맞춤기술찾기

이전대상기술

진공유지 및 실시간 얼라인이 가능한 소형 전자빔 장치

  • 기술번호 : KST2014064943
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 진공이 유지된 상태에서 가공대상물의 가공 및 실시간 얼라인이 가능하도록 한 소형 전자빔 장치를 제공하고자 한 것이다. 이를 위해, 본 발명은 외관을 이루는 전자빔 방출챔버와, 상기 전자빔 방출챔버의 상부에 위치되는 전자방출원과, 상기 전자빔 방출챔버의 내측에 구비되며 상기 전자방출원으로부터 방출된 전자빔을 집속하는 적어도 한 개 이상의 집속렌즈군과, 상기 전자빔 방출챔버에 구비되며 상기 집속렌즈군의 위치를 조절하는 얼라인부재와, 상기 전자빔 방출챔버의 하부에 구비되는 메인챔버 및 상기 메인챔버의 내부에 구비되며 상부에 가공대상물이 올려짐과 동시에 상기 전자빔 방출챔버의 하부에 선택적으로 밀착 또는 분리가 가능하게 이동되는 스테이지를 포함하여 구성되고, 상기 스테이지는 상기 전자빔 방출챔버의 하부를 폐쇄할 수 있도록 형성된 셔터를 더 포함하여 구성되되, 상기 셔터는 상기 전자빔 방출챔버를 진공상태로 유지한 상태에서 상기 스테이지의 이동에 의하여 상기 전자빔 방출챔버의 하부에 밀착된 상태에서 상기 메인챔버를 대기압으로 변환 시 압력차에 의하여 상기 전자빔 방출챔버의 하부에 밀착된 상태를 유지함과 동시에 전자빔 방출챔버 내부의 진공 상태가 유지되도록 하며, 상기 전자빔 방출챔버를 진공상태로 유지한 상태에서 상기 스테이지의 이동에 의하여 상기 전자빔 방출챔버의 하부로부터 분리된 상태에서 상기 메인챔버를 소정 진공압에 이르기까지 변환 시, 자중에 의하여 상기 스테이지로 낙하하도록 한 것을 특징으로 하는 진공유지 및 실시간 얼라인이 가능한 소형 전자빔 장치를 제공한다.
Int. CL H01J 37/067 (2006.01)
CPC H01J 37/30(2013.01) H01J 37/30(2013.01) H01J 37/30(2013.01) H01J 37/30(2013.01) H01J 37/30(2013.01) H01J 37/30(2013.01)
출원번호/일자 1020100045646 (2010.05.14)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-1156180-0000 (2012.06.07)
공개번호/일자 10-2011-0125981 (2011.11.22) 문서열기
공고번호/일자 (20120618) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.05.14)
심사청구항수 4

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 강은구 대한민국 서울특별시 영등포구
2 최영재 대한민국 서울특별시 광진구
3 이석우 대한민국 경기도 성남시 분당구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 고영갑 대한민국 경기도 성남시 분당구 정자일로 ***, 파크뷰 타워 ***호 (정자동)(가람특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 대한민국(산업통상자원부장관) 세종특별자치시 한누리대
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.05.14 수리 (Accepted) 1-1-2010-0312297-54
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.08.30 수리 (Accepted) 4-1-2010-5161401-06
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.04.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2011.05.20 수리 (Accepted) 9-1-2011-0045698-51
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.06.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0346636-51
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.08.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0652347-69
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.08.23 수리 (Accepted) 1-1-2011-0652344-22
8 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2012.01.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0045828-28
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.03.16 수리 (Accepted) 1-1-2012-0214734-19
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.03.16 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2012-0214751-85
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.04.02 수리 (Accepted) 4-1-2012-5068733-13
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5090658-47
13 등록결정서
Decision to grant
2012.05.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0293345-83
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2013-5017806-08
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5006834-98
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
외관을 이루는 전자빔 방출챔버와, 상기 전자빔 방출챔버의 상부에 위치되는 전자방출원과, 상기 전자빔 방출챔버의 내측에 구비되며 상기 전자방출원으로부터 방출된 전자빔을 집속하는 적어도 한 개 이상의 집속렌즈군과, 상기 전자빔 방출챔버에 구비되며 상기 집속렌즈군의 위치를 조절하는 얼라인부재와, 상기 전자빔 방출챔버의 하부에 구비되는 메인챔버 및 상기 메인챔버의 내부에 구비되며 상부에 가공대상물이 올려짐과 동시에 상기 전자빔 방출챔버의 하부에 선택적으로 밀착 또는 분리가 가능하게 이동되는 스테이지를 포함하여 구성되고,상기 스테이지는 상기 전자빔 방출챔버의 하부를 폐쇄할 수 있도록 형성된 셔터를 더 포함하여 구성되되,상기 셔터는 상기 전자빔 방출챔버를 진공상태로 유지한 상태에서 상기 스테이지의 이동에 의하여 상기 전자빔 방출챔버의 하부에 밀착된 상태에서 상기 메인챔버를 대기압으로 변환 시 압력차에 의하여 상기 전자빔 방출챔버의 하부에 밀착된 상태를 유지함과 동시에 전자빔 방출챔버 내부의 진공 상태가 유지되도록 하며,상기 전자빔 방출챔버를 진공상태로 유지한 상태에서 상기 스테이지의 이동에 의하여 상기 전자빔 방출챔버의 하부로부터 분리된 상태에서 상기 메인챔버를 소정 진공압에 이르기까지 변환 시, 자중에 의하여 상기 스테이지로 낙하하도록 한 것을 특징으로 하는 진공유지 및 실시간 얼라인이 가능한 소형 전자빔 장치
2 2
제1항에 있어서,상기 메인챔버는 상기 스테이지를 이송시키는 이송유닛을 더 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 진공유지 및 실시간 얼라인이 가능한 소형 전자빔 장치
3 3
제2항에 있어서,상기 이송유닛은,상기 스테이지를 수평으로 이송가능한 수평이송부를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 진공유지 및 실시간 얼라인이 가능한 소형 전자빔 장치
4 4
제2항에 있어서,상기 이송유닛은,상기 스테이지를 수직으로 이송가능한 수직이송부를 더 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 진공유지 및 실시간 얼라인이 가능한 소형 전자빔 장치
5 5
삭제
6 6
삭제
7 7
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.