수개의 제2 방사선 차단 패턴은 상기 디스크부의 중심에 대하여 대칭인 것을 특징으로 하는 보정용 시편
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