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사각형상 전자빔 방출유닛을 구비한 소형전자빔 장치

  • 기술번호 : KST2014064942
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 원패스 가공방식하에서 대면적에 대하여 균일한 깊이로 정밀한 패턴을 신속하고 수행할 수 있도록 하는 사각형상 전자빔 방출유닛을 구비한 소형전자빔 장치에 관한 것이다.본 발명에 따른 사각형상 전자빔 방출유닛을 구비한 소형전자빔 장치는 진공분위기를 유지하는 서브챔버와, 상기 서브챔버에 설치되며 전자빔을 방출하는 전자빔 소스와, 상기 서브챔버에 설치되며 상기 방출된 전자빔이 사각형상으로 가공대상물에 조사되도록 하는 빔 형상 가변부재를 구비한 사각형상 전자빔 방출유닛과, 상기 사각형상 전자빔 방출유닛의 하단에 설치된 메인챔버 및 상기 메인챔버 내부에 구비되며 상기 가공대상물이 올려지는 작업스테이지를 포함하여 구성되되, 상기 서브챔버는 수평회전이 가능하게 설치된 것을 특징으로 한다.이에 따라서, 원패스 가공방식만으로도 종래의 가우시안 라운드 빔보다 넓은 면적의 가공을 신속하고 정밀하게 수행할 수 있다.
Int. CL H01L 21/027 (2006.01) G03F 7/20 (2006.01)
CPC H01L 21/0275(2013.01) H01L 21/0275(2013.01) H01L 21/0275(2013.01) H01L 21/0275(2013.01)
출원번호/일자 1020100045645 (2010.05.14)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-1156179-0000 (2012.06.07)
공개번호/일자 10-2011-0125980 (2011.11.22) 문서열기
공고번호/일자 (20120618) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.05.14)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 강은구 대한민국 서울특별시 영등포구
2 최영재 대한민국 서울특별시 광진구
3 이석우 대한민국 경기도 성남시 분당구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 고영갑 대한민국 경기도 성남시 분당구 정자일로 ***, 파크뷰 타워 ***호 (정자동)(가람특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 대한민국(산업통상자원부장관) 세종특별자치시 한누리대
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.05.14 수리 (Accepted) 1-1-2010-0312295-63
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2010.08.30 수리 (Accepted) 4-1-2010-5161401-06
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.08.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0469246-54
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.10.21 수리 (Accepted) 1-1-2011-0825001-91
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.10.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0825010-02
6 등록결정서
Decision to grant		 2012.03.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0185100-59
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.04.02 수리 (Accepted) 4-1-2012-5068733-13
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5090658-47
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2013-5017806-08
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.01.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5006834-98
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
진공분위기를 유지하는 서브챔버와, 상기 서브챔버에 설치되며 전자빔을 방출하는 전자빔 소스와, 상기 서브챔버에 설치되며 상기 방출된 전자빔이 사각형상으로 가공대상물에 조사되도록 하는 빔 형상 가변부재를 구비한 사각형상 전자빔 방출유닛과, 상기 사각형상 전자빔 방출유닛의 하단에 설치된 메인챔버 및 상기 메인챔버 내부에 구비되며 상기 가공대상물이 올려지는 작업스테이지를 포함하여 구성되되,상기 서브챔버는 수평회전이 가능하게 설치된 것을 특징으로 하는 사각형상 전자빔 방출유닛을 구비한 소형전자빔 장치
2 2
제 1항에 있어서,상기 빔형상 가변부재는,사각홀을 구비한 적어도 하나 이상의 조리개인 것을 특징으로 하는 사각형상 전자빔 방출유닛을 구비한 소형전자빔 장치
3 3
제 1항에 있어서,상기 작업스테이지는,수평이동이 가능하게 설치된 것을 특징으로 하는 사각형상 전자빔 방출유닛을 구비한 소형전자빔 장치
4 4
제 3항에 있어서,상기 작업스테이지는,x축과 y축으로 이동이 가능하게 설치된 것을 특징으로 하는 사각형상 전자빔 방출유닛을 구비한 소형전자빔 장치
5 5
제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 빔형상 가변부재는,수평회전이 가능하게 설치된 것을 특징으로 하는 사각형상 전자빔 방출유닛을 구비한 소형전자빔 장치
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7 7
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8 8
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국가 R&D 정보가 없습니다.