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배치형 반응 시스템(12)에 반응물을 넣고, 지정된 압력 범위를 갖는 환경에서 생성물을 얻기 위한 반응공정을 진행하는 배치 반응공정 단계와;상기 배치형 반응 시스템(12)과 폐회로를 형성하도록 설치되는 순환형 반응 시스템(13)에 상기 배치형 반응 시스템(12)내에서 배치 반응공정이 진행되는 반응물을 순환시키면서 반응공정이 이루어지도록 하되, 상기 배치 반응공정 단계의 지정된 압력 범위보다 높은 압력 범위를 갖는 환경에서 반응공정이 이루어지도록 하는 순환 반응공정 단계 및;상기 순환형 반응 시스템(13)으로의 순환을 정지하고, 상기 배치형 반응 시스템(12)내의 생성물을 외부로 배출시키는 단계를 포함하되;상기 배치 반응공정 단계와 순환 반응공정 단계의 각 압력 범위는 상기 배치형 반응 시스템(12)의 반응물이 상기 순환형 반응 시스템(13)으로 흐르도록 하는 유입 수단(30)과, 상기 순환형 반응 시스템(13)의 반응물이 상기 배치형 반응 시스템(12)으로 흐르도록 하는 유출 수단(40)에 의해 나누어지는 것을 특징으로 하는 고효율 화학반응 방법
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제 2 항에서,상기 배치 반응공정 단계는 상기 배치형 반응 시스템(12)에 반응물을 넣은 후, 첨가 반응물을 넣어 생성물을 얻기 위한 반응공정을 진행하고, 상기 순환 반응공정 단계는 상기 배치형 반응 시스템(12)로부터 공급되는 반응물에 상기 첨가 반응물을 넣어 반응공정이 이루어지도록 하는 것을 특징으로 하는 고효율 화학반응 방법
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제 3 항에 있어서, 상기 첨가 반응물은 기체로서, 상기 배치형 반응 시스템(12)과 순환형 반응 시스템(13)의 내부 압력 범위는 상기 기체에 의해 조절되는 것을 특징으로 하는 고효율 화학반응 방법
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제 3 항에 있어서, 상기 순환 반응공정 단계는 상기 배치형 반응 시스템(12)과 폐회로를 형성하도록 설치되는 연결 라인(15)상에 배치되는 연속식 반응기(14)를 통해 이루어지도록 하는 것을 특징으로 하는 고효율 화학반응 방법
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제 5 항에 있어서, 상기 첨가 반응물은 기체로서, 상기 배치형 반응 시스템(12)과 순환형 반응 시스템(13)의 내부 압력 범위는 상기 기체에 의해 조절되는 것을 특징으로 하는 고효율 화학반응 방법
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제 5 항 또는 제 6 항에 있어서, 상기 연속식 반응기(14)는 교반(mixing) 기능을 갖는 교반형 반응기(50)를 구비하고, 상기 순환 반응공정 단계는 반응물이 상기 교반형 반응기(50)를 통과중에 연속적인 교반이 이루어지도록 하는 것을 특징으로 하는 고효율 화학반응 방법
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제 5 항 또는 제 6 항에 있어서, 상기 연속식 반응기(14)는 분산(dispersion) 기능을 갖는 확산형 반응기(60)를 구비하고, 상기 순환 반응공정 단계는 상기 확산형 반응기(60)를 통해 반응물의 분산이 이루어지도록 하는 것을 특징으로 하는 고효율 화학반응 방법
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제 5 항 또는 제 6 항에 있어서, 상기 연속식 반응기(14)는 상기 연결 라인(15)상에 연이어 설치되는 복수개 이상의 반응기를 구비하고, 상기 순환 반응공정 단계는 상기 복수개 이상의 반응기를 순차적으로 통과하면서 이루어지도록 하는 것을 특징으로 하는 고효율 화학반응 방법
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제 9 항에 있어서, 상기 연속식 반응기(14)의 복수개 이상의 반응기는 교반(mixing) 기능을 갖는 교반형 반응기(50) 및, 분산(dispersion) 기능을 갖는 확산형 반응기(60)를 구비하여, 상기 순환 반응공정 단계는 상기 교반형 반응기(50)를 통과중에 연속적인 교반이 이루어진 후, 상기 확산형 반응기(60)를 통해 반응물의 분산이 이루어지도록 하는 것을 특징으로 하는 고효율 화학반응 방법
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반응물을 넣고, 지정된 압력 범위를 갖는 환경에서 반응공정이 완료될 때까지 공정이 계속 진행되도록 하며, 반응공정이 완료된 생성물을 한꺼번에 배출시키도록 구성되는 배치형 반응 시스템(12) 및;상기 배치형 반응 시스템(12)과 폐회로를 형성하도록 설치되고, 상기 배치형 반응 시스템(12)에 수용되어 반응공정이 진행되는 반응물을 순환시키면서 반응공정이 이루어지도록 하되, 상기 배치형 반응 시스템(12)의 지정된 압력 범위보다 높은 압력 범위를 갖는 환경에서 반응공정이 이루어지도록 하는 순환형 반응 시스템(13)를 포함하되; 상기 배치형 반응 시스템(12)의 반응물을 상기 순환형 반응 시스템(13)으로 흐르도록 하는 유입 수단(30) 및;상기 순환형 반응 시스템(13)의 반응물을 상기 배치형 반응 시스템(12)으로 흐르도록 하는 유출 수단(40)을 더 포함하고; 상기 유입 수단(30)과 유출 수단(40)은 상기 배치형 반응 시스템(12)과 순환형 반응 시스템(13)의 각 압력 범위가 유지되도록 하는 것을 특징으로 하는 고효율 화학반응 장치
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제 12 항에 있어서, 상기 순환형 반응 시스템(13)은 상기 배치형 반응 시스템(12)과 폐회로를 형성하도록 설치되는 연결 라인(15) 및,상기 연결 라인(15) 상에서 설치되는 연속식 반응기(14)를 구비하는 것을 특징으로 하는 고효율 화학반응 장치
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제 13 항에 있어서,상기 유입 수단(30)은 상기 연결 라인(15)상에서 상기 연속 반응기(14)의 전단에 설치되는 펌프(32) 및, 상기 펌프(32)와 상기 연속 반응기(14) 사이에 설치되는 유입 흐름 및 압력 제어밸브(34)를 구비하고, 상기 유출 수단(40)은 상기 연속 반응기(14)의 후단에 설치되는 액레벨 조정기(42) 및,상기 액레벨 조정기(42)와 배치형 반응 시스템(12) 사이에 설치되는 유출 흐름 및 압력 제어밸브(44)를 구비하는 것을 특징으로 하는 고효율 화학반응 장치
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제 12 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 배치형 반응 시스템(12) 및 순환형 반응 시스템(13)은 반응물을 넣은 후, 첨가 반응물을 공급시키기 위해 설치되는 첨가 반응물 공급 유니트(16)를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 고효율 화학반응 장치
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제 12 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 배치형 반응 시스템(12) 및 순환형 반응 시스템(13)은 반응물을 넣은 후, 첨가 반응물을 공급시키기 위해 설치되는 첨가 반응물 공급 유니트(16)를 더 구비하되;상기 첨가 반응물 공급 유니트(16)는 첨가 반응물로 기체를 공급함으로써, 상기 배치형 반응 시스템(12)과 순환형 반응 시스템(13)의 내부 압력 범위가 상기 기체에 의해 조절되도록 하는 것을 특징으로 하는 고효율 화학반응 장치
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제 13 항 및 제 14 항에 있어서, 상기 연속식 반응기(14)는 반응물이 통과중에 연속적인 교반이 이루어지도록 하는 교반(mixing) 기능을 갖는 교반형 반응기(50)를 구비하는 것을 특징으로 하는 고효율 화학반응 장치
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제 13 항 및 제 14 항에 있어서, 상기 연속식 반응기(14)는 반응물의 분산이 이루어지도록 하는 분산(dispersion) 기능을 갖는 확산형 반응기(60)를 구비하는 것을 특징으로 하는 고효율 화학반응 장치
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제 13 항 및 제 14 항에 있어서, 상기 연속식 반응기(14)는 상기 연결 라인(15)상에 연이어 설치되는 복수개 이상의 반응기를 구비하는 것을 특징으로 하는 고효율 화학반응 장치
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제 19 항에 있어서, 상기 연속식 반응기(14)는 반응물이 통과중에 연속적인 교반이 이루어지도록 하는 교반(mixing) 기능을 갖는 교반형 반응기(50) 및, 상기 연속식 반응기(14)는 반응물의 분산이 이루어지도록 하는 분산(dispersion) 기능을 갖는 확산형 반응기(60)를 구비하는 것을 특징으로 하는 고효율 화학반응 장치
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제 19 항에 있어서, 상기 연결 라인(15)은 상기 복수개 이상의 반응기 각각에 각 반응기의 전단과 후단을 연결함으로써, 상기 연결 라인(15)을 통해 흐르는 반응물이 각 반응기를 통과하여 흐르도록 하는 바이패스 라인을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 고효율 화학반응 장치
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