요약 | 본 발명은 누설 전류를 감소시킬 수 있는 유기 발광 소자에 대한 것으로, 보다 구체적으로는 Shadow mask를 통하여 증착된 하부 전극의 누설 전류를 감소시키기 위하여, 하부 전극의 평탄화 공정을 수행함으로써, 누설 전류를 감소시킬 수 있는 유기 발광 소자의 제조 방법 및 이를 이용한 유기 발광 소자에 관한 것이다. |
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Int. CL | H05B 33/10 (2006.01) H01L 51/56 (2006.01) |
CPC | |
출원번호/일자 | 1020130024264 (2013.03.07) |
출원인 | 한국생산기술연구원 |
등록번호/일자 | 10-1594352-0000 (2016.02.05) |
공개번호/일자 | 10-2014-0110255 (2014.09.17) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20160216) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 등록 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | 심판사항 |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | 1020140147919; |
심사청구여부/일자 | Y (2013.03.07) |
심사청구항수 | 5 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국생산기술연구원 | 대한민국 | 충청남도 천안시 서북구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 최범호 | 대한민국 | 광주 광산구 |
2 | 이종호 | 대한민국 | 광주 동구 |
3 | 김영백 | 대한민국 | 광주 남구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 특허법인아이엠 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 봉은사로 ***, ***호 (역삼동, 혜전빌딩) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국생산기술연구원 | 대한민국 | 충청남도 천안시 서북구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2013.03.07 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0198880-24 |
2 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2014.03.28 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0220233-58 |
3 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2014.05.21 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-0475677-72 |
4 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2014.05.21 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2014-0475696-39 |
5 | 거절결정서 Decision to Refuse a Patent |
2014.09.29 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0670472-30 |
6 | [명세서등 보정]보정서(재심사) Amendment to Description, etc(Reexamination) |
2014.10.29 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 1-1-2014-1038726-62 |
7 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2014.10.29 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-1038725-16 |
8 | [분할출원]특허출원서 [Divisional Application] Patent Application |
2014.10.29 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-1038390-14 |
9 | 거절결정서 Decision to Refuse a Patent |
2014.11.19 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0787987-41 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.01.16 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5006834-98 |
11 | 심사관의견요청서 Request for Opinion of Examiner |
2015.01.28 | 수리 (Accepted) | 7-8-2015-0002561-52 |
12 | 협의요구서 Request for Consultation |
2015.10.15 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2015-0708698-11 |
13 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2015.10.19 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-1008230-15 |
14 | 등록결정서 Decision to grant |
2016.02.03 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2016-0093197-24 |
15 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2018.07.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2018-5123030-77 |
번호 | 청구항 |
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1 |
1 기판을 준비하는 단계;상기 기판에 Shadow mask를 도입하는 도입 단계;상기 Shadow mask가 도입된 기판에 하부 전극을 증착하는 하부 전극층 증착 단계;상기 하부 전극층을 평탄화하는 평탄화 단계;상기 평탄화된 하부 전극층에 유기물을 증착하는 유기물층 증착 단계; 및 상기 유기물층에 상부 전극을 증착하는 상부 전극층 증착 단계를 포함하며;상기 평탄화 단계는 열처리 및 플라즈마 처리가 동시에 수행되어 이루어지되,상기 열처리는 250 ~ 400의 범위에서 수행되고,상기 플라즈마 처리는 플라즈마 파워가 400 ~ 600W 범위의 아르곤(Ar) 플라즈마 처리 및 플라즈마 파워가 100 ~ 200W 범위의 산소 플라즈마 처리 중 하나 이상을 수행하는 것으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자 제조 방법 |
2 |
2 제 1 항에 있어서, 상기 평탄화된 하부 전극층에 절연막을 증착하는 절연막층 증착 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자 제조 방법 |
3 |
3 삭제 |
4 |
4 삭제 |
5 |
5 삭제 |
6 |
6 제 2 항에 있어서, 상기 절연막은 PI(Polyimide), Al2O3 , SiO2 및 SiNx 절연막 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자 제조 방법 |
7 |
7 제 1 항에 있어서, 상기 하부 전극층은 ITO(Indium Tin Oxide) 박막층인 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자 제조 방법 |
8 |
8 제1항, 제2항 및 제6항, 제7항 중 어느 한 항의 제조 방법으로 제조된 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자 |
지정국 정보가 없습니다 |
---|
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | KR1020140142196 | KR | 대한민국 | FAMILY |
2 | KR1020150042757 | KR | 대한민국 | FAMILY |
3 | US09640776 | US | 미국 | FAMILY |
4 | US20150364714 | US | 미국 | FAMILY |
5 | WO2014137068 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | FAMILY |
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | DE112014001167 | DE | 독일 | DOCDBFAMILY |
2 | DE112014001167 | DE | 독일 | DOCDBFAMILY |
3 | US2015364714 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
4 | US9640776 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
5 | WO2014137068 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | DOCDBFAMILY |
순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
---|---|---|---|---|
1 | 지식경제부 | 한국생산기술연구원 | 산업원천기술개발사업 | 저가형 OLED 면광원 제조기술 |
2 | 기획재정부 | 한국생산기술연구원 | 한국생산기술연구원 호남권본부 대표 과제 | 저가공정기술을 이용한 고효율 OLED 조명 제조기술 |
특허 등록번호 | 10-1594352-0000 |
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표시번호 | 사항 |
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1 |
출원 연월일 : 20130307 출원 번호 : 1020130024264 공고 연월일 : 20160216 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20160203 청구범위의 항수 : 5 유별 : H01L 51/56 발명의 명칭 : Shadow mask를 이용한 유기 발광 소자 제조 방법 및 상기 방법으로 제조된 유기 발광 소자. 존속기간(예정)만료일 : |
순위번호 | 사항 |
---|---|
1 |
(권리자) 한국생산기술연구원 충청남도 천안시 서북구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 120,000 원 | 2016년 02월 05일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 75,000 원 | 2019년 01월 02일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 75,000 원 | 2019년 12월 23일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2013.03.07 | 수리 (Accepted) | 1-1-2013-0198880-24 |
2 | 의견제출통지서 | 2014.03.28 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0220233-58 |
3 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2014.05.21 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-0475677-72 |
4 | [명세서등 보정]보정서 | 2014.05.21 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2014-0475696-39 |
5 | 거절결정서 | 2014.09.29 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0670472-30 |
6 | [명세서등 보정]보정서(재심사) | 2014.10.29 | 보정승인 (Acceptance of amendment) | 1-1-2014-1038726-62 |
7 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2014.10.29 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-1038725-16 |
8 | [분할출원]특허출원서 | 2014.10.29 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-1038390-14 |
9 | 거절결정서 | 2014.11.19 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0787987-41 |
10 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.01.16 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5006834-98 |
11 | 심사관의견요청서 | 2015.01.28 | 수리 (Accepted) | 7-8-2015-0002561-52 |
12 | 협의요구서 | 2015.10.15 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2015-0708698-11 |
13 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2015.10.19 | 수리 (Accepted) | 1-1-2015-1008230-15 |
14 | 등록결정서 | 2016.02.03 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2016-0093197-24 |
15 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2018.07.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2018-5123030-77 |
기술번호 | KST2014064490 |
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자료제공기관 | 기관 |
기술공급기관 | 한국생산기술연구원 |
기술명 | Shadow mask를 이용한 유기 발광 소자 제조 방법 및 상기 방법으로 제조된 유기 발광 소자 |
기술개요 |
본 발명은 누설 전류를 감소시킬 수 있는 유기 발광 소자에 대한 것으로, 보다 구체적으로는 Shadow mask를 통하여 증착된 하부 전극의 누설 전류를 감소시키기 위하여, 하부 전극의 평탄화 공정을 수행함으로써, 누설 전류를 감소시킬 수 있는 유기 발광 소자의 제조 방법 및 이를 이용한 유기 발광 소자에 관한 것이다. |
개발상태 | |
기술의 우수성 | |
응용분야 | |
시장규모 및 동향 | |
희망거래유형 | |
사업화적용실적 | |
도입시고려사항 |
과제고유번호 | 1415124806 |
---|---|
세부과제번호 | 10028401 |
연구과제명 | OLED 기술을 이용한 조명용 면광원 기술개발 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 미래창조과학부 |
연구관리전문기관명 | |
연구주관기관명 | |
성과제출연도 | 2012 |
연구기간 | 200611~201310 |
기여율 | 0.25 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | ET(환경기술) |
과제고유번호 | 1415124814 |
---|---|
세부과제번호 | 10031704 |
연구과제명 | 저가형 OLED 면광원 제조기술 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 한국산업기술평가관리원 |
연구주관기관명 | (주)선익시스템 |
성과제출연도 | 2012 |
연구기간 | 200811~201310 |
기여율 | 0.25 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
과제고유번호 | 1415127103 |
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세부과제번호 | EO120020 |
연구과제명 | [대표]저가공정기술을 이용한 고효율 OLED 조명 제조기술 개발 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 한국생산기술연구원 |
연구주관기관명 | 한국생산기술연구원 |
성과제출연도 | 2012 |
연구기간 | 201201~201212 |
기여율 | 0.25 |
연구개발단계명 | 개발연구 |
6T분류명 | ET(환경기술) |
과제고유번호 | 1415131342 |
---|---|
세부과제번호 | 10043654 |
연구과제명 | 미세회로(L/S 15/15 ㎛) 패턴 형성을 위한 대면적 dual ion-beam 개발 및 이를 이용한 차세대 Rigid PCB 제작 기술 개발 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 산업통상자원부 |
연구관리전문기관명 | |
연구주관기관명 | |
성과제출연도 | 2013 |
연구기간 | 201212~201511 |
기여율 | 0.25 |
연구개발단계명 | 개발연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
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번호 | 심판번호(숫자) | 심판번호(문자) | 사건의표시 | 청구일 | 심결일자 |
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1 | 2014101007695 | 2014원7695 | 2013년 특허출원 제0024264호 거절결정불복 | 2014.12.12 | 2015.09.23 |